專利名稱：基板處理裝置及基板處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及向被處理基板上供給處理液而進行規(guī)定的處理的基板處理技術(shù)，特別是涉及在以平流方式沿水平方向輸送基板的同時、進行液處理的基板處理裝置及基板處理 方法。
背景技術(shù)：
近年來，在IXD (液晶顯示器)制造中的抗蝕劑涂敷顯影處理系統(tǒng)中，作為能夠有 利地應(yīng)對LCD用基板(例如玻璃基板)的大型化的顯影方式，普及有在沿水平方向鋪設(shè)有 滾輪的輸送路徑上輸送基板的同時、進行顯影、沖洗(rinse)、烘干等一連串的顯影處理工 序的、所謂的平流方式。與使基板旋轉(zhuǎn)運動的旋轉(zhuǎn)器方式相比，這樣的平流方式具有對大型 基板的處理較簡單、不會產(chǎn)生霧沫且很少再次附著于基板等優(yōu)點。但是，在采用上述平流方式的顯影處理工序中，在用沖洗液(通常為純水)替換基 板上的顯影液時，若從除去顯影液到供給沖洗液為止的時間過長，則存在基板表面內(nèi)產(chǎn)生 外觀上的差異(稱作顯影斑)這樣的問題。對于該問題，本案申請人在專利文獻1中公開了在平流輸送基板的同時實施顯影 處理、在進行沖洗處理的沖洗部將輸送滾輪傾斜配置為山形狀而成的顯影單元。圖6表示專利文獻1中公開的顯影單元中的沖洗部200的構(gòu)造。圖6(a)是沖洗 部200的俯視圖，圖6(b)是其側(cè)視圖。在圖示的沖洗部200的構(gòu)造中，設(shè)有鋪設(shè)有多個輸送滾輪201的山形狀的輸送路 徑202。在前處理中，盛有顯影液D的基板G從平坦的輸送路徑202的區(qū)間Ml依次向成為 上升斜面的區(qū)間M2中輸送時，基板G上的顯影液D向后方(輸送方向上游)流下?；錑 在山形狀的輸送路徑202中進入到下降區(qū)間M 3中時，自配置在上方的沿基板寬度方向延 伸的沖洗液供給噴嘴203向基板G上供給純水等沖洗液S。由此，在基板G通過區(qū)間M3、M4 的期間，顯影液D被替換為沖洗液S。采用這樣在專利文獻1中公開的沖洗部200，利用輸送滾輪201在構(gòu)成為山形狀的 輸送路徑202中輸送基板的同時、使基板上的顯影液D流下而回收，之后，向基板上供給沖 洗液S而將顯影液D替換為沖洗液S。專利文獻1 日本特開2007-5695號公報在上述沖洗部200中，為了使基板上的顯影液D高效地流下而提高顯影液D的回 收率，以山形狀的輸送路徑202的臺階(高度差)變大的方式配置輸送滾輪201。但是，在這樣地增大山形狀的輸送路徑202的臺階時，如圖6(a)的俯視圖所示，在 基板G的隆起部Ga的稍靠跟前(上游側(cè))，在流下的顯影液D中產(chǎn)生條狀的部分L，存在其 導(dǎo)致產(chǎn)生顯影斑這樣的問題。另外，在圖6所示的構(gòu)造的沖洗部200中，為了使沖洗液S不會流到輸送路徑的上 游側(cè)(區(qū)間M1、M2側(cè))，需要將沖洗噴嘴203自基板G的隆起部Ga向下游側(cè)分開一定程度 地配置。因此，在基板上液體斷流的區(qū)域在基板輸送方向上的距離d變大且直到供給沖洗液S會花費時間，因此，其有可能導(dǎo)致顯影斑。另外，作為抑制在將基板上的顯影液D替換為沖洗液S時產(chǎn)生斑的另一解決方法， 一般考慮如圖7(a)的俯視圖及圖7(b)的側(cè)視圖所示地在沖洗部200中水平地構(gòu)成輸送路 徑202、利用吹拂器204向基板上吹噴簾幕狀的氣流而除去顯影液D的方法。但是，在這樣的構(gòu)造的情況下，自吹拂器204噴出的空氣需要朝向輸送路徑的上 游側(cè)，因此，顯影液D的液面起波紋，受其影響存在基板G產(chǎn)生微小的顯影斑這樣的問題。另外，利用自吹拂器204噴出的空氣能夠高效地除去基板上的顯影液D，但是與圖 6的構(gòu)造同樣，如圖7(a)所示，在基板上液體斷流的區(qū)域在基板輸送方向上的距離d變大， 直到供給沖洗液S會花費時間，因此，存在其導(dǎo)致產(chǎn)生顯影斑這樣的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明即是鑒于上述以往技術(shù)的問題點而做成，其目的在于提供能夠高效且順暢 地進行分別回收在平流的輸送流水線上供給到被處理基板的第1處理液而將其替換為第2 處理液的動作、抑制產(chǎn)生顯影斑的基板處理裝置及基板處理方法。