專(zhuān)利名稱(chēng)：涂覆方法、涂覆設(shè)備、以及制造圖案部件的方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于形成涂覆薄膜的涂覆方法和涂覆設(shè)備，尤其涉及一種給連續(xù)行進(jìn)的織物(柔性支撐帶)涂覆多種類(lèi)型的液體復(fù)合物以形成連續(xù)的、長(zhǎng)且寬的涂覆薄膜表面的涂覆方法和涂覆設(shè)備。本發(fā)明還涉及一種利用其上已經(jīng)由上述涂覆方法和涂覆設(shè)備形成涂覆薄膜的柔性支撐帶(片)制造圖案部件的方法，尤其涉及一種用于制造適于電子顯示應(yīng)用的圖案部件的制造方法，例如，用于液晶顯示器的濾色器和用于有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)元件的像素。
背景技術(shù)：
在感光材料和磁性記錄介質(zhì)領(lǐng)域，已經(jīng)采用在連續(xù)運(yùn)動(dòng)的柔性支撐帶(下文稱(chēng)作“織物”)上涂覆特定涂覆液而形成涂覆薄膜的涂覆工藝。近年來(lái)，在這些領(lǐng)域，已經(jīng)需要能夠生產(chǎn)具有較高的厚度精度和光滑表面的非常薄的涂層薄膜的涂覆技術(shù)。
利用涂覆液涂布織物表面的涂覆設(shè)備包括，例如，輥式涂布機(jī)類(lèi)型、凹版式涂布機(jī)類(lèi)型、輥式涂布機(jī)加刮刀類(lèi)型、擠壓式涂布機(jī)類(lèi)型和滑塊式涂布機(jī)類(lèi)型。近年來(lái)，擠壓式涂布機(jī)式的涂覆設(shè)備已經(jīng)廣泛用于這些領(lǐng)域，因?yàn)樵谶@些類(lèi)型的涂覆設(shè)備中，在利用泵供給固定量的涂層液體時(shí)，可以進(jìn)行涂覆，而能夠非常容易地獲得所需的薄膜厚度。
作為電子顯示器比如用于液晶顯示器的濾光器和用于OLED元件的像素的材料，已經(jīng)使用了玻璃基底、片式基體和薄膜形成的圖案部件，其中在這些基體上已經(jīng)形成例如紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B)的任何一種顏色或三種顏色的條紋或矩陣圖案。
作為生產(chǎn)這些圖像元件的方法，已經(jīng)提出并使用了多種方法。它們包括，例如，照相平版印刷、顏料分散法、電沉積法和印刷法。然而這些方法具有優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)，在目前的情況下，生產(chǎn)商使用的是他們認(rèn)為最適當(dāng)?shù)膯我环椒ā?br> 即使使用了擠壓涂布機(jī)類(lèi)型的涂覆設(shè)備，也很難獲得均勻、大面積的、干燥后厚度為0.1μm或更小的涂覆薄膜。例如，當(dāng)使用擠壓涂布機(jī)類(lèi)型的涂覆設(shè)備時(shí)，緊接涂布所述涂覆液之后，獲得的涂覆薄膜的最小厚度約為20μm。為了獲得干燥后厚度為0.2μm或更小的涂覆薄膜，所使用的涂覆液的濃度必須低至1％，為了獲得干燥后厚度小于0.1μm或更小的涂覆薄膜，所使用的涂覆液的濃度必須低至0.5％；因此所述涂覆液應(yīng)非常稀薄。因?yàn)檫@種稀薄液體的粘度低，很難將它們均勻地涂覆并干燥涂布的涂層，達(dá)到均勻的厚度。
具有較低濃度和粘性的涂覆薄膜在干燥時(shí)非常容易受到氣流的影響，因此希望控制氣流速度，使其盡可能小，然而，如果在干燥時(shí)氣流速度非常低，將需要更多的時(shí)間干燥所述涂覆薄膜，從而導(dǎo)致生產(chǎn)率低下的問(wèn)題。
關(guān)于圖案部件的生產(chǎn)，在目前的情況下，很難使用上述用于制造圖案部件的傳統(tǒng)方法滿(mǎn)足質(zhì)量(圖案精度)和成本需求。
具體而言，照相制版法、沉積法等(例如參見(jiàn)日本專(zhuān)利申請(qǐng)公報(bào)No.2000-36385和9-204984)不僅需要很多人工和復(fù)雜的設(shè)備，而且不適用于在連續(xù)的柔性支撐件和單元上處理和大規(guī)模生產(chǎn)。
在凹版膠印法中(例如參見(jiàn)日本專(zhuān)利申請(qǐng)公報(bào)No.62-85202)，存在的問(wèn)題是在轉(zhuǎn)印時(shí)圖案成形破壞和高精度(數(shù)十微米級(jí))處理時(shí)的困難。這種方法不適于形成大面積的薄膜，而且，提供均勻油墨厚度和對(duì)準(zhǔn)精度的能力上存在問(wèn)題。
噴墨方法(例如參見(jiàn)日本專(zhuān)利申請(qǐng)公報(bào)No.10-153967)不僅具有降低孔徑比的問(wèn)題，因?yàn)樗枰指舯冢揖哂性谑褂袡C(jī)層形成多層時(shí)存在困難的問(wèn)題。而且，該方法不適于制造大面積的薄膜，且其提供均勻油墨厚度的能力上存在問(wèn)題。
凸版染色工藝、顏料散布法和電沉積法都存在需要大量工時(shí)的問(wèn)題，因此，不適于大批量生產(chǎn)。
轉(zhuǎn)印方法(例如參見(jiàn)日本專(zhuān)利申請(qǐng)公報(bào)No.2000-246866)是用于將已經(jīng)在薄膜上形成的圖案轉(zhuǎn)印到玻璃基底等上的技術(shù)；然而，該方法不能將圖案轉(zhuǎn)印到連續(xù)薄膜形式的基底上。
轉(zhuǎn)印方法的其他形式(例如參見(jiàn)日本專(zhuān)利申請(qǐng)公報(bào)No.8-171008)包括，例如，在連續(xù)薄膜形式的基底上轉(zhuǎn)印圖案。然而，這種技術(shù)是首先將顏色集薄膜轉(zhuǎn)印到版表面，然后轉(zhuǎn)印到薄膜形式的基底上。因此，該技術(shù)需要重復(fù)轉(zhuǎn)印工藝，而導(dǎo)致例如低產(chǎn)量和圖案附著力變化的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明根據(jù)上述情況作出。因此，本發(fā)明的目的是提供一種用于在通過(guò)涂覆頭的狹縫供給涂覆液時(shí)，在離所述涂覆頭固定距離處連續(xù)輸送的柔性支撐帶(織物)上形成特定厚度的涂覆薄膜的涂覆方法和涂覆設(shè)備，所述方法和設(shè)備能夠生產(chǎn)具有較高厚度精度和平滑表面的非常薄的薄膜。
本發(fā)明的另一目的是提供一種用于制造圖案部件的方法，該圖案部件包括基底和多種不同材料在基底上形成的的圖案，所述方法能提高生產(chǎn)率和生產(chǎn)質(zhì)量(圖案精度)。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種用于在通過(guò)涂覆頭的狹縫供給涂覆液時(shí)，在離所述涂覆頭固定距離處連續(xù)輸送的柔性支撐帶(織物)上形成特定厚度的涂覆薄膜，隨后干燥在所述基底帶上形成涂覆薄膜的涂覆方法，所述方法特征在于緊接涂布了涂覆液之后，涂覆薄膜的厚度設(shè)為2至40μm，涂覆薄膜表面上的相對(duì)氣流速度設(shè)為0.2m/sec或更小，直到涂覆液的粘度變?yōu)?00mPa.s；以及裝有上述方法中使用的干燥裝置的涂覆設(shè)備。
根據(jù)本發(fā)明，因?yàn)榫o接涂布了涂覆液之后涂覆薄膜的厚度保持在適當(dāng)范圍內(nèi)，且涂覆薄膜表面的相對(duì)氣流速度保持在0.2m/sec或更小，直到涂覆液的粘度變?yōu)樘囟ㄖ?，所以可以獲得具有較高厚度精度和平滑表面的非常薄的薄膜。
在重復(fù)進(jìn)行集中研究后，本發(fā)明的發(fā)明人注意到緊接涂覆液涂布在織物上之后涂覆液的干燥狀況，直到其粘度變?yōu)橐欢ㄖ担以诎l(fā)明人發(fā)現(xiàn)如何保持干燥條件最佳時(shí)完成本發(fā)明。為了保持最佳的條件，必須介紹防止氣流的干燥裝置。
“涂覆薄膜表面上的相對(duì)氣流”在本說(shuō)明書(shū)中規(guī)定的原因是，即使干燥裝置內(nèi)的氣流速度保持在0.2m/sec或更小，涂覆薄膜表面和氣流之間的相對(duì)氣流速度可以為0.2m/sec或更大，這取決于柔性支撐帶的輸送速度。具體而言，即使干燥裝置內(nèi)的氣流速度保持為0，當(dāng)柔性支撐帶的輸送速度為0.2m/sec時(shí)，涂覆薄膜表面的相對(duì)氣流速度為0.2m/sec。
雖然現(xiàn)在已經(jīng)提出了多種用低粘度液體涂覆織物的技術(shù)，但沒(méi)有一種實(shí)現(xiàn)了等效于本發(fā)明的原理和優(yōu)點(diǎn)。例如，日本專(zhuān)利申請(qǐng)公報(bào)No.2000-157923中提出的技術(shù)規(guī)定了織物進(jìn)入干燥區(qū)之前的氣流速度，然而，沒(méi)有提及其他的干燥條件，它不同于本發(fā)明。
而且，日本專(zhuān)利申請(qǐng)公報(bào)No.2000-329463中提出的技術(shù)與本發(fā)明的共同之處在于規(guī)定了涂布了涂覆液之后固定時(shí)間內(nèi)的氣流速度；然而，它規(guī)定了涂布涂覆液之后的涂覆薄膜的厚度為50μm或更大，而不同于本發(fā)明。
日本專(zhuān)利申請(qǐng)公報(bào)No.10-68587提出的技術(shù)僅規(guī)定了干燥空氣的氣流方向，因此與本發(fā)明不同。
本發(fā)明提供了一種用于在通過(guò)涂覆頭的狹縫供給涂覆液時(shí)，在離所述涂覆頭固定距離處連續(xù)輸送的柔性支撐帶(織物)上形成特定厚度的涂覆薄膜，隨后干燥在所述基底帶上形成涂覆薄膜的涂覆方法，所述方法特征在于涂覆頭狹縫的涂覆液的平均流速設(shè)為100至500mm/sec，緊接涂布了涂覆液之后涂覆薄膜的厚度設(shè)為2至40μm，在涂布了涂覆液之后0.5秒內(nèi)柔性支撐帶保持在水平位置；以及上述方法中使用的涂覆設(shè)備。
根據(jù)本發(fā)明，因?yàn)橥扛差^狹縫的涂覆液的平均流速保持在適當(dāng)范圍內(nèi)，且在涂布了涂覆液之后很短時(shí)間內(nèi)織物處于水平位置，所以可以獲得具有較高的厚度精度和平滑表面的非常薄的薄膜。
在重復(fù)進(jìn)行集中研究之后，本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，如果涂覆頭的狹縫的涂覆液的平均流速不能令人滿(mǎn)意地高，那么涂覆液不能沿織物的寬度方向均勻流動(dòng)，如果平均流速過(guò)高，涂覆液以從涂覆頭的狹縫噴出的方式供給，那么涂覆液不能穩(wěn)定地流動(dòng)。
而且，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，如果緊接在織物上涂布了涂覆液之后直到織物保持在水平位置的經(jīng)過(guò)時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，則涂布在織物上的液體流動(dòng)，導(dǎo)致涂覆不均勻。
雖然現(xiàn)在已經(jīng)提出了多種用低粘度液體涂覆織物的技術(shù)，但沒(méi)有一種實(shí)現(xiàn)了等效于本發(fā)明的原理和優(yōu)點(diǎn)。例如，日本專(zhuān)利申請(qǐng)公報(bào)No.10-290946和11-207230提出的技術(shù)是使涂覆頭的狹縫間隔非常窄，而使以涂覆液從狹縫噴出的方式進(jìn)行涂覆。利用這些技術(shù)，涂覆液不能穩(wěn)定地流動(dòng)，難以獲得均勻厚度的涂覆薄膜。這些技術(shù)的目的是防止外界物質(zhì)進(jìn)入涂覆薄膜；在這方面，它們與本發(fā)明不同。
