專利名稱：光學(xué)媒質(zhì)反射材料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種存儲(chǔ)媒質(zhì)，該媒質(zhì)通過吸收光而產(chǎn)生的熱效應(yīng)記錄數(shù)據(jù)。特別是，本發(fā)明是針對(duì)可記錄的光盤，它包括一層用于將某一波長的光通過記錄光盤反射出去的金屬反射層。
光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)媒質(zhì)包括范圍很廣的材料和信號(hào)機(jī)制，還包括在媒質(zhì)制成前就在其中進(jìn)行記錄(“只讀”)的媒質(zhì)，數(shù)據(jù)能直接記錄于其上并變?yōu)橛谰眯怨潭?一次性寫入)的媒質(zhì)，以及能在其上記錄、消除和再記錄(“可清除”)的媒質(zhì)，光學(xué)信號(hào)一般有三類反射、透射和吸收。這些信號(hào)可以通過多種方法產(chǎn)生，包括形成突起的媒質(zhì)，在該媒質(zhì)中，凹點(diǎn)(或突起)在媒質(zhì)的若干層中形成;光密度變化材料(諸如那些在吸收光后發(fā)生光密度變化的照相底片、光致抗蝕劑和光聚合物);相變材料(在吸收光后從結(jié)晶狀態(tài)變?yōu)榉墙Y(jié)晶狀態(tài)，或者相反);磁-光材料(在磁場(chǎng)下進(jìn)行局部加熱以改變磁化方向來記錄信號(hào));以及燒蝕薄膜(其中，所記錄的圖型引起光的幅度調(diào)制)。
這些技術(shù)中很多都是熱-光記錄的例子，其中，來自激光器的光被聚焦成在媒質(zhì)內(nèi)一特定深度處的小的、通常是受衍射限制的點(diǎn)。聚焦的光的能量加熱這個(gè)點(diǎn)，形成起數(shù)據(jù)存儲(chǔ)作用的變化。
媒質(zhì)的構(gòu)造隨著記錄于其上的信號(hào)的類型而變化，或者取決于制作期間制入其結(jié)構(gòu)的信號(hào)。光學(xué)媒質(zhì)一般是多層結(jié)構(gòu)。燒蝕媒質(zhì)形成一單層的聚合物層，它可以覆蓋一金屬反射層。形成突起點(diǎn)的媒質(zhì)具有多層結(jié)構(gòu)。也包括一金屬的反射層。
包含吸收能力不同的層的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)媒質(zhì)的例子如公開號(hào)為136070、公告日為1985年4月3日、標(biāo)題為“用于在媒質(zhì)上記錄數(shù)據(jù)的可清除的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)媒質(zhì)及其制造方法和裝置”(光學(xué)數(shù)據(jù)公司)的歐州專利申請(qǐng)以及與本發(fā)明一起提交的申請(qǐng)?zhí)枮?、發(fā)明人為B·克拉克，J·法恩根和R·格法、受讓人姓名與本發(fā)明的受讓人姓名相同的、標(biāo)題為“基片入射記錄用的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)媒質(zhì)”的美國專利申請(qǐng)。在這些媒質(zhì)里，二進(jìn)制的光學(xué)數(shù)據(jù)成凹點(diǎn)或突起出現(xiàn)在原來是平整的反射面上，該反射面可以是反射率不同的兩個(gè)層間的部分反射交界面，或者是全反射面，例如一金屬膜片。
將染料-聚合物技術(shù)應(yīng)用于記錄媒質(zhì)是供在光學(xué)重放機(jī)，諸如小型光盤(R)音頻唱機(jī)、激光顯示(R)視頻重放機(jī)和小型光盤-只讀存儲(chǔ)器計(jì)算機(jī)系統(tǒng)上重放之用。這些應(yīng)用要求媒質(zhì)對(duì)于重放激光的波長具有大于70%的吸收，波長一般為780nm。市場(chǎng)上供應(yīng)的預(yù)先記錄的光盤用鋁，偶而也用金真空淀積或?yàn)R射在記錄的信息上來滿足這種要求。試驗(yàn)的、可記錄的染料-聚合物媒質(zhì)也有使用鋁或金的，不論工作原理是燒蝕還是形成突起。然而，這兩種類型的染料-聚合物媒質(zhì)對(duì)于金屬反射層有不同的要求。