為了解決上述課題，本發(fā)明的基板處理裝置向被處理基板供給第1處理液而實施 規(guī)定的液處理，回收上述第1處理液而利用第2處理液對上述被處理基板進行清洗，其特 征在于，包括基板輸送路徑，其以平流方式輸送上述被處理基板；第1處理液供給部件，向 在上述基板輸送路徑中輸送的上述被處理基板供給第1處理液；氣體供給部件，其朝向鉛 垂方向至輸送方向下游側(cè)中的任一方向，向在上述基板輸送路徑中輸送的、被供給上述第1 處理液后的上述被處理基板的基板表面吹規(guī)定的氣流；第1沖洗液供給部件，其以規(guī)定的 流速向在上述基板輸送路徑中輸送的、被上述氣體供給部件吹過氣流后的上述被處理基板 的基板表面供給上述第2處理液；第2沖洗液供給部件，以比上述第1沖洗液供給部件高的 流速向被供給上述第2處理液后的、在上述基板輸送路徑中輸送的上述被處理基板的基板 表面供給上述第2處理液。采用該構(gòu)造，在回收上述第1處理液時，利用氣體供給部件朝向基板輸送方向(下 游側(cè))地向被供給第1處理液后的、被平流輸送的基板吹出規(guī)定的氣流。由此，自基板除去 的第1處理液的前端部(上游側(cè))被拖長。然后，對于除去了第1處理液的基板表面，立即利用第1沖洗液供給部件以規(guī)定的 流速(優(yōu)選為供給時的拍擊(沖擊)較小的流速)供給第2處理液，并且，自第2沖洗液供 給部件以更高的流速供給第2處理液。由此，基板上的第1處理液被替換為第2處理液的 期間的液體斷流區(qū)域變微小，能夠立即將第1處理液替換為第2處理液。結(jié)果，幾乎不存在像以往那樣地在作為上述第1處理液的顯影液流下而以殘留成 斑狀的狀態(tài)放置的時間，能夠抑制產(chǎn)生顯影斑。另外，由于上述氣流朝向鉛垂方向至輸送方向下游側(cè)中的任一方向吹，因此，第1 處理液也不會起波紋，也能夠抑制產(chǎn)生微小的顯影斑。還期望為，上述基板輸送路徑具有形成水平的輸送路徑的第1輸送區(qū)間、形成與 上述第1輸送區(qū)間連續(xù)的向上傾斜的輸送路徑的第2輸送區(qū)間、和形成與上述第2輸送區(qū) 間連續(xù)的向下傾斜的輸送路徑的第3輸送區(qū)間，上述第1處理液供給部件設(shè)置于上述第1 輸送區(qū)間，上述氣體供給部件設(shè)置于上述第2輸送區(qū)間，上述第1沖洗液供給部件及上述第2沖洗液供給部件配置在由上述第2輸送區(qū)間和上述第3輸送區(qū)間形成于輸送路徑的隆起 部的上方。通過這樣地構(gòu)成，能夠利用向上傾斜的第2輸送區(qū)間從基板上高效地除去第1處 理液，而且，能夠立即從第1處理液替換為第2處理液。還期望為，由上述氣體供給部件吹到上述被處理基板的基板表面上的氣流是沿基 板寬度方向以直線狀延伸的簾幕狀的氣流。通過這樣地將氣流做成沿基板寬度方向以直線狀延伸的簾幕狀，能夠抑制產(chǎn)生自 基板除去的第1處理液的前端部的基板寬度方向上的偏差。還期望為，上述第2沖洗液供給部件具有噴出上述第2處理液的沖洗 噴嘴，上述沖 洗噴嘴以對于在上述基板輸送路徑中輸送的被處理基板的基板表面、其噴出方向朝向鉛垂 方向至輸送方向下游側(cè)中的任一方向的狀態(tài)配置。通過這樣地構(gòu)成，能夠防止被供給到被處理基板的第2處理液在基板上逆流。另外，為了解決上述課題，本發(fā)明的基板處理方法向被處理基板供給第1處理液 而實施規(guī)定的液處理，回收上述第1處理液而利用第2處理液對上述被處理基板進行清洗， 其特征在于，執(zhí)行以下步驟在基板輸送路徑中以平流輸送上述被處理基板，向基板上供給 第1處理液；朝向鉛垂方向至輸送方向下游側(cè)中的任一方向，向在上述基板輸送路徑中輸 送的、被供給上述第1處理液后的上述被處理基板的基板表面吹出規(guī)定的氣流；以規(guī)定的 流速向被吹過上述規(guī)定氣流后的、在上述基板輸送路徑中輸送的上述被處理基板的基板表 面供給上述第2處理液；以更高的流速向被吹過上述第2處理液后的、在上述基板輸送路徑 中輸送的上述被處理基板的基板表面供給上述第2處理液。采用該方法，在回收上述第1處理液時，朝向基板輸送方向(下游側(cè))地向被供給 第1處理液后的、被平流輸送的基板吹規(guī)定的氣流。由此，自基板除去的第1處理液的前端 部(上游側(cè))被拖長。然后，對于除去了第1處理液的基板表面，立即以規(guī)定的流速(優(yōu)選為供給時的拍 擊較小的流速)供給第2處理液，并且，以高流速供給第2處理液。由此，基板上的第1處 理液被替換為第2處理液的期間的液體斷流區(qū)域變微小，能夠立即將第1處理液替換為第 2處理液。結(jié)果，幾乎不存在像以往那樣地作為上述第1處理液的顯影液流下而以殘留為斑 狀的狀態(tài)放置的時間，能夠抑制產(chǎn)生顯影斑。另外，由于上述氣流朝向鉛垂方向至輸送方向下游側(cè)中的任一方向吹，因此，第1 處理液也不會起波紋，也能夠抑制產(chǎn)生微小的顯影斑。還期望為，朝向鉛垂方向至輸送方向下游側(cè)中的任一方向地向被供給上述第1處 理液后的上述被處理基板的基板表面吹規(guī)定氣流的步驟是對在向上傾斜的上述基板輸送 路徑中輸送的上述被處理基板執(zhí)行的。