日本專(zhuān)利申請(qǐng)公報(bào)No.2001-906中提出的技術(shù)規(guī)定了涂覆頭內(nèi)部的形狀，從而在從涂覆頭側(cè)面供給涂覆液時(shí)限制慣性力，且涂覆液可以沿織物的寬度方向均勻地流動(dòng)。這在目的和原理上與本發(fā)明不同。
涂覆頭狹縫中的涂覆液的平均流速可以通過(guò)供給到涂覆頭的涂覆液流量除以狹縫的截面積而得到。
在本發(fā)明中，涂覆液的粘度最好為10mPa·s或更小。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在使用具有低粘度的涂覆液時(shí)明顯。
在本發(fā)明中，涂覆液最好含有有機(jī)溶劑。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在使用含有有機(jī)溶劑的涂覆液時(shí)明顯。
在本發(fā)明中，干燥之后涂覆薄膜的厚度最好為0.01至0.4μm。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在用于形成干燥之后厚度非常薄的涂覆薄膜的涂覆方法中明顯。
在本發(fā)明中，干燥裝置最好包括加熱器加熱干燥裝置、輥?zhàn)蛹訜岣稍镅b置、真空干燥裝置和低濕度環(huán)境干燥裝置中的至少一種。利用這些干燥裝置，可以獲得滿(mǎn)意的干燥速度，即使涂覆薄膜表面上的相對(duì)氣流速度保持在規(guī)定范圍內(nèi)。
本發(fā)明提供了一種利用上有已經(jīng)通過(guò)上述涂覆方法形成的相應(yīng)涂覆薄膜的柔性支撐帶制造圖案部件的方法，其中多種不同種類(lèi)的材料在基底上形成圖案，所述方法特征在于它包括在為所述材料制備的相應(yīng)柔性支撐帶上涂布不同種類(lèi)材料的步驟；干燥已經(jīng)涂布了相應(yīng)材料的柔性支撐帶的步驟；對(duì)每種材料重復(fù)進(jìn)行以已經(jīng)涂布在支撐帶上的材料與所述基底相對(duì)的方式將柔性支撐帶之一疊加在基底上、并利用推板從其背面頂推柔性支撐帶以使所述材料以圖案方式轉(zhuǎn)印到基底上的操作的步驟，從而使多種不同種類(lèi)材料在基底上形成圖案。
根據(jù)本發(fā)明，首先，許多不同種類(lèi)的材料(R、G和B)涂布在用于紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B)的相應(yīng)柔性支撐帶(轉(zhuǎn)印片)上，并干燥轉(zhuǎn)印片。然后，如果以所述薄片上的材料與所述基底相對(duì)的方式在將成為產(chǎn)品的基底上疊加一層轉(zhuǎn)印片，并利用推板從背面頂推轉(zhuǎn)印片，則可以使材料以圖案形式轉(zhuǎn)印到基底上。如果對(duì)每種材料(R、G和B)重復(fù)這種操作，則可以形成圖案部件(例如，OLED元件或用于液晶顯示器的濾色器)。
當(dāng)意圖將材料以圖案形式轉(zhuǎn)印到基底上時(shí)，如果所述材料經(jīng)掩模材料以與基底相對(duì)的方式疊加在基底上，且利用推板從其背面頂推轉(zhuǎn)印片，其中掩模材料具有與所需圖案幾乎相同的開(kāi)口形狀，那么所述材料經(jīng)掩模材料的開(kāi)口以圖案形式轉(zhuǎn)印到基底上。
因此，在制造多種不同種類(lèi)的材料以圖案形式轉(zhuǎn)印到基底上的圖案部件的過(guò)程中，本發(fā)明的上述方法可以提高生產(chǎn)率和產(chǎn)品質(zhì)量(圖案精度)。而且，所述方法在選擇材料種類(lèi)(油墨)方面具有較高的自由度。
雖然本發(fā)明規(guī)定“利用推板從其背面頂推轉(zhuǎn)印片”，但如果所述方法這樣構(gòu)成，即以對(duì)著推板頂推的方式從背面頂推基底，那么也可以以圖案形式將所述材料轉(zhuǎn)印到基底上。所以，這種結(jié)構(gòu)也包括在本發(fā)明范圍內(nèi)。
本發(fā)明提供了一種用于制造多種不同種類(lèi)的材料在基底上形成圖案的圖案部件的方法，所述方法特征在于包括步驟在已經(jīng)形成相應(yīng)材料圖案的相應(yīng)版上涂布不同種類(lèi)的材料的步驟；干燥在其表面涂布材料的版的步驟；對(duì)每種材料重復(fù)進(jìn)行以所述圖案接觸基底的方式將一塊版疊加并定位在基底上，并從其背面頂推基底和/或版而使所述圖案轉(zhuǎn)印到基底上，從而使不同種類(lèi)的材料在基底上形成圖案；以及上述方法中使用的設(shè)備。
根據(jù)本發(fā)明，不同種類(lèi)的材料(R、G和B)以圖案形式涂布在已經(jīng)形成紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B)圖案的相應(yīng)版上，并干燥所述版。然后，如果以所述版上的圖案與所述基底接觸的方式在將成為產(chǎn)品的基底上疊加并定位一塊版，且從其背面頂推基底和/或版，那么圖案形式的材料可以轉(zhuǎn)印到基底上。如果對(duì)每種材料(R、G和B)重復(fù)這種操作，則可以形成圖案部件(例如，OLED元件或用于液晶顯示器的濾色器)。
因此，在制造多種不同種類(lèi)的材料以圖案形式轉(zhuǎn)印到基底上的圖案部件過(guò)程中，本發(fā)明的上述方法可以提高生產(chǎn)率和產(chǎn)品質(zhì)量(圖案精度)。
在本發(fā)明中，優(yōu)選的是上述推板或所述版在其表面具有圖案形式的突起。如果所述推板在其表面上具有圖案形式的突起，則所述材料可以在轉(zhuǎn)印片上容易、可靠地形成特定圖案。
已經(jīng)形成相應(yīng)的不同材料圖案的推板或版不必是凸版，它們可以是扁平的，比如PS版，只要它們上面形成不同材料的圖案，當(dāng)利用涂覆裝置在所述版上涂布材料時(shí)，所述材料可以在版上形成特定的圖案。
在本發(fā)明中，優(yōu)選的是，所述基底是柔性支撐帶。如果基底是柔性支撐帶(例如柔性薄膜)，那么基底易于輸送，而生產(chǎn)率較高。而且，如果基底是柔性支撐帶，則它們可以用于各種應(yīng)用中，比如OLED元件。
在本發(fā)明中，優(yōu)選的是，所述版在圖案材料轉(zhuǎn)印到基底上之后通過(guò)清洗/干燥重復(fù)使用。如果所述版可以重復(fù)使用，那么不僅設(shè)備的成本，而且?guī)齑婵臻g都可以減小，從生產(chǎn)設(shè)備角度而言希望這樣。


下面將參照附圖描述本發(fā)明的性質(zhì)、以及其他目的和優(yōu)點(diǎn)，其中在整個(gè)附圖中相同的附圖標(biāo)記表示相同或相似的部件。
圖1是體現(xiàn)本發(fā)明的涂覆設(shè)備的示意圖；圖2是局部切除示意圖，示出了涂覆頭；圖3是圖1的主要部件的放大圖；圖4(a)至4(d)是體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的示意流程圖；圖5(a)和5(b)是體現(xiàn)本發(fā)明的圖案部件的簡(jiǎn)圖；圖6是體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的另一示意流程圖；圖7是體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的示意流程圖；圖8是示出體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的設(shè)備布局的示意圖；圖9是干燥印版的干燥裝置的簡(jiǎn)圖；圖10是轉(zhuǎn)印裝置的簡(jiǎn)圖；
圖11示出了作為圖案材料組分的化合物的化學(xué)式；圖12示出了作為圖案材料組分的化合物的化學(xué)式。
具體實(shí)施例方式
下面將參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的涂覆方法和設(shè)備的優(yōu)選實(shí)施例。圖1是體現(xiàn)本發(fā)明的涂覆設(shè)備10的示意圖，圖2是局部切除的示意圖，示出了涂覆頭18。
如圖1所示，涂覆設(shè)備10包括利用涂覆液涂布織物12的涂覆裝置10A、連續(xù)輸送織物12的輸送裝置10B、和干燥已經(jīng)涂覆在織物12上的涂覆液的干燥裝置10C。
涂覆裝置10A由涂覆液儲(chǔ)槽14、將涂覆液從涂覆液儲(chǔ)槽14中泵出的泵16、利用經(jīng)泵16泵送出的涂覆液涂布織物12的涂覆頭18，和連接上述各部分的管路。
優(yōu)選的是，計(jì)量泵用作泵16，因?yàn)樗煞€(wěn)定輸送的涂覆液的流速。作為計(jì)量泵，可用使用多種類(lèi)型的泵，例如齒輪泵和輥?zhàn)颖?；然而，?duì)于本發(fā)明的涂覆來(lái)說(shuō)，尤其適于采用齒輪泵。
涂覆頭18的尖端接近連續(xù)行進(jìn)的織物12，并與之相對(duì)。如圖2所示，在涂覆頭18內(nèi)，平行于織物12的寬度方向形成圓柱形袋狀部分18B，且所述涂覆袋狀部分18B連接于供給管路18A。在涂覆頭18內(nèi)，還形成具有在涂覆頭尖端的排出端口的涂覆狹縫18C。涂覆狹縫18C與涂覆袋狀部分18B連通。
涂覆狹縫18C是較窄的流道，連接袋狀部分18B和涂覆頭的尖端，并在織物12的寬度方向上延伸。待涂布到織物12上的所需涂覆液從供給管路18A送入涂覆頭18的涂覆袋狀部分18B中。
雖然圖2示出了一種類(lèi)型的泵送方法，其中涂覆液從涂覆袋狀部分18B的一側(cè)送入，但還有其他類(lèi)型例如，涂覆液從所述涂覆袋狀部分18B一側(cè)送入并從另一側(cè)抽出的類(lèi)型；涂覆液從所述涂覆袋狀部分18B的中部送入而流向兩側(cè)的類(lèi)型。上述任一類(lèi)型都可用于本發(fā)明。
本發(fā)明中使用的涂覆頭18不限于擠出型，可用使用任何類(lèi)型的涂覆頭，只要它們這樣構(gòu)成，即涂覆液可以經(jīng)其狹縫輸送并涂覆在織物12上。
輸送裝置10B由解開(kāi)纏繞狀態(tài)的織物12的解繞輥24、與涂覆頭18相對(duì)布置且在涂覆時(shí)支撐織物12的支撐輥20、多個(gè)張緊織物12而有助于輸送連續(xù)行進(jìn)的織物12的導(dǎo)輥22、22...、和纏繞織物12的纏繞輥26構(gòu)成。通過(guò)以一定的轉(zhuǎn)速驅(qū)動(dòng)上述任一輥，使織物12以固定的速度連續(xù)輸送。
也可任意設(shè)置控制織物12的張力的張緊輥和控制織物12的輸送的驅(qū)動(dòng)輥，但在附圖中省略了。
如圖3所示，涂覆設(shè)備10這樣構(gòu)成，即涂覆頭18的尖端與支撐輥20按順時(shí)針?lè)较虻摹?點(diǎn)鐘位置”相對(duì)。這樣，涂覆頭18尖端和織物12表面之間的距離t被確定。如該圖所示，涂覆頭18已經(jīng)涂布涂覆液的織物12在其表面形成涂覆薄膜28，并沿順時(shí)針?lè)较蜉斔?，其背面由支撐?0支撐。
控制織物12使得它在0.5秒之內(nèi)從涂布涂覆液時(shí)的位置(9點(diǎn)鐘位置)輸送到水平位置(12點(diǎn)鐘位置)保持。以這種方式控制織物12，避免了已經(jīng)涂布到織物上的涂覆液沿重力方向流動(dòng)，出現(xiàn)涂覆不均勻的現(xiàn)象。