在燒蝕媒質(zhì)中，當(dāng)聚合物層由于記錄激光的作用而被除去時(shí)，金屬層上正好與聚合物相同的區(qū)域也必需被除去。這是為了保證反射的未記錄的記號(hào)和已記錄的記號(hào)的差別大到足以被重放系統(tǒng)探測(cè)出來而必需的。同時(shí)除去聚合物層和金屬層，更容易探測(cè)到已記錄的區(qū)域和未記錄的區(qū)域的差別。
由于使用鋁和金，困難也隨之出現(xiàn)，因?yàn)樵谝话銞l件下，要除去金屬反射層以及聚合層，需要一極高的溫度?？刂品瓷鋵拥娜廴谑抢щy的。另外，如果除去金屬層，爆破會(huì)造成破碎的邊緣。
在形成突起的媒質(zhì)里，當(dāng)聚合物層變形時(shí)，金屬層必需通過由記錄激光在兩層結(jié)構(gòu)中產(chǎn)生的力同時(shí)變形。該形變必需大到足以使突起能被重放系統(tǒng)探測(cè)到。在這種方式里，鋁和金要變形也是困難的。
計(jì)算機(jī)模型表明，在聚合物層里記錄光束的焦點(diǎn)處的溫度在一般記錄條件下是大約800℃。因?yàn)榉瓷鋵优c焦點(diǎn)有一小的間距，當(dāng)然，反射層里的溫度稍許低些。在先有技術(shù)的反射層里通常使用的金屬(它們用于只讀媒質(zhì))對(duì)這些溫度是不夠敏感的，在實(shí)現(xiàn)好的反射率所必需的厚度時(shí)，情況尤其是如此。因此人們必需使用強(qiáng)度更高的光束以便在反射層里得到足夠的能量來記錄一記號(hào)。
由于一般在光記錄器里使用的半導(dǎo)體激光二極管的功率有限，并且它的使用壽命高度取決于在工作時(shí)間發(fā)出的功率，所以強(qiáng)烈要求降低媒質(zhì)的功率要求。
本發(fā)明揭示一種新穎的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)媒質(zhì)，它克服了先有技術(shù)的缺點(diǎn)。該媒質(zhì)包括一個(gè)由在接近或低于聚合物層在常規(guī)記錄條件下記錄期間所達(dá)到的峰值溫度的溫度下軟化或熔融(或既軟化又熔融)的合金或元素金屬(在這里統(tǒng)稱為金屬材料)形成的反射層。反射層相應(yīng)地在記錄溫度下軟化或熔融。
符合這樣的描述的材料既能滿足用作燒蝕媒質(zhì)系統(tǒng)也能滿足形成突起的媒質(zhì)系統(tǒng)的反射層的要求。使用了這些材料做的反射層，使反射層爆破或變形所需要的溫度較低。因此，對(duì)半導(dǎo)體激光二極管的功率要求也相應(yīng)降低。同時(shí)，還保持了金屬材料的高反射性能。這就保證在反射層處或鄰近反射層處有足夠的能量以獲得所要求的形變。
根據(jù)本發(fā)明的記錄數(shù)據(jù)的功能層可以用在兩種類型的染料-聚合物媒質(zhì)，即燒蝕媒質(zhì)和形成突起的媒質(zhì)之中。在每一種系統(tǒng)里，除了聚合物層以外，還有一個(gè)鄰近聚合物層的金屬反射層。
在形成突起的媒質(zhì)里，媒質(zhì)層包括一個(gè)膨脹層，一個(gè)保持層，以及一個(gè)反射層。
膨脹層是由一種吸收記錄光束波長的光的材料形成的。膨脹層僅部分吸收此波長，因此使得記錄光束有可能兩次通過。吸收程度是可以變化的，但是一般說來，兩次通過的吸收約等于或大于40%時(shí)可得到最好的結(jié)果。膨脹層至少能部分透過清除光束波長的光。雖然透過率也可以在很寬的范圍內(nèi)變化，但在大多數(shù)應(yīng)用中，對(duì)這一波長的透射至少為約60%時(shí)可得到最好的結(jié)果。兩次通過的吸收大約為50%時(shí)有助于在膨脹層里建立一幾乎恒定溫度的材料柱。消除了單次通過記錄在膨脹層里發(fā)生的高的熱梯度，這改善了記號(hào)的形成和記號(hào)的清晰度。
有一類膨脹層是高熱膨脹系數(shù)膨脹層，特別是在與媒質(zhì)中的其它層作比較時(shí)是如此。膨脹層材料在環(huán)境溫度下呈橡膠狀態(tài)，具有高的彈性系數(shù)，使它在記錄期間很容易膨脹而不超過它的膨脹上限。在室溫時(shí)，膨脹層材料的溫度高于其玻璃轉(zhuǎn)變溫度，玻璃轉(zhuǎn)變溫度最好低于30℃。