通過這樣地構(gòu)成，能夠利用向上傾斜的第2輸送區(qū)間從基板上高效地除去第1處 理液，而且，能夠立即從第1處理液替換為第2處理液。還期望為，以上述規(guī)定的流速供給第2處理液、以更高的流速向在上述基板輸送 路徑中輸送的上述被處理基板的基板表面供給上述第2處理液的步驟是對在與上述向上 傾斜的基板輸送路徑連續(xù)的向下傾斜的基板輸送路徑中輸送的上述被處理基板執(zhí)行的。還期望為，朝向鉛垂方向至輸送方向下游側(cè)中的任一方向地向在上述基板輸送路徑中輸送的被處理基板的基板表面噴出上述第2處理液。只要這樣的構(gòu)成，就能夠防止被供給到被處理基板的第2處理液在基板上逆流。采用本發(fā)明，能夠獲得能夠高效且順暢地進行分別回收在平流的輸送流水線上供 給到被處理基板的第1處理液而將其替換為第2處理液的動作、抑制產(chǎn)生顯影斑的基板處 理裝置及基板處理方法。


圖1是示意地表示能夠應(yīng)用本發(fā)明的基板處理裝置的顯影單元(DEV)的整體構(gòu)造 的圖。圖2是表示基板通過第1隆起部的狀態(tài)的俯視圖及側(cè)視圖。圖3是更具體地表示配置于第1隆起部的吹拂器、第1沖洗噴嘴、第2沖洗噴嘴的 相互配置關(guān)系的側(cè)視圖。圖4是表示對在第1隆起部中輸送的基板替換處理液的狀態(tài)的側(cè)視圖。圖5是表示應(yīng)對圖4的處理液替換狀態(tài)的基板上的顯影液及沖洗液的狀態(tài)的俯視 圖。圖6是表示以往的沖洗部構(gòu)造的俯視圖及側(cè)視圖。圖7是表示以往的另一沖洗部構(gòu)造的俯視圖及側(cè)視圖。
具體實施例方式下面，根據(jù)

本發(fā)明的基板處理裝置及基板處理方法的實施方式。本發(fā)明 的基板處理裝置能夠應(yīng)用于例如將LCD用的玻璃基板作為被處理基板(以下稱作基板)、 在LCD制造工藝中進行光刻工序中的清洗、抗蝕劑涂敷、預(yù)烘焙、顯影及后烘焙等各處理的 涂敷顯影處理系統(tǒng)的一部分構(gòu)造。具體地講，能夠應(yīng)用于在基板上涂敷光致抗蝕劑、對借助掩模圖案實施了曝光處 理后的基板實施顯影及沖洗處理的顯影單元(DEV)。下面，參照

將本發(fā)明應(yīng)用于顯 影單元(DEV)的一個實施方式。圖1示意地表示該實施方式的顯影單元(DEV) 1的整體構(gòu)造。如圖所示，該顯影單 元(DEV)I沿著工藝流水線A設(shè)有沿水平方向(X方向)延伸的平流的輸送流水線2 (基板 輸送路徑)，沿著該輸送流水線2自上游側(cè)按順序設(shè)有顯影部3、沖洗部4及烘干部5。輸送流水線2沿著輸送方向(X方向)以恒定間隔(例如IOOmm間隔)鋪設(shè)滾輪 6(輸送體)，該滾輪6用于將基板G做成使基板G的被處理面向上的仰起的姿態(tài)(所謂的 平流方式)而以規(guī)定速度(例如60mm/s)輸送基板G，各滾輪6例如通過齒輪機構(gòu)或傳送帶 機構(gòu)等傳動機構(gòu)連接于具有電動機的輸送驅(qū)動部(未圖示)。該輸送流水線2在輸送方向(X方向)上從起點到終點并不是在相同的高度位置 連續(xù)，而是在途中的規(guī)定部位具有利用滾輪6的配置隆起形成的第1隆起部2a、第2隆起部 2b及臺階部2c。如圖1所示，輸送流水線2根據(jù)從輸送方向(X方向)的一側(cè)看到的輸送 路徑的形狀，能夠被區(qū)分為9個輸送區(qū)間Ml、M2、M3、M4、M5、M6、M7、M8、M9。第1輸送區(qū)間Ml是從前段的處理部到設(shè)定在相對于顯影部3內(nèi)的出口稍靠前(上游側(cè))的位置的第1區(qū)間變更點Pi為止的區(qū)間，具有在保持規(guī)定的高度位置(作為第1底 部位置)的狀態(tài)下、大致沿著水平一條直線延伸的水平輸送路徑。第2輸送區(qū)間M2是從上述第1區(qū)間變更點Pl到設(shè)定在顯影部3與沖洗部4的邊 界附近位置的第2區(qū)間變更點P2為止的區(qū)間，以輸送路徑的高度逐漸變高的方式配置滾輪 6。由此，第2輸送區(qū)間M2具有直到比區(qū)間變更點Pl的高度位置高出規(guī)定量(例如6mm) 的第1隆起部2a的頂上為止、以規(guī)定的傾斜角上升的向上傾斜的輸送路徑。第3輸送區(qū)間M3是從上述第2區(qū)間變更點P2到設(shè)定在沖洗部4的入口附近的第 3區(qū)間變更點P3為止的區(qū)間，以輸送路徑的高度逐漸變低的方式配置滾輪6。由此，具有從 上述第1隆起部2a的頂上到比其低規(guī)定量(例如6mm)的第1底部位置為止、以規(guī)定的傾 斜角下降的向下傾斜的輸送路徑。第4輸送區(qū)間M4是在沖洗部4內(nèi)從入口附近的上述第3區(qū)間變更點P3到設(shè)定在 內(nèi)部規(guī)定位置的第4區(qū)間變更點P4為止的區(qū)間，具有在與上述第1底部位置相同的高度大 致沿水平一條直線延伸的水平輸送路徑。