涂覆頭18尖端的位置不必限于按順時(shí)針?lè)较蛑屋?0的9點(diǎn)鐘位置。該位置可任意選取，只要它確保均勻涂覆，并在0.5秒內(nèi)將織物12輸送到水平位置(12點(diǎn)鐘位置)。
然而，如果涂覆頭尖端位于較低的位置(例如7點(diǎn)鐘位置)，那么已經(jīng)涂布到織物12上的涂覆液可能由于重力在織物上流下來(lái)，但如果涂覆頭尖端位于較高的位置(例如11點(diǎn)鐘位置)，則涂覆液可能不能穩(wěn)定、均勻地涂布到織物上。
支撐輥20的外徑不限于任何具體的值，它可以任意選取，只要保證均勻的涂覆。優(yōu)選的是，支撐輥20的外徑使得可以在0.5秒內(nèi)將織物12輸送到水平位置。代替圖中所示的支撐輥20，也可以在圓周上設(shè)置許多較小直徑的支撐輥。
作為圖1中所示的干燥裝置10C，提供隧道型干燥器30和32。在干燥器32的下游設(shè)有溫度/濕度控制區(qū)36。在干燥器30和32內(nèi)部，織物12由上述導(dǎo)輥22、22....支撐。
作為干燥裝置10C的前期的干燥器32這樣構(gòu)成，即內(nèi)部氣流速度為0。具體而言，在本發(fā)明中，優(yōu)選的是，涂覆薄膜表面上的相對(duì)氣流速度為0.2m/sec或更小，直到涂覆液的粘度變?yōu)?00mPa·s，干燥器30的結(jié)構(gòu)滿(mǎn)足這一要求。尤其是，沿垂直于織物12的輸送方向的方向設(shè)置多個(gè)屏蔽板(在圖中未示出)，此外，在織物12附近設(shè)置紅外加熱器34、34。
至于其他的組成部分，在干燥器30底部設(shè)有排氣孔30B、30B，因?yàn)閼?yīng)排出涂覆液中的有機(jī)溶劑、水分等，且在干燥器30頂部以對(duì)應(yīng)于排氣孔的方式設(shè)有進(jìn)氣孔30A、30A。設(shè)有滑動(dòng)板(在圖中未示出)，以防止經(jīng)過(guò)上述氣孔的氣流造成的干擾。
當(dāng)采用這種結(jié)構(gòu)時(shí)，在輸送織物12的位置設(shè)置熱線(xiàn)風(fēng)速計(jì)的傳感器部分，同時(shí)測(cè)量氣流速度，通過(guò)反復(fù)試驗(yàn)精確確定最佳結(jié)構(gòu)。而且，涂覆頭18和干燥器30之間的部分由罩子(圖中未示出)包圍，而使涂覆薄膜不受氣流的影響。
即使干燥器30內(nèi)的氣流速度為0，織物12的輸送會(huì)產(chǎn)生相對(duì)氣流速度，如上所述。例如，如果織物12的輸送速度為10m/min，氣流速度為0.167m/sec。因此如果織物12的輸送速度設(shè)定為12m/min或更高，則相對(duì)氣流速度為0.2m/sec或更高。因此，在這種情況下，需要產(chǎn)生沿平行于織物12的輸送方向的方向流動(dòng)的氣流的結(jié)構(gòu)。
該實(shí)施例的干燥裝置10C的結(jié)構(gòu)假定在織物12到達(dá)干燥器30的出口之前，涂覆液的粘度變?yōu)?00mPa·s；所以，干燥器30的長(zhǎng)度應(yīng)當(dāng)根據(jù)涂覆液的成分、涂覆液(儲(chǔ)備液)的粘度、涂覆薄膜的厚度、織物12的輸送速度和紅外加熱器34、34的規(guī)格(功率)進(jìn)行最佳設(shè)計(jì)。
作為用于干燥器30的干燥裝置，采用紅外加熱器34、34；然而，該裝置不限于上述加熱器，也可用使用各種類(lèi)型的已知干燥裝置，比如其他種類(lèi)的加熱器加熱干燥裝置、輥?zhàn)蛹訜岣稍镅b置、真空干燥裝置和低濕度環(huán)境干燥裝置，只要可以均勻地干燥涂布到織物12上的涂覆液。
上述輥?zhàn)蛹訜岣稍镅b置這樣構(gòu)成，即它們具有相互緊鄰布置的多個(gè)導(dǎo)輥22、22....、和為輥?zhàn)佣O(shè)的加熱裝置?？梢圆捎酶鞣N類(lèi)型的結(jié)構(gòu)；例如，作為內(nèi)部加熱裝置，加熱介質(zhì)穿過(guò)導(dǎo)輥22內(nèi)部，作為外部加熱裝置，加熱器位于導(dǎo)輥22的底側(cè)。
在作為干燥裝置10C的中期的干燥器32中，其內(nèi)部的氣流速度不限制，與干燥器30不同。其原因是干燥裝置10C的結(jié)構(gòu)假定在織物12到達(dá)干燥器32的入口之前，涂覆液的粘度變?yōu)?00mPa·s或更大；所以，即使相對(duì)氣流速度較高，對(duì)形成的涂覆薄膜的影響也很小。然而，推薦氣流速度為10m/sec。
因此，可以采用各種類(lèi)型的已知干燥裝置作為干燥器32。在圖中所示的結(jié)構(gòu)中，采用了循環(huán)型干燥裝置。在干燥器32中，在干燥器32底部設(shè)有排氣孔32B、32B，在干燥器32頂部以對(duì)應(yīng)于排氣孔的方式設(shè)有進(jìn)氣孔32A、32A。
作為干燥裝置10C后期的溫度/濕度控制區(qū)36，用于在干燥之后控制織物12的溫度/濕度(含水量)，可以采用各種類(lèi)型的已知結(jié)構(gòu)。
下面將描述使用所述涂覆設(shè)備10制成涂覆薄膜的過(guò)程。在涂覆薄膜的形成過(guò)程中，優(yōu)選采用粘度為10mPa·s或更小且含有有機(jī)溶劑的涂覆液。
作為織物12，可以使用固定寬度、固定長(zhǎng)度和厚度約2至200μm的柔性帶，包括塑料薄膜，比如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)，聚乙烯-2，6-萘酯(polyethylene-2，6-naphthalate)，纖維素二醋酸脂、纖維素三醋酸脂、醋酸丙酸纖維素、聚氯乙稀、聚偏二氯乙烯、聚碳酸酯、聚酰亞胺和聚酰胺；紙；涂覆有或?qū)盈B有2至10個(gè)碳的α-聚烯烴比如聚乙烯、聚丙烯和乙烯—丁烯共聚物的紙；或金屬板，或包括上述柔性帶作為基底材料、以及在所述基底材料上形成的處理層的帶。
在涂覆設(shè)備10中，在經(jīng)解繞輥24解開(kāi)織物12的同時(shí)，進(jìn)行涂覆，并控制泵16的流速，而使涂覆頭18的狹縫18C中的涂覆液的平均流速為100至500mm/sec，控制織物12的輸送速度而使涂布涂覆液后涂覆薄膜28的厚度為2至40μm，并使織物12在涂布涂覆液之后0.5秒內(nèi)處于水平位置(12點(diǎn)鐘位置)的方式。
在涂布了涂覆液之后的干燥過(guò)程中，干燥器30控制成使得涂覆薄膜表面上的相對(duì)氣流速度為0.2m/sec或更低，并調(diào)節(jié)成使得在織物12到達(dá)干燥器30的出口之前，涂覆液的粘度變?yōu)?00mPa.s。干燥器30設(shè)定成可以獲得具有較高厚度精度和平滑表面的涂覆薄膜。
已經(jīng)通過(guò)干燥器32和溫度/濕度控制區(qū)36的織物12纏繞在纏繞輥26上。
下面參照附圖詳細(xì)描述使用其上已經(jīng)通過(guò)本發(fā)明的涂覆方法和設(shè)備形成薄膜的柔性支撐帶制造圖案部件的方法的優(yōu)選實(shí)施例。在圖4(a)至4(d)中，通過(guò)示例示出了體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的工藝流程圖。
在該實(shí)施例中，作為數(shù)種類(lèi)型的織物12的轉(zhuǎn)印片(柔性支撐帶)，使用三種類(lèi)型的轉(zhuǎn)印片用于紅色(R)的轉(zhuǎn)印片12R、用于綠色(G)的轉(zhuǎn)印片12G和用于蘭色(B)的轉(zhuǎn)印片12B，如圖4(a)所示。對(duì)于轉(zhuǎn)印片12，可以使用具有特定形狀的片狀材料，可以涂覆多種類(lèi)型的材料(圖案材料)P，使材料P在轉(zhuǎn)印過(guò)程中轉(zhuǎn)印到基底B上。換言之，在轉(zhuǎn)印工藝的條件下，用于轉(zhuǎn)印片的材料必須在材料P的濕潤(rùn)能力或粘附性方面比基底B的材料差。對(duì)于這種轉(zhuǎn)印片12，可以使用上述織物。
材料P在轉(zhuǎn)印片12上的涂布利用涂覆設(shè)備10來(lái)完成?？梢允褂脝蝹€(gè)涂覆設(shè)備10來(lái)涂布數(shù)種類(lèi)型的圖案材料P，或可以對(duì)每一圖案材料P設(shè)置一個(gè)涂覆設(shè)備10。如上所述，涂覆設(shè)備10的系統(tǒng)無(wú)關(guān)緊要，只要可以將圖案材料P涂布到轉(zhuǎn)印片12上達(dá)到固定的厚度。已經(jīng)涂布了圖案材料P的轉(zhuǎn)印片12送往干燥器(干燥裝置)30，使圖案材料P干燥。
優(yōu)選的是，上述工藝順序在良好的無(wú)塵和最佳溫度/濕度的環(huán)境條件下進(jìn)行。因此，所述工藝優(yōu)選在清潔室內(nèi)進(jìn)行，尤其是所述涂覆裝置10A和干燥裝置10C置于清潔等級(jí)100或更小的環(huán)境中。為此，所述方法可以采用向下流動(dòng)的清潔室或凈化臺(tái)。
尤其是當(dāng)圖案材料P用于OLED的發(fā)光層時(shí)，優(yōu)選的是將其保持在低濕度環(huán)境中，因?yàn)榘l(fā)光層的產(chǎn)品壽命受水分的影響顯著。尤其推薦將其保持在負(fù)20℃或更低的空氣或氮?dú)鈿夥罩?。也可盡可能地減小相對(duì)濕度(RH)。
在圖4(b)所示的轉(zhuǎn)印工藝中，圖案材料P以下述步驟轉(zhuǎn)印到基底B上在基底B上疊加轉(zhuǎn)印片12之一，使圖案材料P與基底B相對(duì)；利用推板40從轉(zhuǎn)印片12背面推壓。
作為在轉(zhuǎn)印過(guò)程中送入的基底B的材料，可以使用玻璃板(例如液晶顯示器的濾色器)、硅基底、金屬板等。也可以使用柔性支撐帶作為基底B。
作為柔性支撐帶形成的基底B，可以使用固定寬度、長(zhǎng)度為45至20000m和厚度為2至200μm的柔性帶，包括塑料薄膜，比如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)，聚乙烯-2，6-萘酯，纖維素二醋酸脂、纖維素三醋酸脂、醋酸丙酸纖維素、聚氯乙稀、聚偏二氯乙烯、聚碳酸酯、聚酰亞胺和聚酰胺；紙；涂覆有或?qū)盈B有2至10個(gè)碳的α-聚烯烴比如聚乙烯、聚丙烯和乙烯—丁烯共聚物的紙；或金屬板；或包括上述柔性帶作為基底材料、以及在所述基底材料上形成的處理層的帶。
作為推板40，使用在其表面形成幾乎與所述圖案形狀相同的突起40A、40A...的板式部件。所述突起40A位于推板40上，對(duì)應(yīng)每一材料(R，G，B等)的圖案。突起40A的尺寸應(yīng)當(dāng)與所述圖案幾乎相同。尤其是，例如，當(dāng)圖案是100×200μm的矩形時(shí)，突起40A的尺寸與該矩形相同。
對(duì)于推板40上的突起40A的節(jié)距，雖然根據(jù)圖案的尺寸、厚度和所需精度，可以采用最佳值，但通?？梢圆捎?0至70μm的節(jié)距。從圖案所需精度，或者，從突起40A的成形精度的觀點(diǎn)出發(fā)，最好突起40A的節(jié)距盡可能??；但另一方面，從轉(zhuǎn)印性能的觀點(diǎn)出發(fā)，最好突起40A的節(jié)距稍大。
優(yōu)選的是，這種推板40由一定或更大厚度的金屬部件制成。推板40的突起40A可以通過(guò)光刻等制成。