保持層具有一些有別于膨脹層的特性。保持層吸收清除光束波長的光，這兩束光的波長不同，彼此互不重迭。保持層對(duì)清除光束波長的吸收最好至少為40%。此外，保持層材料最好透射約60%的記錄光束波長的光。
保持層材料具有一高于環(huán)境溫度的玻璃轉(zhuǎn)變溫度。該溫度可以低于膨脹層在記錄期間所達(dá)到的溫度。然而，在通過吸收來自記錄光束的光直接加熱保持層時(shí)，就并無這樣的要求。當(dāng)溫度高于材料的玻璃轉(zhuǎn)變溫度時(shí)，材料是橡膠狀的，具有足夠高的彈性，足以使它變形到與在膨脹層里形成的變形的輪廓相一致而不超過其彈性極限。
反射層用于將光反射回去穿過膨脹層以便記錄和數(shù)據(jù)探測(cè)之用。因而反射層是高反射的，在記錄和讀出期間，它最好反射至少約85%的射于其上的光。反射層也是可變形的，使它能與代表記錄的數(shù)據(jù)的突起的形狀一致，以便散射光。
存儲(chǔ)媒質(zhì)還可以包括一個(gè)在突起的下面的保持層，以保護(hù)它們避免由于與外界物體接觸而受損傷。保護(hù)層的特征是它非常柔軟。由此，它可變形而使得突起可以突到它里面。此外，該柔軟的層與膨脹層、保持層和反射層相比是比較厚的，使突起不會(huì)突出到保護(hù)層的外表面。保護(hù)層最好還有高的導(dǎo)熱性，使得它能起散熱片的作用，以便在突起形成后就使保持層快速冷卻。
各層在基片中是這樣排列的膨脹層鄰近基片、保持層和反射層在膨脹層遠(yuǎn)離基片的一面上?；旧硎怯梢环N基本上許可記錄波長、讀出波長和清除波長的三種光完全透射的、剛性而透明的材料制成?；凶銐虻暮穸群蛣傂?，以提供媒質(zhì)結(jié)構(gòu)上的完整性，并且不因膨脹層里的膨脹力所產(chǎn)生的壓力而變形。由于基片的剛性，膨脹層通過吸收記錄光束所產(chǎn)生的熱膨脹向離開基片的方向伸突，在這樣的層次排列中，如上所述，突起伸突到保持層和反射層里，引起它們變形。
通過降低使金屬膜層變形所需要的溫度，能夠降低半導(dǎo)體激光二極管所需要的功率，與此同時(shí)仍保持高反射的性能。因此，金屬層是由一種熔點(diǎn)低于200℃的、在室溫下是軟性的和有展性的合金或元素金屬構(gòu)成的。反射層所達(dá)到的最佳溫度與來自鄰近的聚合物層的熱傳導(dǎo)有關(guān)。該最佳溫度稍高于或稍低于金屬的熔點(diǎn)。
本發(fā)明使用低熔點(diǎn)的合金或元素金屬作反射層。純凈的銦產(chǎn)生良好的結(jié)果。然而，在某些情況下，銦的大顆粒結(jié)構(gòu)不能產(chǎn)生最佳的結(jié)果。在重放時(shí)有噪聲。當(dāng)銦與其它材料組合時(shí)，就得到一種細(xì)顆粒的結(jié)構(gòu)，可降低或消除噪聲。一種最好的組合是銦加上鉍，基熔點(diǎn)下降到大約為150℃。一種鉍與其它金屬，諸如錫、鎘或銦之類的易熔合金導(dǎo)致熔點(diǎn)在所要求的范圍內(nèi)。
在本發(fā)明里用作反射層的材料在有利的記錄條件所要求的溫度范圍(大約等于或低于800℃)里軟化或熔融(或既軟化又熔融)。這些覆蓋層具有所要求的熱-機(jī)械性能。另外，它們不因氧化或使用而污染或顯示不希望有的光學(xué)性能的惡化。
兩層次的形成突起的染料聚合物媒質(zhì)的一個(gè)特有的優(yōu)點(diǎn)是如在申請(qǐng)?zhí)枮?36070、公告日為1985年4月3日、標(biāo)題為“用于在媒質(zhì)上記錄數(shù)據(jù)的可清除的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)媒質(zhì)及其制造方法和裝置”(光學(xué)數(shù)據(jù)公司)的歐洲專利申請(qǐng)以及與本發(fā)明同時(shí)提交的、申請(qǐng)?zhí)枮榈纳厦嫠岬降拿绹鴮＠暾?qǐng)里所描述的那樣，可以通過加熱保持層來清除信息。信息的清除要求金屬層的表面與染料聚合物覆蓋層一起回復(fù)到其初始的平整狀態(tài)。因此在突起被清除光束清除時(shí)金屬必需或者是軟性的和有展性的且牢固地附著在鄰近的聚合物層上，或者是熔融的，以便能在聚合物層上重新恢復(fù)其平整的金屬表面。本發(fā)明的材料保證得到這樣的結(jié)果。