第5輸送區(qū)間M5是在沖洗部4內(nèi)從上述第4區(qū)間變更點P4到設(shè)定在相對于該點 位于下游側(cè)規(guī)定距離的位置的第5區(qū)間變更點P5為止的區(qū)間，具有直到比第1底部位置高 出規(guī)定量(例如10 25mm)的第2隆起部2b的頂點為止、以規(guī)定的傾斜角上升的向上傾 斜的輸送路徑。第6輸送區(qū)間M6是在沖洗部4內(nèi)從上述第5區(qū)間變更點P5到設(shè)定在相對于該點 位于下游側(cè)規(guī)定距離的位置的第6區(qū)間變更點P6為止的區(qū)間，具有從第2隆起部2b的頂 上到比其低規(guī)定量(例如10 25mm)的位置(作為第2底部位置)為止、以規(guī)定的傾斜角 下降的向下傾斜的輸送路徑。第7輸送區(qū)間M7是在沖洗部4內(nèi)從上述第6區(qū)間變更點P6到設(shè)定在相對于該點 位于下游側(cè)規(guī)定距離的位置、即相對于沖洗部4的出口稍靠前(上游側(cè))位置的第7區(qū)間 變更點P7為止的區(qū)間，具有在與上述第2底部位置相同的高度大致沿水平一條直線延伸的 水平輸送路徑。第8輸送區(qū)間M8是從上述第7區(qū)間變更點P7到設(shè)定在沖洗部4與烘干部5的邊 界附近的第8區(qū)間變更點P8為止的區(qū)間，具有直到比上述第2底部位置高出規(guī)定量(例如 4 25mm)的臺階部2c的上段位置為止、以規(guī)定的傾斜角上升的向上傾斜的輸送路徑。第9輸送區(qū)間M9是從上述第8區(qū)間變更點P8到烘干部5及后段的處理部為止的 空間，具有在將上述臺階部2c的上段位置的高度保持恒定的狀態(tài)下、沿著水平一條直線延 伸的水平輸送路徑。另外，在顯影部3中，在第1輸送區(qū)間Ml內(nèi)的規(guī)定位置配置有作為第1處理液供 給部件的顯影液供給噴嘴(以下稱作顯影噴嘴)9，該顯影噴嘴9朝向利用滾輪輸送在輸送 流水線2上移動的水平姿態(tài)的基板G、從上方噴出基準(zhǔn)濃度的顯影液(第1處理液)。顯影 噴嘴9由具有沿基板寬度方向延伸的、例如狹縫狀的噴出口或者配置成1列的許多個微細 直徑噴出口的縱長型的噴嘴構(gòu)成，從未圖示的顯影液供給源通過配管供給顯影液。在顯影部3內(nèi)設(shè)有用于收集滴落到輸送流水線2之下的顯影液的盤10。該盤10 的排液口通過排液管11與顯影液再利用機構(gòu)12相連通。利用顯影噴嘴9在基板G上盛裝 顯影液時，顯影液再利用機構(gòu)12借助盤10及排液管11回收滴落的顯影液，向回收的顯影液中添加原液、溶劑，將調(diào)整為基準(zhǔn)濃度的循環(huán)利用的顯影液輸送到上述顯影液供給源。另外，在顯影部3的出口附近的第2輸送區(qū)間M2中，在相對于第1隆起部2a稍靠前(上游側(cè))的上方位置設(shè)有空氣噴嘴21(氣體供給部件)，該空氣噴嘴21朝向鉛垂方向 乃至輸送方向下游側(cè)中的任一方向噴出規(guī)定的氣流、具體地講是沿著基板寬度方向以直線 狀延伸的簾幕狀的氣流。利用該氣幕狀的氣流將在基板傾斜面中流下而成為薄膜狀的顯影 液拖長到上述第1隆起部2a附近，使基板G上的液體斷流區(qū)域微小。另外，在顯影部3與沖洗部4之間、即由上述第2輸送區(qū)間與第3輸送區(qū)間形成的 上述第1隆起部2a的上方配置有第1沖洗噴嘴22 (第1沖洗液供給部件)，該第1沖洗噴 嘴22用于以低流速、即噴出時的拍擊(沖擊)變小的流速立即向流下了顯影液的基板G上 供給純水等沖洗液(第2處理液)。另外，自該第1沖洗噴嘴22供給的沖洗液被由上述空氣噴嘴21形成的氣幕阻擋， 使得不會在第2輸送區(qū)間M2中向輸送方向相反側(cè)流下。另外，在第3輸送區(qū)間M3中配置有第2沖洗噴嘴23 (第2沖洗液供給部件)，該 第2沖洗噴嘴23以比上述沖洗噴嘴22高的流速、即噴出時的拍擊變得更大的流速供給液 體替換(顯影停止)用的沖洗液。另外，在中心部的第5輸送區(qū)間M5內(nèi)的規(guī)定位置沿著輸送方向配置有第3沖洗噴 嘴24，該第3沖洗噴嘴24從上方朝向在輸送流水線2的上述第2隆起部2b的向上斜面中 通過的基板G噴出清洗用的沖洗液。另外，在其下游側(cè)附近的第6輸送區(qū)間M6內(nèi)的規(guī)定位置沿著輸送方向配置有第4 沖洗噴嘴25，該第4沖洗噴嘴25從上方朝向在輸送流水線2的第2隆起部2b的向下斜面 中通過的基板G噴出修飾清洗用的沖洗液。并且，在出口附近，在第8輸送區(qū)間M8內(nèi)的規(guī)定位置沿著輸送方向配置有第5沖 洗噴嘴26，該第5沖洗噴嘴26從上方朝向在輸送流水線2的上升臺階部2c中上升的基板 G噴出最終清洗用的沖洗液。