當(dāng)基底B和推板40在X、Y、Z和θ方向上對(duì)齊時(shí)，可以采用常用的對(duì)準(zhǔn)裝置，例如滾珠絲杠和步進(jìn)馬達(dá)組合構(gòu)成的裝置。用于基底B和推板40的位置檢測(cè)裝置可以通過(guò)顯微鏡或數(shù)字照相機(jī)和相連接的CRT監(jiān)視器組合而構(gòu)成。
作為推動(dòng)推板40的頂推裝置，可以采用常用的頂推裝置，例如氣缸和調(diào)節(jié)器組合構(gòu)成的裝置，一次頂推推板40的整個(gè)面。代替使用一次推動(dòng)推板40整個(gè)面的裝置，也可以采用利用輥?zhàn)硬考B續(xù)地或線(xiàn)性地頂推推板40的頂推方法。換言之，可以使用移動(dòng)輥?zhàn)硬考?，同時(shí)由輥?zhàn)硬考谋趁骓斖仆瓢?0的裝置。
優(yōu)選的是，推板這樣構(gòu)成，即當(dāng)轉(zhuǎn)印圖案材料P時(shí)，可以根據(jù)形狀和材料，對(duì)圖案材料P施加特定的壓力，并根據(jù)情況施加特定的熱量。例如，可以采用在其內(nèi)部具有作為加熱裝置的護(hù)套式加熱器的推板。
在完成對(duì)準(zhǔn)操作時(shí)，如果推板40被頂推裝置從背面頂推，那么圖案材料P轉(zhuǎn)印到基底B上。這種情況在圖4(c)中示出。如果重復(fù)這種操作，例如對(duì)于三種顏色R、G和B進(jìn)行三次，則形成圖4(d)所示的基底B。
當(dāng)圖案設(shè)計(jì)成產(chǎn)生帶時(shí)，在基底B上形成如圖5(a)所示的條形圖案a、b、c、a、b、c....。當(dāng)圖案設(shè)計(jì)成產(chǎn)生矩陣時(shí)，在基底B上形成如圖5(b)所示的矩陣圖案a、b、c、a、b、c....。
下面詳細(xì)描述本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的另一優(yōu)選實(shí)施例。在圖6中，通過(guò)示例示出了體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的另一實(shí)施例。在該實(shí)施例中，在基底B的輸送路徑上設(shè)置多個(gè)轉(zhuǎn)印裝置50，按工藝順序連續(xù)形成三種顏色R、G和B的圖案。
在每一轉(zhuǎn)印裝置50R、50G和50B中，從解繞輥52上解開(kāi)的轉(zhuǎn)印片12纏繞在推輥54上，該推輥具有在其表面上形成的圖案突起(圖中未示出)，保持在推輥54和支撐輥56之間，同時(shí)接觸基底B，其中圖案材料P借助于推輥54的突起轉(zhuǎn)印到基底B上。隨后，轉(zhuǎn)印片12纏繞在纏繞輥58上。
類(lèi)似于前述實(shí)施例，所述轉(zhuǎn)印裝置最好這樣構(gòu)成，即在轉(zhuǎn)印時(shí)根據(jù)情況，可以施加適當(dāng)?shù)奶囟▔毫吞囟崃?。圖案材料P(用于三種顏色R、G和B的材料)這樣轉(zhuǎn)印到基底B上。
下面詳細(xì)描述本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的另一優(yōu)選實(shí)施例和用于制造所述圖案部件的設(shè)備的優(yōu)選實(shí)施例。在圖7中，通過(guò)示例示出了體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的方法的工藝流程圖。在圖8至10中，示出了體現(xiàn)本發(fā)明的用于制造圖案部件的設(shè)備的示意圖。圖8是示出用于制造圖案部件的設(shè)備100的布局的平面圖。在圖9和10中分別示出了干燥用于制造圖案部件的設(shè)備100的版的干燥裝置(板干燥裝置)118的簡(jiǎn)圖和上述設(shè)備的轉(zhuǎn)印裝置124的簡(jiǎn)圖。
在該實(shí)施例中，作為不同類(lèi)型的版122，如圖7所示使用4種類(lèi)型的版用于紅色(R)的版122R、用于綠色(G)的版122G、用于藍(lán)色(B)的版122B和用于絕緣層(I)的版122I。凸版用于各種類(lèi)型的版122。在每一凸版上，初始圖案僅以浮雕的形式形成。因此，當(dāng)利用涂覆裝置112對(duì)版122涂布多種不同材料(圖案材料)P時(shí)，圖案材料P僅涂布到圖案部分122A上，且僅在同一部分上形成圖案。
即使當(dāng)利用涂覆裝置112對(duì)所述版122涂布不同材料時(shí)，多種不同材料(圖案材料)P不僅涂布/形成在圖案部分122A上，而且涂布在除圖案部分122A之外的部分上，也無(wú)關(guān)緊要，只要圖案材料P可以在下面描述的轉(zhuǎn)印裝置124中轉(zhuǎn)印到基底B上，而在其上形成圖案。
例如當(dāng)圖案材料P涂布/形成在除所述圖案部分122A之外的部分上時(shí)，情況如所述，但此后，在干燥過(guò)程中圖案材料P的厚度減小，在轉(zhuǎn)印裝置124中圖案材料P單獨(dú)地在基底B上形成圖案。
在各種類(lèi)型的版122上，如果需要，則形成對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，用于在下面描述的轉(zhuǎn)印工藝中對(duì)準(zhǔn)。
作為凸版的版122的材料，可以使用玻璃板、硅基底、金屬板等。作為用于形成作為版122上的凸出部分的圖案部分122A的方法，根據(jù)版122的材料、圖案部分122A的形狀等可以采用各種已知的方法，比如光刻、機(jī)加工、放電加工和激光束加工。
在制造圖案部件之前，進(jìn)行各種類(lèi)型的版122的清洗/干燥。換言之，在該實(shí)施例中，如果進(jìn)行清洗和干燥，可以重復(fù)使用各種類(lèi)型的版122。因此，用于制造圖案部件的設(shè)備100設(shè)有版清洗設(shè)備(版清洗裝置)116和版干燥設(shè)備(版干燥裝置)118。
作為版清洗設(shè)備116，根據(jù)版122的材料和尺寸和所述圖案部分122A的形狀可以使用各種類(lèi)型的已知清洗設(shè)備，且適于使用的典型清洗設(shè)備包括例如超聲波清洗設(shè)備、氧等離子體清洗設(shè)備、高壓噴射清洗器和擦洗清洗器。如果不使版122刮擦或變形，可以使用各種類(lèi)型的版清洗設(shè)備116。
作為版清洗設(shè)備116中使用的清洗流體，根據(jù)版122的材料和尺寸、圖案部分122A的形狀等可以使用各種類(lèi)型的已知流體，比如去離子水、各種類(lèi)型的清潔劑和有機(jī)溶劑。
作為版干燥設(shè)備118，可以使用各種類(lèi)型的已知設(shè)備，比如熱空氣干燥器、使用遠(yuǎn)紅外線(xiàn)輻射加熱的干燥設(shè)備、真空干燥設(shè)備和溶劑蒸發(fā)干燥設(shè)備。圖9中所示的該實(shí)施例的版干燥設(shè)備118包括除水區(qū)118A，其中通過(guò)從噴嘴130、130噴出的氣刀吹去版122上的水分；熱空氣干燥區(qū)118B，其中通過(guò)熱空氣干燥版122；冷卻區(qū)118C，其中將版122冷卻到室溫。在該實(shí)施例中的情況，最好在使用之前版122冷卻到室溫。
氣刀不是必不可少的構(gòu)成條件。當(dāng)熱空氣干燥區(qū)118B的設(shè)定溫度較低時(shí)，冷卻區(qū)118C也不是必不可少的構(gòu)成條件。
在圖9中，每一版122由輸送裝置132支撐，且可以移動(dòng)穿過(guò)所述區(qū)域。在熱空氣干燥區(qū)118B和冷卻區(qū)118C中，熱空氣噴射面134、134和冷空氣噴射面136、136在輸送路徑的上、下側(cè)上形成，使版122干燥、冷卻。
作為涂覆設(shè)備(涂覆裝置)112，可以采用各種類(lèi)型的已知裝置。敷貼類(lèi)型的裝置，比如輥式涂覆機(jī)、浸漬涂覆機(jī)和噴注式涂覆機(jī)，以及計(jì)量型裝置，比如氣刀涂覆機(jī)、刮刀涂覆機(jī)和刮棒涂覆機(jī)尤其適用。而且，比如擠出式涂覆機(jī)、滑動(dòng)液滴式涂覆機(jī)和幕簾式涂覆機(jī)也是適用的，可以完成敷貼型和計(jì)量型涂覆。
作為圖7中所示的涂覆設(shè)備(涂覆裝置)112，采用輥式涂覆機(jī)。在該輥式涂覆機(jī)中，當(dāng)版122沿箭頭所示方向以特定速度移動(dòng)到沿圖中所示方向轉(zhuǎn)動(dòng)的涂布輥112A下方時(shí)，圖案材料P涂布在各版122的圖案部分122A上，直到固定厚度。在涂布輥112A的背面，設(shè)有計(jì)量輥112B，控制輸送到涂布輥112A的圖案材料P的量均勻。
可以使用一個(gè)涂覆設(shè)備112在版122上涂布各種類(lèi)型的圖案材料P；然而，從生產(chǎn)率(例如工作變化和設(shè)備清洗)、質(zhì)量控制(例如避免夾雜圖案材料P)和產(chǎn)量的增加而言，最好對(duì)每一種類(lèi)型的圖案材料P準(zhǔn)備一個(gè)涂覆設(shè)備112。在該實(shí)施例的用于制造圖案部件的設(shè)備100中，設(shè)有四個(gè)對(duì)應(yīng)紅色(R)、綠色(G)、藍(lán)色(B)和絕緣層(I)的圖案材料P的涂覆設(shè)備112。
如上所述，涂覆設(shè)備112的系統(tǒng)無(wú)關(guān)緊要，只要它可以在版122的圖案部分122A涂布圖案材料P，直到固定的厚度。也可以采用除上述涂覆方法之外的屬于上位概念的薄膜形成方法，比如沉積法。
已經(jīng)涂布了圖案材料P的版122送往涂覆液干燥設(shè)備(干燥裝置)114，以使圖案材料P干燥。作為涂覆液干燥設(shè)備114，可以使用各種類(lèi)型的已知設(shè)備，比如熱空氣循環(huán)干燥設(shè)備、使用遠(yuǎn)紅外線(xiàn)輻射加熱的干燥設(shè)備和真空干燥設(shè)備。
當(dāng)圖案材料P用于OLED的發(fā)光層時(shí)，因?yàn)榘l(fā)光層對(duì)外界顆粒和水分的抵抗能力較小，且其產(chǎn)品壽命受到很大的影響，所以它們應(yīng)當(dāng)充分干燥。在這種情況下，最好將多個(gè)版122儲(chǔ)存例如在熱空氣循環(huán)干燥設(shè)備(清潔爐)中，并按照先進(jìn)先出的順序進(jìn)行處理。這樣確保生產(chǎn)效率較高。在該實(shí)施例的用于制造圖案部件的設(shè)備100中，設(shè)有兩個(gè)涂覆液干燥設(shè)備114，如圖8所示。
在上述工藝順序中，從產(chǎn)品質(zhì)量(例如無(wú)塵)和生產(chǎn)效率而言，所述版122最好通過(guò)圖8所示的第一輸送設(shè)備126自動(dòng)搬運(yùn)。作為第一輸送設(shè)備126，可以使用已知的自動(dòng)倉(cāng)庫(kù)機(jī)器人。版122的流向在圖8中由箭頭示出。
優(yōu)選的是，上述工藝順序在良好的無(wú)塵和最佳溫度/濕度的環(huán)境條件下進(jìn)行。因此，所述工藝優(yōu)選在清潔室內(nèi)進(jìn)行，尤其是所述涂覆裝置112和干燥裝置114置于清潔等級(jí)100或更小的環(huán)境中。為此，所述方法可以采用向下流動(dòng)的清潔室或凈化臺(tái)。
尤其是當(dāng)圖案材料P用于OLED的發(fā)光層時(shí)，優(yōu)選的是將其保持在低濕度環(huán)境中，因?yàn)榘l(fā)光層的產(chǎn)品壽命受水分的影響顯著。尤其推薦將其保持在負(fù)20℃或更低的空氣或氮?dú)鈿夥罩?。也可盡可能地減小相對(duì)濕度(RH)。