在通過記錄激光的作用而除去聚合物層的燒蝕媒質(zhì)里也包括一個(gè)金屬反射層，它位于聚合物層上與記錄光束入射面相反的面上。這就保證了反射回去的未記錄的表面和已記錄的區(qū)域之間有足夠的差別以被重放系統(tǒng)所探測(cè)出來。通過降低爆破該金屬膜層所需要的溫度，能夠降低對(duì)燒蝕媒質(zhì)的功率要求而同時(shí)保持金屬的高反射的性能。
各層的吸收性能可由常規(guī)的方法取得，最好是通過選用染料或顏料來吸收相應(yīng)的波長。對(duì)目標(biāo)波長的要求并不是很嚴(yán)格的，而是視可以購得的激光器的類型而定。波長一般選擇得使記錄波長和清除波長不同并且不相重迭。然而，各個(gè)層之間可以在吸收特性方面有些重迭。例如，在形成突起的媒質(zhì)的保持層里的染料可以稍許吸收記錄波長。這將導(dǎo)致在記錄以及清除期間可以直接加熱保持層;市場(chǎng)上能購得的激光波長一般為680nm、780nm和840nm?？墒褂玫娜玖匣蝾伭系睦佑心岣窳_辛蘭、苯胺蘭、考科油(calceoil)蘭、佛青蘭、亞甲蘭氯化物、單星蘭、孔雀綠奧澤雷脫(Ozalate)、蘇丹黑BM、雪利康(Tricon)蘭、麥克洛萊克(Macrolex)綠G、DDCI-4和IR26。
各層用常規(guī)工藝方法結(jié)合在一起。相鄰的層最好相互間光學(xué)耦合，使其本上所有通過一層的光都能進(jìn)入鄰近的一層。反射層是一個(gè)例外，它反射入射于其上的光的大部分。
本發(fā)明的媒質(zhì)可按照常規(guī)工藝方法制造。由此各層可以依次地覆蓋在基片上?？墒褂玫募夹g(shù)的例子有如刮刀散布法、旋轉(zhuǎn)涂層法和金屬蒸汽淀積法等。
上文所述主要是為了對(duì)本發(fā)明給予說明，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域里的技術(shù)人員來說，顯而易見，對(duì)這里所述的材料、它們的具體排列、以及各種系統(tǒng)參數(shù)可以引入種種變化而并不背離本發(fā)明的范圍和精神實(shí)質(zhì)。
權(quán)利要求
1.一種包括一個(gè)反射層的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述存儲(chǔ)媒質(zhì)具有至少一個(gè)聚合層，上述聚合層可通過一個(gè)聚焦于其上的記錄激光而變形，在記錄時(shí)，上述聚合物層在記錄期間激光的焦點(diǎn)處達(dá)到一定溫度，上述反射層由一種反射的金屬材料構(gòu)成，它在處于或低于上述聚合物層的上述溫度時(shí)軟化或熔融。
2.按照權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射金屬材料的熔點(diǎn)低于200℃。
3.按照權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射金屬材料在室溫下是軟性的和有展性的。
4.按照權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射金屬材料是基本上處于其最純狀態(tài)的銦。
5.按照權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射金屬材料是一種銦和鉍的合金。
6.按照權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射的金屬材料是鉍的一種易熔合金。
7.按照權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，通過上述記錄激光在上述聚合物層里產(chǎn)生的形變包括在上述聚合物層上的一個(gè)突起。
8.按照權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，通過上述記錄激光在上述聚合物層里產(chǎn)生的形變包括在上述聚合物層里形成的一個(gè)孔。