各沖洗噴嘴22 26由具有與上述顯影液噴嘴9同樣的構(gòu)造 的縱長型噴嘴構(gòu)成，從未圖示的沖洗液供給源通過配管供給沖洗液。在沖洗部4內(nèi)設(shè)有用于收集滴落到輸送流水線2之下的沖洗液的盤17。該盤17 的排液口通過排液管18與沖洗液回收部(未圖示)相連通。雖省略圖示，但也可以設(shè)置從 輸送流水線2之下向基板G的下表面噴射清洗用的沖洗液的下部沖洗噴嘴。在烘干部5中，在第9輸送區(qū)間M9的起始端附近的規(guī)定位置沿著輸送方向配置有 1根或多根縱長型的氣體噴嘴或吹拂器20，該縱長型的氣體噴嘴或吹拂器20從上方朝向剛 剛上到輸送流水線2的上述臺階部2c上之后的基板G、沿與輸送方向相反的朝向吹液體斷 流或烘干用的高壓氣流(通常為空氣流)。也可以設(shè)置從輸送流水線2之下朝向基板G的 下表面吹液體斷流或烘干用的高壓氣流的下部吹拂器(未圖示)。另外，也可以在烘干部5 內(nèi)設(shè)置用于收集滴落到輸送流水線2之下的盤(未圖示)。另外，顯影單元(DEV) 1在一體的外殼30內(nèi)收容顯影部3、沖洗部4及烘干部5，在 不同的處理部之間的邊界設(shè)置用于將沿著輸送流水線2的周圍空間分隔為上游側(cè)和下游 側(cè)的、沿鉛垂方向延伸的分隔壁30a、30b。更詳細地講，在顯影部3與沖洗部4的邊界、即第 2輸送區(qū)間M2與第3輸送區(qū)間M3的邊界附近設(shè)有分隔壁30a，在沖洗部4與烘干部5的邊 界、即第8輸送區(qū)間M8與第9輸送區(qū)間M9的邊界附近設(shè)有分隔壁30b。在各分隔壁30a、30b中分別形成有供輸送流水線2通過的開口 31、32。另外，在該顯影單元(DEV) 1中，各處理部3、4、5內(nèi)的空間通過分隔壁30a、30b的 開口 31、32相互連通。在顯影部3及烘干部5中，利用用于吸入室外空氣的風(fēng)扇33、34、和 對來自這些風(fēng)扇33、34的空氣流進行除塵的空氣過濾器35、36，從頂棚以下降流向室內(nèi)供 給清潔的空氣。其中，自顯影部3的頂棚供給的清潔空氣卷入在顯影處理時產(chǎn)生的顯影液 的霧沫，通過上述分隔壁30a的開口 31流入到?jīng)_洗部4的室內(nèi)。另一方面，自烘干部5的頂棚供給的清潔空氣卷入在烘干(液體斷流)處理中產(chǎn) 生的沖洗液的霧沫，通過上述分隔壁30b的開口 32流入到?jīng)_洗部4的室內(nèi)。在沖洗部4的 底部設(shè)有排氣口 38，該排氣口 38例如與具有排氣泵或排氣風(fēng)扇的排氣機構(gòu)37相通。如上所述地從顯影部3側(cè)流進來的混有霧沫的空氣、和從烘干部5側(cè)流進來的混 有霧沫的空氣也卷入在沖洗部4內(nèi)產(chǎn)生的霧沫，從左右合流而從排氣口 38被排出。接著，更加詳細地說明第2輸送區(qū)間M2及第3輸送區(qū)間中的液處理的構(gòu)造。圖2 (a)是表示在由輸送區(qū)間M2、M3形成的第1隆起部2a通過的基板G的狀態(tài)的 俯視圖，圖2(b)是其側(cè)視圖。另外，圖3是更加具體地表示配置于上述輸送區(qū)間M2、M3的 吹拂器21、第1沖洗噴嘴22、第2沖洗噴嘴23的相互的配置關(guān)系的俯視圖。如圖2所示，在第1隆起部2a中，沿基板寬度方向延伸的縱長型的吹拂器21、第1 沖洗噴嘴22、第2沖洗噴嘴23沿著基板輸送方向按順序配置。上述吹拂器21為了對在向上傾斜的輸送區(qū)間M2中輸送的基板G、朝向鉛垂方向至 輸送方向下游側(cè)中的任一方向噴出規(guī)定的高壓氣流而配置在距基板面高出例如5 15mm 的高度位置。即，如圖3所示，吹拂器21在輸送區(qū)間M2的上方、以其噴射方向為將垂直下 方(鉛垂方向)作為0°地向下游側(cè)傾斜規(guī)定角度θ 1(例如0° 10° )的狀態(tài)設(shè)置。具體地講，利用該吹拂器21，將沿基板寬度方向以直線狀延伸的簾幕狀的高壓氣 流朝向基板輸送方向(下游側(cè))、以規(guī)定流量(例如300 5001/min)噴出到自基板G流下 的顯影液D的前端部分。由此，流下到基板后方(上游側(cè))的顯影液D不會成為條狀，薄膜 的狀態(tài)被拖長到基板隆起部Ga附近。另外，通過朝向基板輸送方向(下游側(cè))噴出上述氣流，防止顯影液D的波紋，抑 制產(chǎn)生微小的顯影斑。另外，配置在基板隆起部Ga附近的第1沖洗噴嘴22以低流速(例如0. 0247
0.074m/s)立即向在基板后方(上游側(cè))流下有顯影液D的基板上噴出供給沖洗液S，為了 極力減小在基板上液體斷流的區(qū)域而設(shè)置第1沖洗噴嘴22。該第1沖洗噴嘴22配置在距 基板面高出例如2mm的高度，其噴出方向朝向大致鉛垂下方(將鉛垂下方作為0°而傾斜 士 10° )。另外，配置于輸送區(qū)間M 3的第2沖洗噴嘴23是用于以更高的流速(例如