已經(jīng)在涂覆液干燥設(shè)備(干燥裝置)114中干燥的版122由第一輸送設(shè)備126自動(dòng)搬運(yùn)，并輸送到第二輸送設(shè)備128。第二輸送設(shè)備128這樣構(gòu)成，即它可以在圖8中自由地左右移動(dòng)，并接收來(lái)自第一輸送設(shè)備126的版122，將版122送至轉(zhuǎn)印設(shè)備(轉(zhuǎn)印裝置)124。作為第二輸送設(shè)備128，可以采用各種類(lèi)型的已知輸送裝置。
通過(guò)以所述圖案接觸基底B的方式將版122之一疊加在基底上并定位，然后從背面頂推基底B和/或版122，在轉(zhuǎn)印工藝中使用的轉(zhuǎn)印設(shè)備(轉(zhuǎn)印裝置)124將圖案材料P轉(zhuǎn)印到基底B上。
作為在該轉(zhuǎn)印過(guò)程中送入的基底B的材料，可以使用玻璃板(例如液晶顯示器的濾色器)、硅基底、金屬板等。對(duì)于OLED元件，最好采用使用上述柔性支撐帶的基底B。
下面描述使用柔性帶制成的基底B的實(shí)施例。在圖10中示出的轉(zhuǎn)印裝置124的簡(jiǎn)圖中，柔性支撐帶制成的基底B從解繞區(qū)140(UW部分)的輥142上解開(kāi)，穿過(guò)包括除塵器等的除塵區(qū)146，送至對(duì)準(zhǔn)/轉(zhuǎn)印區(qū)150。在對(duì)準(zhǔn)/轉(zhuǎn)印區(qū)150中，圖案材料P轉(zhuǎn)印到基底B上。這樣，基底B穿過(guò)纏繞區(qū)(W部分)156的EPC(邊緣位置控制設(shè)備)，并纏繞在輥?zhàn)?58上。
在轉(zhuǎn)印裝置124中，吸附輥144、148和152是輥的分段驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，可以輸送柔性支撐帶制成的基底B，同時(shí)吸附并保持所述基底，而基底B的張緊可以在吸附輥144、148和152之前和之后確定。
浮動(dòng)輥157、159用于控制柔性支撐帶制成的基底B的張力和吸附輥144、148和152的轉(zhuǎn)速，且它們可以通過(guò)使用氣缸等對(duì)柔性支撐帶制成的基底B施加任意的張力。而且，通過(guò)改變所述浮動(dòng)輥的位置，所述浮動(dòng)輥157、159可以將柔性支撐帶制成的基底B的輸送速度控制在固定速度(可以完成反饋控制)。
在除塵區(qū)146中，除塵器去除附著在柔性支撐帶制成的基底B上的灰塵。在該去除操作過(guò)程中，壓力約10kPa的空氣吹在基底上，且收集空氣和灰塵。此時(shí)，如果約10kg/m的張力沒(méi)有施加在柔性支撐帶制成的基底B上，那么基底B失去支撐，可能導(dǎo)致基底的蠕動(dòng)。
另一方面，考慮到在對(duì)準(zhǔn)/轉(zhuǎn)印區(qū)150中基底B與版122高精度對(duì)齊，最好使施加到基底B上的張力較小。換言之，從高精度對(duì)準(zhǔn)而言，最好盡可能避免基底B的彈性變形。尤其是當(dāng)基底B被基底支撐座160吸附并保持時(shí)，最好不對(duì)基底B施加張力。
在纏繞區(qū)(W部分)156中，如果在柔性支撐帶制成的基底B纏繞時(shí)施加到基底B的平面壓力(垂直于基底B的平面的壓力)過(guò)高，則已經(jīng)轉(zhuǎn)印到基底B上的圖案材料P可能有時(shí)會(huì)受到不利的影響；因此，最好保持施加到基底B上的平面壓力值為一定值或更小。優(yōu)選地，控制施加到基底B上的張力，使得纏繞扭矩總是保持恒定，即使輥158的回轉(zhuǎn)直徑增加。
如前所述，施加到基底B上的優(yōu)選張力在除塵區(qū)146、對(duì)準(zhǔn)/轉(zhuǎn)印區(qū)150和纏繞區(qū)(W部分)156之間不同。因此，最好在每一區(qū)中控制施加到基底B上的張力。這種控制由吸附輥144、148和152以及浮動(dòng)輥157、159實(shí)現(xiàn)。作為控制基底B的輸送速度和施加到基底B上的張力的裝置，也可以使用其他已知裝置，代替吸附輥144、148和152以及浮動(dòng)輥157、159。
例如通過(guò)濺射或真空蒸發(fā)工藝，柔性支撐帶制成的基底B可以設(shè)有陰極/帶電子層，使其具有屏蔽功能，或者它可以設(shè)有為有機(jī)薄膜提供空穴的陽(yáng)極。下面將描述陰極和陽(yáng)極的細(xì)節(jié)。
圖中所示的轉(zhuǎn)印設(shè)備(轉(zhuǎn)印裝置)124用于配合柔性支撐帶制成的基底B，然而，用于板式材料，比如玻璃板、硅基板或金屬板制成的基底B的轉(zhuǎn)印設(shè)備的基本結(jié)構(gòu)，與柔性支撐帶制成的基底B的轉(zhuǎn)印設(shè)備機(jī)構(gòu)幾乎相同，除了輸送裝置之外。
下面參照?qǐng)D7描述對(duì)準(zhǔn)/轉(zhuǎn)印區(qū)150的細(xì)節(jié)。對(duì)準(zhǔn)/轉(zhuǎn)印區(qū)150包括版支撐座，圖中未示出，在支撐版的同時(shí)使版122在X、Y、Z和θ方向上對(duì)齊；基底支撐座160，其表面(底面)平坦，可以吸附并支撐基底B的背面(頂面)；兩個(gè)或多個(gè)定位檢測(cè)裝置(圖中省略)，位于每一版122兩端附近，使其可以定位版122，并檢測(cè)版122的定位標(biāo)記或圖案部分122a；頂推裝置(圖中省略)，從背面頂推基底B和/或版122，以使圖案材料P轉(zhuǎn)印到基底B上。
在X、Y、Z和θ方向上使版122對(duì)齊的基底支撐座160中的對(duì)準(zhǔn)裝置可以利用常用的對(duì)準(zhǔn)裝置構(gòu)成，例如利用滾珠絲杠和步進(jìn)馬達(dá)組合構(gòu)成。在基底支撐座160中吸附/支撐基底B的吸附/支撐裝置，可以由位于基底支撐座160表面上的多個(gè)細(xì)小的真空吸附口和與所示真空吸附口連通的抽吸裝置(例如旋轉(zhuǎn)式真空泵)組合構(gòu)成。定位檢測(cè)裝置可以通過(guò)顯微鏡或數(shù)碼相機(jī)與連接的CRT監(jiān)視器組合構(gòu)成。
作為頂推裝置，可以采用常用的頂推裝置；例如可以使用氣缸和調(diào)節(jié)器組合構(gòu)成的裝置來(lái)頂推基底B和/或版122的整個(gè)面。代替使用頂推基底B和/或版122的整個(gè)面的裝置，也可以采用利用輥?zhàn)硬考B續(xù)地或線(xiàn)性地頂推基底B和/或版122的頂推方法。換言之，可以使用移動(dòng)輥?zhàn)硬考?，同時(shí)由輥?zhàn)硬考谋趁骓斖苹譈和/或版122的裝置。
可以通過(guò)手工方式完成對(duì)準(zhǔn)，其中操作者在讀取定位檢測(cè)裝置獲得的檢測(cè)結(jié)果時(shí)利用對(duì)齊裝置在X、Y、Z和θ方向上使版122對(duì)齊，或者通過(guò)自動(dòng)系統(tǒng)完成對(duì)準(zhǔn)，其中根據(jù)定位檢測(cè)裝置獲得的檢測(cè)結(jié)果，自動(dòng)完成版122在X、Y、Z和θ方向上的對(duì)準(zhǔn)。
首先，圖7所示狀態(tài)的基底支撐座160下降到幾乎接觸基底B背面(頂面)的位置以吸附/支撐基底B。然后版支撐座支撐(例如真空吸附)版122，在X、Y、Z和θ方向上使版對(duì)準(zhǔn)，同時(shí)使其接近基底B，并與之相對(duì)。
在完成對(duì)準(zhǔn)時(shí)，基底B和/或版122被頂推裝置從背面頂推，而使圖案材料P轉(zhuǎn)印到基底B上。優(yōu)選的是，所述對(duì)準(zhǔn)/轉(zhuǎn)印區(qū)150這樣構(gòu)成，使得當(dāng)轉(zhuǎn)印圖案材料P時(shí)，根據(jù)其形狀和材料對(duì)圖案材料P施加特定的壓力，并根據(jù)情況施加特定的熱量。例如，可以采用為基底支撐座160設(shè)置作為加熱裝置的護(hù)套式加熱器的結(jié)構(gòu)。
在完成第一種圖案材料P的轉(zhuǎn)印時(shí)，基底支撐座160和支撐的基底B保持在待用狀態(tài)。然后，用第二種版122更換第一種版122。在這種更換操作時(shí)，第二種版122定位成使得其移動(dòng)條形或矩陣圖案的一個(gè)節(jié)距。
在利用位置檢測(cè)裝置讀取每一版122兩端附近形成的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，或利用位置檢測(cè)裝置讀取已經(jīng)在基底B上形成的第一種圖案材料P時(shí)，進(jìn)行第二和后續(xù)的版122的對(duì)準(zhǔn)，使得它們相對(duì)于已經(jīng)在基底B上形成的第一圖案材料保持適當(dāng)?shù)奈恢?。在?duì)每種版122進(jìn)行這種操作之后，完成圖案材料P向基底B的轉(zhuǎn)印。
當(dāng)利用位置檢測(cè)裝置讀取第一種圖案材料P進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)時(shí)，如果基底支撐座160的一部分由透明材料制成，或切除一部分，那么可以利用位置檢測(cè)裝置穿過(guò)基底支撐座160方便地讀取第一種圖案材料P。
當(dāng)使用版支撐座支撐(例如真空吸附)版122時(shí)，最好采用版支撐座上三點(diǎn)設(shè)有定位銷(xiāo)的結(jié)構(gòu)，通過(guò)版122的兩側(cè)壓在定位銷(xiāo)上將每一版122固定在同一位置。類(lèi)似地，也可以采用版支撐座和版122的對(duì)準(zhǔn)位置設(shè)有透孔的結(jié)構(gòu)，所述透孔與穿透銷(xiāo)(在這種情況下優(yōu)選錐形銷(xiāo))連接而使版122定位。
當(dāng)圖案材料P的定位精度可以較粗時(shí)，可以不采用上述的位置檢測(cè)裝置，而僅采用上述的定位銷(xiāo)完成定位。
在完成轉(zhuǎn)印工藝之后，基底B穿過(guò)吸附輥152和EPC154，而確保圖案材料P粘附在基底B上，如上所述，且在纏繞區(qū)(W部分)156中纏繞在輥158上。
下面描述利用制造圖案部件的設(shè)備100制造基底B的流程。利用版清洗設(shè)備116和版干燥設(shè)備118對(duì)新版122或已經(jīng)經(jīng)過(guò)轉(zhuǎn)印工藝的版122進(jìn)行清洗/干燥，并輸送到對(duì)應(yīng)于各圖案材料P的相應(yīng)涂覆設(shè)備112(涂覆設(shè)備1至4)。在該操作過(guò)程中，在版干燥設(shè)備118中，版122經(jīng)過(guò)除水區(qū)118A的水分去除，在熱空氣干燥區(qū)118B中在真空下100至300℃的適當(dāng)溫度下干燥，然后在冷卻區(qū)118C中冷卻到室溫。
在涂覆設(shè)備112中，利用涂布輥112A將圖案材料P涂布到版122的圖案部分122A上，直到特定厚度。所涂布的薄膜要求是這樣的，即例如包括相應(yīng)圖案材料P且粘度為數(shù)十mPa·s的液體涂布到圖案部分122A上，直到μm或亞μm級(jí)的薄膜厚度。在干燥之后該薄膜厚度減小至1/30。優(yōu)選的是，在涂布涂覆液時(shí)薄膜厚度的變化限制在±5％。