9.一種至少包括一個(gè)聚合物層和一個(gè)金屬層的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述聚合物層可通過由一記錄激光所產(chǎn)生的第一個(gè)力而變形，并可通過由一清除激光所產(chǎn)生的第二個(gè)力重新恢復(fù)平整狀態(tài)，上述金屬層由一個(gè)可通過上述第一個(gè)力變形并通過上述第二個(gè)力重新恢復(fù)平整狀態(tài)的有展性的層構(gòu)成。
10.按照權(quán)利要求9所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述有展性的層可分別在上述記錄激光和清除激光照射時(shí)變形和恢復(fù)平整狀態(tài)。
11.按照權(quán)利要求9所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述金屬層由一種熔點(diǎn)低于200℃的材料構(gòu)成。
12.按照權(quán)利要求9所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述金屬層由一種在室溫下是軟性的和有展性的金屬材料構(gòu)成。
13.按照權(quán)利要求9所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述金屬層是基本上處于其最純狀態(tài)的銦。
14.按照權(quán)利要求9所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述金屬層是一種銦和鉍的合金。
15.按照權(quán)利要求9所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述金屬層由鉍的一種易熔合金構(gòu)成。
16.按照權(quán)利要求9所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，通過上述第一種力產(chǎn)生的形變包括在上述聚合物層上的一個(gè)突起。
17.按照權(quán)利要求9所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，通過上述第一種力產(chǎn)生的形變包括在上述聚合物層里的一個(gè)孔。
18.一種設(shè)置在一剛性基片上的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，通過使一記錄光束穿過上述基片能使光學(xué)數(shù)據(jù)記錄于上述存儲(chǔ)媒質(zhì)里，通過使一讀出光束被反射穿過上述基片進(jìn)入一探測(cè)系統(tǒng)能從上述存儲(chǔ)媒質(zhì)里讀出記錄的數(shù)據(jù)，上述探測(cè)系統(tǒng)設(shè)計(jì)成能讀出反射穿過大致上與上述剛性基片光學(xué)上等效的一個(gè)層的信號(hào)，上述存儲(chǔ)媒質(zhì)包括一個(gè)膨脹層，它與上述基片沿著其間的交界面光學(xué)耦合，并在加熱到一峰值溫度時(shí)可膨脹，以在其與交界面相對(duì)的表面上形成突起;一個(gè)反射層，它反射一部分射于其上的光，并且它有足夠的彈性，以與上述表面的輪廓相一致，上述反射層由一種金屬材料構(gòu)成，上述金屬材料在處于或低于由其余一層或多層在正常的記錄信息過程中所述到的峰值溫度時(shí)軟化或熔融。
19.按照權(quán)利要求18所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，它還包括用于在上述膨脹層冷卻時(shí)保持其中形成的突起的裝置，上述保持裝置由具有高于室溫的玻璃轉(zhuǎn)變溫度的材料的保持層構(gòu)成，因而當(dāng)溫度由室溫變化到高于上述玻璃轉(zhuǎn)變溫度時(shí)，它從玻璃態(tài)變成橡膠狀態(tài)。