1.7581m/s)向在作為向下斜面的輸送區(qū)間M3中輸送的基板G噴出供給沖洗液S、將顯影液 D完全替換為沖洗液S的噴嘴。該第2沖洗噴嘴23配置在例如距基板面高出10 30mm的 高度，其噴出方向配置為基板輸送方向(下游側(cè))。即，如圖3所示，沖洗噴嘴23在輸送區(qū) 間M3的上方、以其噴射方向為將垂直下方(鉛垂方向)作為0°地向下游側(cè)傾斜規(guī)定角度 0 2(例如0° 70° )的狀態(tài)設(shè)置。另外，在第2輸送區(qū)間M2和第3輸送區(qū)間M3中，用于構(gòu)成第1隆起部2a的輸送滾輪6例如圖3所示地配置。即，若將在第1隆起部2a中最低位置的輸送滾輪6的高度設(shè) 為Omm，則形成有基板隆起部Ga的最高位置的輸送滾輪6例如為0 9mm(優(yōu)選為6mm)的 高度。該高度期望設(shè)定為小于以往高低差被設(shè)定得較大的隆起部臺階的高度，由此，抑制產(chǎn) 生以條狀流下的顯影液，利用從吹拂器21吹出的氣流，能夠易于將顯影液D拖得較薄。另外，在基板G上，由吹拂器21噴出的氣流的供給位置、與第1沖洗噴嘴22的沖洗液供給位置的距離被設(shè)定為例如20 40mm(優(yōu)選為30mm)。另外，在基板G上，由吹拂 器21噴出的氣流的供給位置、與第2沖洗噴嘴23的沖洗液供給位置的距離被設(shè)定為例如 150 350mm (優(yōu)選為 200mm)。接著，適當(dāng)?shù)厥褂脠D4、圖5的狀態(tài)轉(zhuǎn)變圖說明該顯影單元(DEV) 1的整體動作。另 夕卜，圖4是表示對在輸送區(qū)間M2、M3中輸送的基板G替換處理液的狀態(tài)的側(cè)視圖，圖5表示 此時基板G上的顯影液D及沖洗液S的狀態(tài)。在前處理部中搬出的基板G利用恒定速度(例如60mm/s)的滾輪輸送被搬入到顯 影單元(DEV) 1中時，首先，在顯影部3中，基板G在輸送流水線2的第1輸送區(qū)間Ml內(nèi)以 水平姿態(tài)移動的期間里，自固定的顯影噴嘴9供給顯影液D。在基板G上，從基板前端朝向 基板后端以與輸送速度相等的掃描速度盛裝顯影液D。自基板G溢出的顯影液D被收集到 盤10?；錑在如上所述地盛裝顯影液D之后，立即被輸送到形成山形狀的第1隆起部 2a的向上傾斜的第2輸送區(qū)間M2。基板G在第2輸送區(qū)間M2中輸送時，基板上的顯影液D利用重力開始向下方、即 后方移動。在此，如圖4(a)所示，自吹拂器21向在其下方通過的基板G吹出規(guī)定流量(例 如300 5001/min)的高壓氣流?；錑在吹拂器21的下方通過的期間里，簾幕狀的氣流 朝向基板輸送方向始終落在自輸送的基板G流下的顯影液D的上端部分(前端部分)。自基板G流下的顯影液D的上端部分(前端部分)利用上述氣流沿基板輸送方向 被拖長，如圖5(a)所示，顯影液D的薄膜部D2形成得較寬(另外，基板后方側(cè)(下游側(cè)) 為厚膜部Dl)。另外，該薄膜部D2的前端部分被拖長到隆起部2a頂上(基板隆起部Ga)附 近。另外，如圖4(b)所示，在基板前端到達第3輸送區(qū)間M3(第1隆起部2a)時，自第 1沖洗噴嘴22以低流速(例如0. 0247 0. 074m/s)、即噴出時的拍擊變小的流速立即向基 板G供給沖洗液Si。由此，如圖5(b)所示，在基板上，自顯影液D(薄膜部D2)的前端部分不怎么隔開 距離地形成有沖洗液S的薄膜部Si。S卩，形成在顯影液D的薄膜部D2與沖洗液S的薄膜部Sl之間的液體斷流區(qū)域E 在基板輸送方向上的寬度形成不會影響到產(chǎn)生顯影斑的微小的尺寸。為了不截斷沖洗液S，如圖4(c)所示，自第2沖洗噴嘴23以更高的流速(例如 1. 7581m/s)、即噴出時的拍擊變大的流速立即向自上述第1沖洗噴嘴22供給有沖洗液Sl 的基板G供給沖洗液S2。由此，如圖5(c)所示，與沖洗液S的薄膜部Sl連續(xù)地形成有厚膜 部S2。隨著基板G這樣地從第2輸送區(qū)間M2被輸送到第3輸送區(qū)間M3，基板上的顯影 液D被替換為沖洗液S。S卩，在如圖4(d)所示地整個基板G被輸送至第3輸送區(qū)間M3的時刻，如圖5 (d)所示，基板G的上表面全部被替換為沖洗液S2，顯影停止。另外，流下到基板G的前方的顯影液及沖洗液被收集到盤17中。在這樣地將基板G上的處理液從顯影液D替換為沖洗液S的處理中，利用從吹拂 器21吹出的氣幕狀的氣流，在基板傾斜面中流下而成為薄膜狀的顯影液D拖長到基板隆起 部Ga附近，立即利用第1沖洗噴嘴22向基板隆起部Ga附近供給沖洗液S。因此，基板G上 的液體斷流區(qū)域變微小，幾乎不空出時間就能夠?qū)⒒迳系娘@影液D替換為沖洗液S。