已經(jīng)涂覆有涂覆液的版122送至涂覆液干燥設(shè)備114，干燥圖案材料P。干燥條件可以根據(jù)涂覆液的成分選??；然而，當(dāng)涂覆液的溶劑是水時(shí)，最好在50至150℃在真空中干燥3分鐘或更長(zhǎng)。已經(jīng)干燥的版122送至轉(zhuǎn)印設(shè)備124。
當(dāng)供應(yīng)到轉(zhuǎn)印設(shè)備124的基底B是柔性支撐帶，且具有通過(guò)獨(dú)立設(shè)置的設(shè)備濺射、真空蒸發(fā)等預(yù)先形成的陰極/帶電子層產(chǎn)生的屏蔽功能時(shí)，例如可以采用下述結(jié)構(gòu)。
在轉(zhuǎn)印設(shè)備124中，通過(guò)以圖案材料P接觸基底的方式將版122之一疊加并定位在基底B上，并從背面頂推基底B和/或版122，每一圖案材料P轉(zhuǎn)印到基底B上，如上所述。通過(guò)對(duì)每一種圖案材料重復(fù)所述操作，可以將多種圖案材料P轉(zhuǎn)印在基底B上。
在轉(zhuǎn)印操作過(guò)程中，當(dāng)轉(zhuǎn)印第一種圖案材料P時(shí)，版122不必精確定位，只要它與基底B平行布置。當(dāng)轉(zhuǎn)印第二種和后續(xù)圖案材料P時(shí)，從生產(chǎn)高精度產(chǎn)品而言，精確定位版122很重要。
轉(zhuǎn)印條件必須根據(jù)圖案材料P和基底B的材料最佳選取。至于轉(zhuǎn)印時(shí)的頂推作用力，當(dāng)例如使用輥?zhàn)硬考?彈性輥?zhàn)颖热缦鹉z輥)進(jìn)行線(xiàn)性頂推時(shí)，可以采用0.5至5kg/m的線(xiàn)性壓力。
至于轉(zhuǎn)印時(shí)的加熱溫度，通?？梢圆捎?0至250℃范圍內(nèi)的溫度，且更優(yōu)選的是采用60至180℃內(nèi)的溫度。優(yōu)選的是在版122和/或基底B(基底支撐座160)中保持余熱，因?yàn)樘岣吡松a(chǎn)率。
在完成了轉(zhuǎn)印工藝之后，基底B經(jīng)過(guò)吸附輥152和EPC(邊緣位置控制設(shè)備)154，以確保圖案材料P粘附在基底B上，如上所述，并在纏繞區(qū)(W部分)156纏繞在輥158上。同時(shí)，版122輸送到版清洗設(shè)備116，并重復(fù)使用。
圖5(a)和5(b)是示出了已經(jīng)轉(zhuǎn)印了圖案材料P的基底B的簡(jiǎn)圖，前面已經(jīng)描述過(guò)。在基底B的表面上，重復(fù)形成具有固定寬度和固定節(jié)距的三種(R、G和B)圖案材料的圖案。
雖然已經(jīng)從制造圖案部件的設(shè)備和方法的優(yōu)選實(shí)施例的角度描述了本發(fā)明，但這些實(shí)施例僅是說(shuō)明性的，并不意味著限制本發(fā)明，而是各種其他實(shí)施例也是可行的。
例如，可以選取與上述不同的各種實(shí)施例，如果根據(jù)圖案部件的產(chǎn)品尺寸、產(chǎn)品類(lèi)型和產(chǎn)品數(shù)量在下述方面改變版122的類(lèi)型和數(shù)目；涂覆設(shè)備112，涂覆液干燥設(shè)備114等的數(shù)目和布局；以及輸送設(shè)備的布置。
而且，在轉(zhuǎn)印設(shè)備124中，代替定位后續(xù)版122而使其移動(dòng)條形或矩陣圖案的一個(gè)節(jié)距的結(jié)構(gòu)，可以選擇定位基底支撐座160(基底B)而使其移動(dòng)條形或矩陣圖案的一個(gè)節(jié)距的結(jié)構(gòu)。
示例示例1下面描述體現(xiàn)本發(fā)明的涂覆方法的示例。利用圖1至3所示的涂覆設(shè)備10將涂覆薄膜涂布在織物12上，然后評(píng)價(jià)涂覆表面的狀態(tài)。
作為織物12，使用0.02mm的PET薄膜。作為涂覆液，使用混合并分散有顏料、粘結(jié)劑、乙醇和涂覆助劑，且粘度調(diào)整到7mPa·s的液體。涂覆寬度和涂覆厚度(濕態(tài))分別設(shè)定為1m和20μm，在改變織物12的輸送速度U(單位m/min)的同時(shí)進(jìn)行涂覆。上述涂覆液的粘度7mPa·s和涂覆厚度(濕態(tài))20μm的設(shè)定使干燥之后涂覆厚度變?yōu)?.1μm。在涂覆之后，涂覆頭18和干燥設(shè)備20之間的涂覆薄膜表面上的相對(duì)氣流速度V0(單位m/sec)和干燥設(shè)備30中的涂覆薄膜表面上的相對(duì)氣流速度V1(單位m/sec)分別利用熱線(xiàn)風(fēng)速計(jì)測(cè)量。利用固定在織物12上的熱線(xiàn)風(fēng)速計(jì)進(jìn)行測(cè)量。在測(cè)量過(guò)程中使用的織物12模型，涂覆表面狀態(tài)的評(píng)價(jià)利用在相同條件下已經(jīng)干燥的另一織物12進(jìn)行。
作為織物12剛從干燥設(shè)備30出來(lái)的位置的涂覆薄膜的粘度ρ(單位mPa·s)，首先得到涂覆薄膜的蒸發(fā)損失，然后通過(guò)離線(xiàn)強(qiáng)制蒸發(fā)薄膜而準(zhǔn)備涂覆薄膜的液體，然后利用B型粘度計(jì)測(cè)量液體的粘度。
在干燥設(shè)備30中，內(nèi)部氣溫設(shè)為100℃，紅外加熱器34、34的溫度設(shè)為200℃。在一個(gè)比較例(示例5)中，加熱器34、34設(shè)為OFF。而且，在比較例中，去除全部或部分屏蔽板，使涂覆薄膜表面上的相對(duì)氣流速度V1增加。
在干燥設(shè)備32中，內(nèi)部氣溫設(shè)為80℃，干燥設(shè)備32內(nèi)的氣流速度設(shè)為3至5m/sec。
通過(guò)對(duì)涂覆的非均勻性主要進(jìn)行目測(cè)評(píng)價(jià)涂覆表面的狀態(tài)。良好狀態(tài)的涂覆表面為“A”，臨界狀態(tài)的為“B”，明顯不均勻的為“F”。上述參數(shù)、測(cè)量值和評(píng)價(jià)結(jié)果在表1中匯總。
表1

在表1中，示例1和2是在本發(fā)明范圍內(nèi)的條件下制成涂覆薄膜的方法，示例3至5示為比較例。具體而言，示例3和4是在干燥設(shè)備30中的涂覆薄膜表面上的相對(duì)氣流速度V1在本發(fā)明的范圍之外的涂覆方法，而示例5是在織物12剛從干燥設(shè)備30出來(lái)的位置涂覆薄膜的粘度ρ在本發(fā)明的范圍之外的涂覆方法。
比較表1中所示的評(píng)價(jià)結(jié)果，在作為本發(fā)明的實(shí)施例的示例1和2中得到了滿(mǎn)意的涂覆表面，與作為比較例的示例3和5由于整個(gè)干燥過(guò)程的不均勻性而造成臨界的涂覆表面形成對(duì)照。在作為比較例的示例4中，由于其顯著的干燥不均勻性，所得到的涂覆表面較差。
推測(cè)示例3中的干燥不均勻性是由于涂覆薄膜表面上較高的相對(duì)氣流速度V1造成的。
推測(cè)示例4中的明顯的干燥不均勻性是由于涂覆薄膜表面上明顯較高的相對(duì)氣流速度V1造成的。
推測(cè)示例5中的干燥不均勻性是由于這一事實(shí)造成的，即紅外加熱器34、34設(shè)為關(guān)閉，干燥速度下降，進(jìn)入干燥設(shè)備32的織物的涂覆薄膜的粘度仍然較低。
示例2下面描述體現(xiàn)本發(fā)明的涂覆方法的示例。利用圖1至3所示的涂覆設(shè)備10將涂覆薄膜涂布在織物12上，然后評(píng)價(jià)涂覆表面的狀態(tài)。
作為織物12，使用0.02mm的PET薄膜。作為涂覆液，使用混合并分散有顏料、粘結(jié)劑、乙醇和涂覆助劑，且粘度調(diào)整到7mPa·s的液體。涂覆寬度和涂覆厚度(濕態(tài))分別設(shè)定為1m和30μm，在改變輸送的涂覆液每cm寬度的量A(單位ml/sec)、從涂覆頭18尖端到織物12表面的距離t(單位mm)以及輸送速度U(單位m/min)的同時(shí)進(jìn)行涂覆。
上述涂覆液的粘度7mPa·s和涂覆厚度(濕態(tài))30μm的設(shè)定使干燥之后涂覆厚度變?yōu)?.2μm。
通過(guò)對(duì)涂覆的非均勻性主要進(jìn)行目測(cè)評(píng)價(jià)涂覆表面的狀態(tài)。良好狀態(tài)的涂覆表面為“A”，臨界狀態(tài)的為“B”，明顯不均勻的為“F”。上述參數(shù)、測(cè)量值和評(píng)價(jià)結(jié)果在表2中匯總。
表2

在表2中，從涂覆頭18尖端到支撐輥20的頂部的垂直距離H(單位mm，如圖1所示)、涂覆頭18的狹縫18C中的涂覆液的平均流速V(單位mm/sec)、和涂覆之后將織物12保持在水平狀態(tài)所需的時(shí)間T(單位sec)不可避免地由涂覆設(shè)備10的設(shè)定參數(shù)和結(jié)構(gòu)確定。
在表2中，示例11和12是在本發(fā)明的范圍內(nèi)的條件下制成涂覆薄膜的方法，示例13至15示為比較例。具體而言，示例13和14是在涂覆頭18的狹縫18C的涂覆液的平均流速V在本發(fā)明的范圍之外的涂覆方法，而示例15是涂覆織物12保持在水平狀態(tài)所需的時(shí)間T在本發(fā)明的范圍之外的涂覆方法。
比較表2中所示的評(píng)價(jià)結(jié)果，在作為本發(fā)明的實(shí)施例的示例11和12中得到了滿(mǎn)意的涂覆表面，與作為比較例的示例14和15由于整個(gè)干燥過(guò)程的不均勻性而造成臨界的涂覆表面形成對(duì)照。在作為比較例的示例13中，由于其顯著的干燥不均勻性，所得到的涂覆表面較差。
示例3下面詳細(xì)描述當(dāng)根據(jù)本發(fā)明制造OLED元件時(shí)使用的材料等。基底B可以由下述材料制成例如無(wú)機(jī)材料比如由氧化鋯穩(wěn)定的氧化釔(YSZ)或玻璃；聚酯比如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二酯或聚乙烯萘酯、大分子材料比如聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜醚、聚丙烯酸酯、丙烯二甘醇碳酸酯、聚酰亞胺、聚環(huán)烯、降冰片樹(shù)脂、聚氯三氟乙烯、Teflon(注冊(cè)商標(biāo))或聚四氟乙烯—聚乙烯共聚物；金屬箔比如鋁箔、銅箔、不銹鋼箔、金箔或銀箔；或聚酰亞胺或液晶聚合物制成的塑料片。
在該實(shí)施例中，從耐破裂、易彎曲和重量輕的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使用柔性基底B。作為形成這種基底B的材料，優(yōu)選使用聚酰亞胺、聚酯、聚碳酸酯、聚砜醚、金屬箔(例如鋁箔、銅箔、不銹鋼箔、金箔或銀箔)、液晶聚合物或含氟大分子測(cè)量(聚氯三氟乙烯、Teflon(注冊(cè)商標(biāo))或聚四氟乙烯—聚乙烯共聚物)制成的塑料片，它們?cè)谀蜔?、尺寸穩(wěn)定性、耐溶劑、電絕緣性能、可加工性、低透氣性和低水分吸收方面優(yōu)良。
根據(jù)有機(jī)薄膜元件的應(yīng)用和目的，可以適當(dāng)?shù)剡x擇基底B的形狀、結(jié)構(gòu)和尺寸等。所述結(jié)構(gòu)可以是單層結(jié)構(gòu)或?qū)盈B結(jié)構(gòu)?；譈可以單個(gè)部件或兩個(gè)或多個(gè)部件形成。而且，基底B可以是透明的或不透明的。然而，當(dāng)從支撐側(cè)發(fā)光時(shí)，因?yàn)橄旅鎸⒚枋龅耐该麟姌O位于基底B一側(cè)，相對(duì)于包括發(fā)光層的有機(jī)層，所以基底B最好是無(wú)色的、透明的或有色的、透明的，且從抑制光線(xiàn)散射和衰減的角度出發(fā)，基底B最好是無(wú)色透明的。
