專利名稱：物鏡驅(qū)動(dòng)裝置及光拾取器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及進(jìn)行光盤裝置等盤的存儲(chǔ)再現(xiàn)的光拾取器和該光拾取器所具有的物 鏡驅(qū)動(dòng)裝置。
背景技術(shù)：
以下表示光盤裝置的結(jié)構(gòu)。光盤裝置具有用于使光盤旋轉(zhuǎn)的主軸電機(jī)；用于對(duì)光盤的信息進(jìn)行存儲(chǔ)再現(xiàn)的 光拾取器；用于使光拾取器沿光盤半徑方向移動(dòng)的進(jìn)給機(jī)構(gòu)。而且，由控制該進(jìn)給機(jī)構(gòu)的各 個(gè)控制電路、和綜合性地控制來自光盤的再現(xiàn)信號(hào)或?qū)獗P的存儲(chǔ)信號(hào)的控制器構(gòu)成。這 些機(jī)構(gòu)中，直接對(duì)光盤內(nèi)的信息進(jìn)行存儲(chǔ)再現(xiàn)的機(jī)構(gòu)是光拾取器。對(duì)將該光拾取器作為主體的光盤裝置的動(dòng)作進(jìn)行說明。為了對(duì)光盤進(jìn)行讀寫，從光拾取器將激光射出到插入到光盤裝置上的光盤上，并 使其光點(diǎn)聚焦在光盤的數(shù)據(jù)面上而進(jìn)行聚焦控制。然后，使盤旋轉(zhuǎn)并進(jìn)行數(shù)據(jù)跟蹤對(duì)準(zhǔn)，同 樣地進(jìn)行跟蹤控制。這樣，將光盤上的信息通過光拾取器進(jìn)行光學(xué)信息的電子變換，并作為數(shù)據(jù)發(fā)送 到光盤裝置的控制器。光盤裝置這樣從光拾取器接收信號(hào)，并向個(gè)人計(jì)算機(jī)等進(jìn)行數(shù)據(jù)的 發(fā)送和接收。近年來，關(guān)于光盤，高密度化一直在推進(jìn)，并主要通過縮短激光的波長來應(yīng)對(duì)。另 一方面，光盤裝置被用于個(gè)人計(jì)算機(jī)等，由于個(gè)人計(jì)算機(jī)的筆記本化一直在加速，所以光盤 裝置的大小也要求薄型化。因此，用于光盤裝置的光拾取器也必須薄型化。由于應(yīng)對(duì)高密度的光拾取器沒有 與以往方式的波長互換性，所以在物鏡驅(qū)動(dòng)裝置上搭載有兩個(gè)物鏡。必須使用該結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn) 光拾取器的薄型化。物鏡的驅(qū)動(dòng)是通過搭載在物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的可動(dòng)側(cè)的線圈和搭載在與其相對(duì)的固 定部上的磁鐵之間的磁作用，使線圈產(chǎn)生磁推力。磁推力成為使物鏡追隨光盤旋轉(zhuǎn)時(shí)的數(shù) 據(jù)跟蹤擺動(dòng)的驅(qū)動(dòng)力。由于數(shù)據(jù)跟蹤擺動(dòng)以光盤面外方向即聚焦方向、及光盤半徑方向即 跟蹤方向?yàn)橹鲾[動(dòng)方向，所以，在物鏡驅(qū)動(dòng)裝置上，聚焦線圈和跟蹤線圈被搭載在可動(dòng)部 上。作為這樣的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的一例有專利文獻(xiàn)1。該專利文獻(xiàn)1中，物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的 驅(qū)動(dòng)線圈如下配置圍繞物鏡支架卷繞聚焦線圈，在聚焦線圈的表面貼附跟蹤線圈，在跟蹤 線圈的相對(duì)面配置有產(chǎn)生磁場(chǎng)的磁鐵。另外，專利文獻(xiàn)2是以薄型光拾取器為對(duì)象、在物鏡的左右配置聚焦線圈及跟蹤 線圈的構(gòu)造。專利文獻(xiàn)1 日本特開2005-129191號(hào)公報(bào)(14頁，圖1)專利文獻(xiàn)2 日本特開2006-120205號(hào)公報(bào)(圖1)在上述文獻(xiàn)1中，涉及光拾取器的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置內(nèi)的磁回路結(jié)構(gòu)，尤其敘述了線圈結(jié)構(gòu)。由于磁鐵也能夠與半高(裝置高度約45mm)用的光拾取器的大小相應(yīng)地變大，所 以能夠使聚焦、跟蹤各線圈產(chǎn)生必要充分的磁推力。但是，在兼顧薄型和兩個(gè)物鏡的情況下，由于必須使磁鐵變小，線圈也必須隨之變 小，所以使線圈產(chǎn)生充分的磁推力變得困難。另外，在專利文獻(xiàn)2中，對(duì)于以超薄型光拾取器為對(duì)象、但物鏡是一個(gè)的情況，由 于能夠?qū)⑽镧R配置在物鏡支架中央，所以能夠?qū)⒕劢咕€圈及跟蹤線圈配置在物鏡的左右。但是，在物鏡是兩個(gè)的情況下，若在相同大小的物鏡支架上配置兩個(gè)物鏡，則無法 將聚焦線圈和跟蹤線圈左右對(duì)稱地配置。另外，因物鏡的增加引起的重量增加，使物鏡驅(qū)動(dòng) 裝置的加速度靈敏度降低。另外，近年來，光盤被用作出版物的配發(fā)介質(zhì)，存在因重疊的書 本等的壓力而使光盤變形、尤其是向面外方向變形的情況。若對(duì)這樣變形了的光盤進(jìn)行再 現(xiàn)等時(shí)，由于尤其在聚焦方向發(fā)生位移，所以必須使聚焦方向的加速度靈敏度提高。若考慮 該狀況，則在專利文獻(xiàn)1、2的結(jié)構(gòu)中，加速度敏靈敏度顯著不足。