并且，利用上述氣幕狀的氣流，自第1沖洗噴嘴22供給的沖洗液S不會流下到輸 送方向相反側(cè)(第2輸送區(qū)間M2)地被阻擋，因此，能夠做成顯影液D與沖洗液S幾乎不混 合的狀態(tài)。因而，幾乎不存在像以往那樣地顯影液D流下而以殘留為斑狀的狀態(tài)放置的時 間，能夠抑制產(chǎn)生顯影斑。另外，由于自吹拂器21噴射的氣幕狀的氣流朝向基板輸送方向(下游側(cè))，因此， 顯影液D也不會起波紋，能夠抑制產(chǎn)生微小的顯影斑。完成了顯影處理的基板G通過水平的第4輸送區(qū)間M4，在接下來的第5輸送區(qū)間 M5中，在第2隆起部2b的向上傾斜路徑中上升。此時，殘留在基板G上的替換用的沖洗液 利用重力從基板前端側(cè)向后方移動而從基板后端流下。并且，自上方的沖洗噴嘴24向基板 G上供給一次清洗用的沖洗液，在驅(qū)趕出陳舊的沖洗液的同時、該新的沖洗液也從基板后端 流下。流下到基板后方的沖洗液被收集到盤17中。這樣，越過第2隆起部2b的頂點的 基板G在一次清洗用的沖洗液以較薄的液膜殘留在基板G的上表面的狀態(tài)下，到達第2隆 起部2b的向下傾斜路徑(第6輸送區(qū)間M6)。接著，基板G在第2隆起部2b的向下傾斜路徑(M6)中下降時，利用上方的沖洗噴 嘴25向基板G上供給二次清洗用的新的沖洗液，在將較薄地殘留在基板G上的一次清洗液 驅(qū)趕到前方的同時、新的沖洗液也從基板前端流下。流下到基板G的前方的沖洗液被收集 到盤17中。如上所述地完成了沖洗處理的基板G通過水平的第7輸送區(qū)間M7，在接下來的第 8輸送區(qū)間M8中，在上升臺階部2c的傾斜路徑中上升。此時，殘留在基板G上的修飾用沖 洗液利用重力從基板前端側(cè)向后方移動而從基板后端流下。并且，自上方的沖洗噴嘴26向 基板G上供給最終清洗用的沖洗液，在驅(qū)趕出陳舊的沖洗液的同時、該新的沖洗液也從基 板后端流下。流下到基板G后方的沖洗液被收集到盤17中。然后，基板G在臺階部2c中上升，進入到烘干部5側(cè)、即第9輸送區(qū)間M9內(nèi)的上 升輸送路徑時，吹拂器21與輸送方向反向地向基板G吹出高壓氣流，從而，殘留在基板G上 的沖洗液向基板后方靠近而從基板后端被驅(qū)趕出(液體斷流)。濺到基板G的后方的沖洗 液被收集到盤17中。這樣地在顯影單元(DEV)I內(nèi)完成了一連串的顯影處理工序的基板G保持原樣地 在輸送流水線2上筆直地移動而被輸送到后處理部。如上所述，采用本發(fā)明的實施方式，在回收上述顯影液D時，利用吹拂器21朝向鉛 垂方向至輸送方向下游側(cè)中的任一方向、向供給有顯影液D且被平流輸送的基板G吹出沿 基板寬度方向以直線狀延伸的氣幕狀的氣流。由此，自基板G除去的顯影液D的前端部(上游側(cè))被拖長。然后，對于除去了顯影液D的基板表面，利用第1沖洗噴嘴22以低流速(噴出時的拍擊較小的流速)立即供給沖洗液S，并且，自第2沖洗噴嘴23以更高的流速(噴出時的 拍擊較大的流速)供給沖洗液S。由此，基板G上的顯影液D被替換為沖洗液S的期間的液 體斷流區(qū)域變微小，能夠立即將顯影液D替換為沖洗液S。結(jié)果，幾乎不存在像以往那樣地顯影液D流下而以殘留為斑的狀態(tài)放置的時間， 能夠抑制產(chǎn)生顯影斑。另外，在上述實施方式中，將上述吹拂器21、第1沖洗噴嘴22、第2沖洗噴嘴23配 置在第1隆起部2a的上方，利用第2輸送區(qū)間M2的向上傾斜，從基板上除去顯影液D，但在 本發(fā)明中，并不限定于此。例如，也可以將上述吹拂器21、第1沖洗噴嘴22、第2沖洗噴嘴23全部并列地配 置在水平的輸送路徑的上方。在這種情況下，能夠利用自吹拂器21噴射的上述氣幕狀的高 壓氣流除去基板上的顯影液。另外，在上述實施方式中，將吹拂器21和第1沖洗噴嘴22做成不同體來表示，但 也可以做成一體地構(gòu)成。另外，上述實施方式所示的各沖洗噴嘴作為沿基板寬度方向延伸的縱長型的噴嘴 來表示，但并不限定于此，也可以將分別具有微細直徑噴出口的多個噴嘴(例如噴射型的 噴嘴)沿基板寬度方向排列地構(gòu)成。另外，在上述實施方式中，以第1沖洗噴嘴22噴出時的拍擊小于第2沖洗噴嘴23 的噴出時的拍擊的方式規(guī)定噴出流速，但只要第1沖洗噴嘴22與第2沖洗噴嘴23的噴嘴 形狀相同，就也可以根據(jù)噴出流量來規(guī)定。
權(quán)利要求