作為即使形成電極并產(chǎn)生發(fā)光層時(shí)也不短路的柔性基底B，最好是金屬箔制成的基底B，并且在金屬箔的一側(cè)或兩側(cè)設(shè)有絕緣層。所使用的金屬箔的種類(lèi)不特別限制，可以使用任何金屬箔，比如鋁箔、銅箔、不銹鋼箔、金箔或銀箔。然而，從易于處理和成本而言，鋁箔或銅箔尤其推薦使用。
所述絕緣層不特別限制于任何特定種類(lèi)，它可以由下述材料制成無(wú)機(jī)材料，比如無(wú)機(jī)氧化物或無(wú)機(jī)氮化物；聚酯，比如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二酯或聚乙烯萘酯；或塑料，比如聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜醚、聚丙烯酸酯、丙烯二甘醇碳酸酯、聚酰亞胺、聚環(huán)烯、降冰片樹(shù)脂、聚氯三氟乙烯或聚酰亞胺。
優(yōu)選的是，基底B具有20ppm/℃或更小的線(xiàn)性熱膨脹系數(shù)。所述線(xiàn)性熱膨脹系數(shù)這樣確定，在以固定速度加熱試樣時(shí)通過(guò)TMA方法檢測(cè)試樣長(zhǎng)度的變化。當(dāng)在粘結(jié)過(guò)程中或使用時(shí)加熱基底時(shí)，大于20ppm/℃的線(xiàn)性熱膨脹系數(shù)有助于電極和有機(jī)薄膜層從基底的剝離，從而降低基底的耐久性。
優(yōu)選的是，位于基底B上的絕緣層也具有20ppm/℃或更小的線(xiàn)性熱膨脹系數(shù)。作為用于形成具有20ppm/℃或更小的線(xiàn)性熱膨脹系數(shù)的絕緣層的材料，優(yōu)選使用金屬氧化物，比如氧化硅、氧化鍺、氧化鋅、氧化鋁、氧化鈦和氧化銅；金屬氮化物，比如氮化硅、氮化鍺和氮化鋁，且可以使用上述材料的一種或兩種或多種的組合作為所述材料。
優(yōu)選的是，金屬氧化物和/或金屬氮化物制成的無(wú)機(jī)絕緣層的厚度為10nm至1000nm。如果無(wú)機(jī)絕緣層的厚度小于10nm，則絕緣性能過(guò)低，但如果無(wú)機(jī)絕緣層的厚度大于1000nm，則絕緣層中可能產(chǎn)生裂紋，而導(dǎo)致絕緣層中產(chǎn)生針孔，并降低絕緣性能。
形成金屬氧化物和/或金屬氮化物制成的無(wú)機(jī)絕緣層的工藝不限于任何特定的一種，可以使用干式工藝，比如濺射工藝和CVD工藝，濕式工藝，比如溶膠—凝膠工藝，或金屬氧化物和/或金屬氮化物顆粒分散在溶劑中、然后涂布在金屬箔一側(cè)或兩側(cè)的工藝。
作為具有20ppm/℃或更小的線(xiàn)性熱膨脹系數(shù)的塑料，優(yōu)選使用聚酰亞胺和液晶聚合物。這些塑料的細(xì)節(jié)例如在“塑料數(shù)據(jù)手冊(cè)”(“塑料”編輯部編輯，Asahi Kaser AMIDAS)中描述。
當(dāng)使用聚酰亞胺等作為絕緣層時(shí)，優(yōu)選的是使一片聚酰亞胺等與鋁箔層疊。聚酰亞胺等薄片的厚度優(yōu)選為10μm至200μm。如果聚酰亞胺等薄片的厚度小于10μm，則在層疊時(shí)處理薄片存在困難，但如果聚酰亞胺等薄片的厚度大于200μm，則薄片的柔性下降，處理不方便。
所述絕緣層可以位于金屬箔的一側(cè)或兩側(cè)。當(dāng)在金屬箔兩側(cè)設(shè)有絕緣層時(shí)，兩側(cè)可以設(shè)有金屬氧化物和/或金屬氮化物形成的絕緣層或設(shè)有塑料比如聚酰亞胺制成的絕緣層?；蛘?，金屬箔的一側(cè)設(shè)有金屬氧化物和/或金屬氮化物形成的絕緣層，而另一側(cè)設(shè)有聚酰亞胺片形成的絕緣層。根據(jù)情況，也可以設(shè)有硬涂層或底涂層。
在基底B的電極側(cè)面上或相對(duì)側(cè)面上，或兩表面上也可設(shè)有防水滲透層(氣障層)。作為構(gòu)成防水滲透層的材料，優(yōu)選使用無(wú)機(jī)材料，比如氮化硅或氧化硅?？梢酝ㄟ^(guò)射頻濺射工藝等形成防水滲透層。根據(jù)情況，基底B可以設(shè)有硬涂層或底涂層。
優(yōu)選的是，基底B由金屬箔制成，且在金屬箔的一側(cè)或兩側(cè)上設(shè)有絕緣層。金屬箔的種類(lèi)不具體限定于任何特定的種類(lèi)?？梢允褂媒饘俨?，比如鋁箔、銅箔、不銹鋼箔、金箔或銀箔。從易于處理和成本而言，優(yōu)選使用鋁箔或銅箔。
絕緣層不具體限于任何特定的種類(lèi)，它可以由下述材料制成例如無(wú)機(jī)材料，比如無(wú)機(jī)氧化物或無(wú)機(jī)氮化物；聚酯，比如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二酯或聚乙烯萘酯；或塑料，比如聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜醚、聚丙烯酸酯、丙烯二甘醇碳酸酯、聚酰亞胺、聚環(huán)烯、降冰片樹(shù)脂、聚氯三氟乙烯或聚酰亞胺。
優(yōu)選的是，基底B的透水率為0.1g/m2·天或更小，更優(yōu)選的是0.05g/m2·天或更小，尤其優(yōu)選的是0.01g/m2·天或更小。
優(yōu)選的是，基底B的透氧性為0.1ml/m2·天·大氣壓或更小，更優(yōu)選的是0.05ml/m2·天·大氣壓或更小，尤其優(yōu)選的是0.01ml/m2·天·大氣壓或更小。
透水性可以由根據(jù)JIS K7129B(主要是MOCON方法)的方法確定。透氧性可以由根據(jù)JIS K7126B(主要是MOCON方法)的方法確定。將基底的透水性和透氧性限制在上述范圍內(nèi)可以防止水或氧進(jìn)入發(fā)光元件，其中水和氧是元件耐久性下降的原因。
基底B上形成的電極，透明電極或背面電極可以用作陰極或陽(yáng)極。是陰極還是陽(yáng)極取決于構(gòu)成有機(jī)薄膜元件的成分。作為陽(yáng)極，其形狀、結(jié)構(gòu)和尺寸等不具體限制，只要它起到為有機(jī)薄膜層提供空穴(正空穴)的作用，且可以根據(jù)發(fā)光元件的應(yīng)用和目的，從公知的電極中選取。
作為形成陰極的材料，可以使用單質(zhì)的金屬、合金、金屬氧化物、導(dǎo)電復(fù)合物，或其混合物，優(yōu)選的是可以使用逸出功為4.5eV的材料。具體的示例包括，例如堿金屬(例如Li，Na，K，Cs)、堿土金屬(例如Mg，Ca)、金、銀、鉛、鋁、鈉—鉀合金、鋰—鋁合金、錳銀合金、銦、稀土金屬(例如釔)。這些材料中的每一種都可以單獨(dú)使用；然而，從穩(wěn)定性和電子注入性而言，優(yōu)選使用兩種或多種材料組合。
在上述材料中，從電子注入性而言，堿金屬和堿土金屬是優(yōu)選的，從儲(chǔ)存穩(wěn)定性而言，含有鋁作為主要成分的材料是優(yōu)選的。在此所用的術(shù)語(yǔ)“含有鋁作為主要成分的材料”不僅指單質(zhì)的鋁，而且指鋁和重量百分比為0.01％至10％的堿金屬的合金或混合物，以及鋁和重量百分比為0.01％至10％的堿土金屬(例如，鋰—鋁合金，錳—鋁合金)的合金或混合物。
當(dāng)從陰極側(cè)發(fā)光時(shí)，必須使用透明陰極。作為透明電極，可以使用任何電極，只要它們基本上透光。為了使電子注入性和透明度互相兼容，陰極可以具有兩層結(jié)構(gòu)，包括作為薄膜的金屬層和透明的導(dǎo)電層。用于薄膜金屬層的材料已在日本專(zhuān)利申請(qǐng)公報(bào)No.2-15595和No.5-12117中詳細(xì)描述。優(yōu)選的是，薄膜金屬層的厚度為1nm至50nm。如果厚度小于1nm，則難以均勻地形成薄膜，但如果厚度大于50nm，則透光性下降。
作為用于透明的導(dǎo)電層的材料，不限于任何特定的種類(lèi)，優(yōu)選使用用于上述陽(yáng)極的任何材料，只要它們是導(dǎo)電或半導(dǎo)體材料。優(yōu)選的材料包括例如摻雜銻或氟的氧化錫(ATO，F(xiàn)TO)、氧化錫、氧化鋅、氧化銦、氧化銦錫(ITO)和氧化銦鋅(IZO)。
優(yōu)選的是，透明導(dǎo)電層的厚度為30nm至500nm。如果透明導(dǎo)電層的厚度小于30nm，則導(dǎo)電性和半導(dǎo)電性下降，但如果透明導(dǎo)電層的厚度大于500nm，則生產(chǎn)率下降。
用于形成陰極的工藝不限于任何特定的工藝，可以使用任何已知工藝。優(yōu)選的是，陰極在真空設(shè)備中制成?？紤]到陰極材料的適用性，可以從物理工藝，比如真空沉積工藝、濺射工藝和離子電鍍工藝，和化學(xué)工藝，比如CVD工藝和等離子CVD工藝中選擇。例如，當(dāng)選擇金屬等作為陰極材料時(shí)，可以通過(guò)一次或依次濺射一種或兩種或多種金屬而制成陰極。當(dāng)使用有機(jī)導(dǎo)電材料時(shí)，可以使用濕式薄膜成形工藝。
陰極可以通過(guò)使用光刻等的化學(xué)蝕刻、利用激光等的物理蝕刻、利用掩模的真空沉積工藝或?yàn)R射工藝，或提升(lift off)法或印刷法形成圖案。
可以在陰極和有機(jī)薄膜層之間插入厚度為0.1nm至5nm的堿金屬氟化物或堿土金屬氟化物制成的絕緣層?？梢酝ㄟ^(guò)例如真空沉積工藝、濺射工藝或離子電鍍工藝形成絕緣層。
根據(jù)圖7至10所示的工藝制造圖案部件。版22使用三塊凸版，用于OLED元件的R、G和B油墨涂布到版上。涂覆的油墨厚度調(diào)節(jié)為在干燥狀態(tài)時(shí)變成0.05μm。
R、G和B油墨(圖案材料P)的成分如下按質(zhì)量計(jì)，具有圖11所示化學(xué)式的每種化合物1有1份，具有圖12所示化學(xué)式(平均分子量為17000)的每種化合物2有40份，和3200份二氯乙烷。
在這些圖案材料P中，R油墨(圖案材料P)是從化合物1的R-1、R-2和R-3中選擇的，G油墨(圖案材料P)是從化合物1的G-1和G-2中選擇的，B油墨(圖案材料P)是從化合物1的B-1和B-2中選擇的。
從上述化合物1中制備5種不同顏色的油墨組合(參照下述的表3)進(jìn)行圖案轉(zhuǎn)印。
作為基底B，使用50μm厚的聚酰亞胺薄膜(Ube Industries，Ltd.生產(chǎn)，商品名UPILEX-50S)。在對(duì)基底B表面處理之后，在約0.1mPa的減小壓力環(huán)境中Al汽化沉積在基底上，形成0.3μm厚的電極。然后，LiF汽化沉積在Al沉積的基底上，而形成與Al層相同圖案的3nm厚的絕緣層。
圖案的轉(zhuǎn)印以這種方式進(jìn)行，即使版22和基底B互相相對(duì)，通過(guò)加熱到20℃的基底支撐座60對(duì)它們施加12Mpa的壓力，并保持15秒，如圖7所示。這種操作重復(fù)三次，同時(shí)使版22和基底B互相對(duì)齊。
圖案轉(zhuǎn)印的結(jié)果通過(guò)利用光學(xué)顯微鏡目測(cè)進(jìn)行評(píng)價(jià)。所關(guān)注的限于圖案的均勻性，在沒(méi)有觀測(cè)到缺陷時(shí)，圖案的轉(zhuǎn)印定為A級(jí)，在觀測(cè)到缺陷時(shí)，定為P級(jí)。評(píng)價(jià)結(jié)果在表3中匯總。表3示出在每種顏色油墨組合中結(jié)果良好。