20.按照權(quán)利要求19所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，記錄在上述存儲(chǔ)媒質(zhì)上的光學(xué)數(shù)據(jù)可被一清除光束所清除，上述保持層吸收上述清除光束后溫度升高到足以使它轉(zhuǎn)變成橡膠狀態(tài)，此時(shí)所產(chǎn)生的力使保持層回復(fù)到其初始的未記錄狀態(tài)。
21.按照權(quán)利要求18所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射層至少反射75%入射于其上的光。
22.按照權(quán)利要求18所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射層由一種熔點(diǎn)低于200℃的材料構(gòu)成。
23.按照權(quán)利要求18所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射層由一種在室溫下是軟性的和有展性的材料構(gòu)成。
24.按照權(quán)利要求18所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射層是基本上處于其最純狀態(tài)的銦。
25.按照權(quán)利要求18所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射層是一種銦和鉍的合金。
26.按照權(quán)利要求18所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射層是鉍的一種易熔合金。
27.一種包括至少一個(gè)染料聚合物層和一個(gè)鄰近上述聚合物層的反射層的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，光學(xué)數(shù)據(jù)可通過一聚焦于上述聚合物層上的記錄激光束記錄到上述存儲(chǔ)媒質(zhì)上，在記錄時(shí)，上述聚合物層在上述記錄激光的焦點(diǎn)處達(dá)到一定溫度，數(shù)據(jù)通過可控地破壞部分上述聚合物層而被存儲(chǔ)，并且如此記錄的光學(xué)信息可通過一讀出光束讀出，上述反射層由一種反射的金屬材料構(gòu)成，它在處于或低于上述聚合物層的上述溫度時(shí)軟化或熔融。
28.按照權(quán)利要求27所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射的金屬材料的熔點(diǎn)低于200℃。
29.按照權(quán)利要求27所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射的金屬材料在室溫下是軟性的和有展性的。
30.按照權(quán)利要求27所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射的金屬材料是基本上處于其最純狀態(tài)的銦。
31.按照權(quán)利要求27所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射的金屬材料是一種銦和鉍的合金。
32.按照權(quán)利要求27所述的存儲(chǔ)媒質(zhì)，其特征在于，上述反射的金屬材料是鉍的一種易熔合金。
全文摘要
本發(fā)明提供了光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)媒質(zhì)的種種制造技術(shù)，特別是那些至少包括一個(gè)聚合物層和一個(gè)金屬反射層的多個(gè)光吸收性能不同的媒質(zhì)層的光學(xué)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)媒質(zhì)。金屬反射層由具有所要求的反射性能的金屬或合金制成，它在接近或低于聚合物在記錄期間所達(dá)到的溫度下軟化或熔融，或既軟化又熔融。
文檔編號(hào)G11B7/243GK1036653SQ8910066
公開日1989年10月25日 申請(qǐng)日期1989年2月1日 優(yōu)先權(quán)日1988年2月5日
發(fā)明者喬爾D·法恩根 申請(qǐng)人:坦迪公司