一種基板處理裝置，該基板處理裝置向被處理基板供給第1處理液而實施規(guī)定的液處理，回收上述第1處理液而利用第2處理液對上述被處理基板進行清洗，其特征在于，包括基板輸送路徑，其以平流方式輸送上述被處理基板；第1處理液供給部件，向在上述基板輸送路徑中輸送的上述被處理基板供給第1處理液；氣體供給部件，其朝向鉛垂方向至輸送方向下游側(cè)中的任一方向，向在上述基板輸送路徑中輸送的、被供給上述第1處理液后的上述被處理基板的基板表面吹規(guī)定的氣流；第1沖洗液供給部件，其以規(guī)定的流速向在上述基板輸送路徑中輸送的、被上述氣體供給部件吹過氣流后的上述被處理基板的基板表面供給上述第2處理液；第2沖洗液供給部件，以比上述第1沖洗液供給部件高的流速向被供給上述第2處理液后的、在上述基板輸送路徑中輸送的上述被處理基板的基板表面供給上述第2處理液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，上述基板輸送路徑具有形成水平的輸送路徑的第1輸送區(qū)間、形成與上述第1輸送區(qū) 間連續(xù)的向上傾斜的輸送路徑的第2輸送區(qū)間、和形成與上述第2輸送區(qū)間連續(xù)的向下傾 斜的輸送路徑的第3輸送區(qū)間；上述第1處理液供給部件設(shè)置于上述第1輸送區(qū)間，上述氣體供給部件設(shè)置于上述第 2輸送區(qū)間，上述第1沖洗液供給部件及上述第2沖洗液供給部件配置在由上述第2輸送區(qū) 間和上述第3輸送區(qū)間形成于輸送路徑上的隆起部的上方。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，由上述氣體供給部件吹到上述被處理基板的基板表面上的氣流是沿基板寬度方向以 直線狀延伸的簾幕狀的氣流。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于， 上述第2沖洗液供給部件具有噴出上述第2處理液的沖洗噴嘴；上述沖洗噴嘴以對于在上述基板輸送路徑中輸送的被處理基板的基板表面、其噴出方 向朝向鉛垂方向至輸送方向下游側(cè)中的任一方向的狀態(tài)配置。
5.一種基板處理方法，該基板處理方法向被處理基板供給第1處理液而實施規(guī)定的液 處理，回收上述第1處理液而利用第2處理液對上述被處理基板進行清洗，其特征在于，執(zhí)行以下步驟在基板輸送路徑中以平流方式輸送上述被處理基板，向基板上供給第1處理液； 朝向鉛垂方向至輸送方向下游側(cè)中的任一方向，向在上述基板輸送路徑中輸送的、被 供給上述第1處理液后的上述被處理基板的基板表面吹出規(guī)定的氣流；以規(guī)定的流速向被吹過上述規(guī)定氣流后的、在上述基板輸送路徑中輸送的上述被處理 基板的基板表面供給上述第2處理液；以更高的流速向被供給上述第2處理液后的、在上述基板輸送路徑中輸送的上述被處 理基板的基板表面供給上述第2處理液。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理方法，其特征在于，朝向鉛垂方向至輸送方向下游側(cè)中的任一方向向被供給上述第1處理液后的上述被 處理基板的基板表面吹規(guī)定氣流的步驟是對在向上傾斜的上述基板輸送路徑中輸送的上述被處理基板執(zhí)行的。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理方法，其特征在于，以更高的流速向以上述規(guī)定的流速供給第2處理液后的、在上述基板輸送路徑中輸送 的上述被處理基板的基板表面供給上述第2處理液的步驟，是對在與上述向上傾斜的基板 輸送路徑連續(xù)的向下傾斜的基板輸送路徑中輸送的上述被處理基板執(zhí)行的。
8.根據(jù)權(quán)利要求5 7中任一項所述的基板處理方法，其特征在于，朝向鉛垂方向至輸送方向下游側(cè)中的任一方向向在上述基板輸送路徑中輸送的被處 理基板的基板表面噴上述第2處理液。
全文摘要
本發(fā)明提供能高效順暢地進行分別回收在平流的輸送流水線上供給到被處理基板的第1處理液而替換為第2處理液的動作、抑制產(chǎn)生顯影斑的基板處理裝置及基板處理方法。包括基板輸送路徑，以平流輸送被處理基板；第1處理液供給部件，向在基板輸送路徑中輸送的被處理基板供給第1處理液；氣體供給部件，朝向鉛垂方向至輸送方向下游側(cè)中的任一方向向在基板輸送路徑中輸送的、被供給第1處理液后的被處理基板吹規(guī)定的氣流；第1沖洗液供給部件，以規(guī)定的流速向在基板輸送路徑中輸送的、被氣體供給部件吹過的氣流后的被處理基板的基板表面供給第2處理液；第2沖洗液供給部件，以比第1沖洗液供給部件高的流速向被供給第2處理液后的、在基板輸送路徑中輸送的被處理基板供給第2處理液。
文檔編號H01L21/00GK101814424SQ20101011964
公開日2010年8月25日 申請日期2010年2月23日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月23日
發(fā)明者佐田徹也, 永田篤史, 藤原真樹 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社