表3

如前所述，根據(jù)本發(fā)明，因?yàn)樵谕坎剂送扛惨褐蟮耐扛脖∧ず穸缺３衷谶m當(dāng)范圍內(nèi)，且涂覆薄膜表面上的相對(duì)氣流速度保持在0.2m/sec或更小，直到涂覆液的粘度變?yōu)樘囟ㄖ?，所以可以獲得具有較高的厚度精度和平滑表面的非常薄的薄膜。
而且，根據(jù)本發(fā)明，許多不同種類(lèi)的材料(R、G和B)可以首先以圖案方式轉(zhuǎn)印到基底上在例如為紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B)制備的相應(yīng)柔性支撐帶(轉(zhuǎn)印片)上涂布材料；干燥轉(zhuǎn)印片；以所述薄片上的材料與所述基底相對(duì)的方式在將成為產(chǎn)品的基底上疊加一層轉(zhuǎn)印片；然后利用推板從背面頂推轉(zhuǎn)印片。如果對(duì)每種材料(R、G和B)重復(fù)這種操作，則可以形成圖案部件(例如，OLED元件或用于液晶顯示器的濾色器)。
根據(jù)本發(fā)明，因?yàn)橥扛差^的狹縫中的涂覆液的平均流速保持在適當(dāng)范圍內(nèi)，且在涂布了涂覆液之后很短時(shí)間內(nèi)織物處于水平位置，所以可以獲得具有較高的厚度精度和平滑表面的非常薄的薄膜。
而且，根據(jù)本發(fā)明，許多不同種類(lèi)的材料(R、G和B)可以首先以圖案方式轉(zhuǎn)印到基底上在例如為紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B)制備的相應(yīng)柔性支撐帶(轉(zhuǎn)印片)上涂布材料；干燥轉(zhuǎn)印片；以所述薄片上的材料與所述基底相對(duì)的方式在將成為產(chǎn)品的基底上疊加一層轉(zhuǎn)印片；然后利用推板從背面頂推轉(zhuǎn)印片。如果對(duì)每種材料(R、G和B)重復(fù)這種操作，則可以形成圖案部件(例如，OLED元件或用于液晶顯示器的濾色器)。
根據(jù)本發(fā)明，圖案形式的材料可以轉(zhuǎn)印到基底上在例如已經(jīng)形成紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B)圖案的相應(yīng)版上以圖案形式涂布許多不同種類(lèi)的材料(R、G和B)；干燥所述版；以所述版上的圖案接觸基底的方式在將成為產(chǎn)品的基底上疊加并定位一塊版；然后利用推板從背面頂推轉(zhuǎn)印片。如果對(duì)每種材料(R、G和B)重復(fù)這種操作，則可以形成圖案部件(例如，OLED元件或用于液晶顯示器的濾色器)。
因此，在制造圖案部件的過(guò)程中，本發(fā)明可以提高生產(chǎn)率和產(chǎn)品質(zhì)量(圖案精度)，其中在基底上以圖案形式形成多種不同種類(lèi)的材料。
然而，應(yīng)當(dāng)理解，并不意圖將本發(fā)明限制于所公開(kāi)的具體形式，而正相反，本發(fā)明旨在覆蓋落在所附權(quán)利要求表述的本發(fā)明的思想和范圍內(nèi)的所有改進(jìn)方式、替代結(jié)構(gòu)和等效方案。
權(quán)利要求
1.一種涂覆方法，包括步驟通過(guò)涂覆頭(18)的狹縫(18C)供給并涂布涂覆液，以便在離涂覆頭(18)固定距離處的連續(xù)行進(jìn)的織物(12)上形成特定厚度的涂覆薄膜(28)；以及隨后干燥所述織物(12)上形成的涂覆薄膜(28)；其中，緊接涂布步驟之后涂覆薄膜(28)的厚度設(shè)為2至40μm，涂覆薄膜(28)表面上的相對(duì)氣流速度設(shè)為0.2m/sec或更小，直到涂布的涂覆液粘度變?yōu)?00mPa.s。
2.如權(quán)利要求1所述的涂覆方法，其特征在于，涂覆步驟中所述涂覆液的粘度為10mPa.s或更小。
3.如權(quán)利要求1所述的涂覆方法，其特征在于，所述涂覆液包含有機(jī)溶劑。
4.如權(quán)利要求1所述的涂覆方法，其特征在于，干燥之后所述涂覆薄膜(28)的厚度為0.01至0.4μm。
5.一種涂覆方法，包括步驟通過(guò)涂覆頭(18)的狹縫(18C)供給并涂布涂覆液，以便在離涂覆頭(18)固定距離處的連續(xù)行進(jìn)的織物(12)上形成特定厚度的涂覆薄膜(28)；其中，涂覆頭(18)的狹縫(18C)中的涂覆液的平均流速設(shè)為100至500mm/sec，緊接涂布步驟之后涂覆薄膜(28)的厚度設(shè)為2至40μm，并且在涂布步驟之后0.5秒內(nèi)織物(12)保持在水平位置。
6.如權(quán)利要求5所述的涂覆方法，其特征在于，涂覆步驟中的涂覆液粘度為10mPa.s或更小。
7.如權(quán)利要求5所述的涂覆方法，其特征在于，所述涂覆液包含有機(jī)溶劑。
8.如權(quán)利要求5所述的涂覆方法，其特征在于，干燥之后所述涂覆薄膜(28)的厚度為0.01至0.4μm。
9.一種涂覆設(shè)備(10)，包括具有狹縫(18C)的涂覆頭(18)，涂覆液經(jīng)該狹縫(18C)輸送并涂布，以便在離涂覆頭(18)固定距離處的連續(xù)行進(jìn)的織物(12)上形成特定厚度的涂覆薄膜(28)；以及隨后干燥所述織物(12)上形成的涂覆薄膜(28)的干燥裝置(10C)，所述干燥裝置(10C)能控制涂覆薄膜(28)表面上的相對(duì)氣流速度到0.2m/sec或更小。
10.如權(quán)利要求9所述的涂覆設(shè)備(10)，其特征在于，所述干燥裝置(10C)包括加熱器加熱干燥裝置(34)、輥式加熱干燥裝置、真空干燥裝置和低濕度環(huán)境干燥裝置中的至少一個(gè)。
11.一種涂覆設(shè)備(10)，包括具有狹縫(18C)的涂覆頭(18)，涂覆液經(jīng)該狹縫(18C)輸送并涂布，以便在離涂覆頭(18)固定距離處的連續(xù)行進(jìn)的織物(12)上形成特定厚度的涂覆薄膜(28)；其中，所述涂覆設(shè)備(10)能在100至500mm/sec的范圍內(nèi)改變涂覆頭(18)狹縫(18C)中的涂覆液的平均流速，并在涂布了涂覆液之后0.5秒內(nèi)將所述織物(12)保持在水平位置。
12.一種利用具有通過(guò)權(quán)利要求1至8任一所述的涂覆方法在其上形成相應(yīng)的涂覆薄膜(28)的織物(12R，12G，12B)制造圖案部件的方法，其中多種不同種類(lèi)的材料(P(R)，P(G)，P(B))在基底(B)上以圖案形式形成，所述方法包括步驟在為所述材料制備的相應(yīng)織物(12R，12G，12B)上涂布不同種類(lèi)的材料(P(R)，P(G)，P(B))；干燥已經(jīng)涂布了相應(yīng)材料(P(R)，P(G)，P(B))的織物(12R，12G，12B)；對(duì)每種材料(P(R)，P(G)，P(B))重復(fù)進(jìn)行以已經(jīng)涂布在織物(12R，12G，12B)上的材料(P(R)，P(G)，P(B))與所述基底(B)相對(duì)的方式將織物(12R，12G，12B)之一疊加在基底(B)上、并利用推板(40)從其背面頂推織物(12R，12G，12B)以使所述材料(P(R)，P(G)，P(B))以圖案方式轉(zhuǎn)印到基底(B)上的操作，從而使多種不同種類(lèi)材料(P(R)，P(G)，P(B))在基底(B)上形成圖案。
13.如權(quán)利要求12所述的用于制造圖案部件的方法，其特征在于，所述推板(40)在其表面形成有圖案形式的突起(40A)。
14.如權(quán)利要求12所述的用于制造圖案部件的方法，其特征在于，所述多種不同種類(lèi)的材料包括對(duì)應(yīng)至少紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B)的用于發(fā)光或顯示的材料(P(R)，P(G)，P(B))。
15.如權(quán)利要求12所述的用于制造圖案部件的方法，其特征在于，所述基底(B)是織物。
16.一種用于制造多種不同種類(lèi)的材料(P)以圖案形式在基底(B)上形成的圖案部件的方法，包括步驟在已經(jīng)形成相應(yīng)材料(P)圖案的相應(yīng)版(122R，122G，122B，122I)上涂布不同種類(lèi)的材料(P)；干燥在其表面涂布材料(P)的版(122R，122G，122B，122I)；對(duì)每種材料(P)重復(fù)進(jìn)行以所述圖案(P)接觸基底(B)的方式將一塊版(122R，122G，122B，122I)疊加并定位在基底(B)上、并從它們背面頂推基底(B)和/或版(122R，122G，122B，122I)以使所述圖案(P)轉(zhuǎn)印到基底(B)上的操作，從而使不同種類(lèi)的材料(P)以圖案形式形成在基底(B)上。
17.如權(quán)利要求16所述的用于制造圖案部件的方法，其特征在于，所述版(122R，122G，122B，122I)在其表面形成有圖案形式的突起(122A)。
18.如權(quán)利要求16所述的用于制造圖案部件的方法，其特征在于，所述多種不同種類(lèi)的材料(P)包括對(duì)應(yīng)至少紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B)的用于發(fā)光或顯示的材料。
19.如權(quán)利要求16所述的用于制造圖案部件的方法，其特征在于，所述基底(B)是織物。
20.如權(quán)利要求16所述的用于制造圖案部件的方法，其特征在于，如果在將已經(jīng)形成圖案的材料(P)轉(zhuǎn)印到基底(B)上之后對(duì)版進(jìn)行清洗和干燥，可以重復(fù)使用所述版(122R，122G，122B，122I)。
21.一種用于制造有多種不同種類(lèi)的材料(P)以圖案形式在基底(B)上形成的圖案部件的設(shè)備，包括以不同的材料(P)涂覆版(122)的涂覆裝置(112)，其中在所述版上已經(jīng)形成不同材料(P)的圖案；干燥其表面已經(jīng)涂布所述材料(P)的版(122)的干燥裝置(114)；以及轉(zhuǎn)印裝置(124)，通過(guò)以所述圖案(P)接觸所述基底(B)的方式在基底(B)上疊加并定位一塊版，且從它們背面頂推基底(B)和/或版(122)，將所述圖案(P)轉(zhuǎn)印到基底(B)上。
全文摘要
在用于制造圖案部件的方法中，多種不同種類(lèi)的材料(P)在織物(B)上形成相應(yīng)的圖案。在該方法中，上面已經(jīng)形成用于圖案部件的材料層(P)的材料轉(zhuǎn)印片(12)位于所述織物(B)附近，且沿與織物(B)行進(jìn)方向相交的方向行進(jìn)，同時(shí)使織物(B)行進(jìn)，在織物(B)和所述材料轉(zhuǎn)印片(12)的交點(diǎn)處，利用轉(zhuǎn)印裝置(50)將用于圖案部件的材料層(P)從所述材料轉(zhuǎn)印片(12)上轉(zhuǎn)印到織物(B)上，從而形成圖案。這樣，在制造圖案部件的過(guò)程中提高生產(chǎn)率和產(chǎn)品質(zhì)量。
文檔編號(hào)H01L51/00GK1473664SQ0311018
公開(kāi)日2004年2月11日 申請(qǐng)日期2003年4月15日 優(yōu)先權(quán)日2002年4月15日
發(fā)明者高田克彥, 永野英男, 小川正太郎, 勝本隆一, 一, 太郎, 男 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社