因此，需要研究能夠?qū)Υ钶d了兩個(gè)物鏡的光拾取器的超薄型進(jìn)行應(yīng)對(duì)并能夠?qū)崿F(xiàn) 光盤的高速化的光拾取器的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置構(gòu)造。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供能夠應(yīng)對(duì)高密度的光盤、薄型化及高倍速化的光拾取器。上述目的通過如下結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)，物鏡驅(qū)動(dòng)裝置具有將由發(fā)光元件發(fā)出的光引導(dǎo)至 盤面的物鏡；搭載該物鏡的支架；卷繞在該支架上的聚焦線圈；安裝在該聚焦線圈的附近 的跟蹤線圈；使這些線圈工作的磁鐵，其中，在聚焦線圈上設(shè)置有用于收納所述跟蹤線圈的 空間。另外，關(guān)于本發(fā)明的上述特征或其他特征，將在以下的敘述中說明。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明能夠提供一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，由于能夠縮小聚焦線圈和磁鐵的距離， 所以能夠提高聚焦方向加速度靈敏度。


圖1是表示本發(fā)明的第一實(shí)施例的俯視圖。圖2是表示本發(fā)明的第一實(shí)施例的立體圖。圖3是本發(fā)明的第一實(shí)施例的可動(dòng)部和透明化的磁回路的立體圖。圖4是表示本發(fā)明的第一實(shí)施例的磁鐵和線圈的位置關(guān)系的立體圖和主視圖。圖5是對(duì)本發(fā)明的第一實(shí)施例的磁鐵和聚焦線圈的距離關(guān)系進(jìn)行說明的圖。圖6是表示本發(fā)明的第一實(shí)施例的使磁鐵和聚焦線圈的間隔變化時(shí)的聚焦方向 的加速度靈敏度的關(guān)系的圖。圖7是表示本發(fā)明的第二實(shí)施例的俯視圖。圖8是表示本發(fā)明的第二實(shí)施例的磁鐵和線圈的位置關(guān)系的立體圖。圖9是將本發(fā)明本實(shí)施例的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置搭載在光拾取器上的10是對(duì)光盤裝置的整體進(jìn)行說明的框圖。圖11是以往的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的俯視圖。
附圖標(biāo)記的說明la、Ib…物鏡，2…物鏡支架，3…聚焦線圈，4a、4b…跟蹤線圈，5a、^r..磁鐵，6a、 6b、6c、6d···磁鐵，7…軛鐵，8…金屬絲，9…固定部，20···激光光束通過用切缺部，60···光拾 取器，50···物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。
具體實(shí)施例方式在說明本發(fā)明的實(shí)施例之前利用圖11對(duì)以往的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置進(jìn)行說明。圖11是以往的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的俯視圖。在圖11中，物鏡la、Ib被安裝在支架2上。該支架2通過磁鐵fe、5b以及6a、6b、 6c、6d和線圈3以及4a、4b而受到磁驅(qū)動(dòng)力。物鏡la、lb使用兩個(gè)物鏡以便能夠應(yīng)對(duì)高密 度光盤而且也能夠應(yīng)對(duì)以往的光盤。因此，當(dāng)作為物鏡驅(qū)動(dòng)裝置50而安裝在光拾取器60上時(shí)，為了將從各激光器照 射的光束可靠地引導(dǎo)至物鏡la、lb，在物鏡支架2上設(shè)置有二份的激光光束通過用切缺部 20 (詳細(xì)情況在圖3中說明)。上述線圈3及如、仙分別是追隨未圖示的光盤數(shù)據(jù)面的面外振動(dòng)的聚焦線圈 3 (圖中虛線所示)，以及追隨光盤數(shù)據(jù)面的面內(nèi)振動(dòng)的跟蹤線圈^、4b。另外，由于物鏡la、lb如上所述是BD用(藍(lán)光光盤用)和⑶、DVD用的兩個(gè)一組， 所以與CD和DVD共用一個(gè)物鏡的情況相比，重量變重。因此，使用兩個(gè)一組的物鏡的BD用 光拾取器會(huì)發(fā)生聚焦方向加速度靈敏度變差的問題。作為解決該問題的手段，也考慮通過使保持物鏡的支架2薄壁化來實(shí)現(xiàn)輕量化， 但是在支架的薄壁化方面，在強(qiáng)度上有限制，因此為了使聚焦方向加速度靈敏度提高而進(jìn) 行輕量化是有限度的。因此，如圖11所示，本發(fā)明的發(fā)明人考慮使虛線所示的聚焦線圈3和磁鐵6a、6b、 5a的距離變近、同樣地使聚焦線圈3和磁鐵^、6d、6c的距離變近，來提高對(duì)于聚焦線圈3 的磁力。然而，由于跟蹤線圈4a、4b的配置成為使磁鐵6a、6b、fe和磁鐵5b、6d、6c接近的 障礙，所以本發(fā)明的發(fā)明人考慮在聚焦線圈3上設(shè)置能夠收納跟蹤線圈^、4b的層差。而且，聚焦線圈3的大小一般是IOmmX 4mm左右的矩形形狀。以下，參照

本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例。實(shí)施例1圖1是本實(shí)施例的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的俯視圖。圖2是本實(shí)施例的立體圖。圖3是可 動(dòng)部和透明化的磁回路的立體圖。圖4是表示磁鐵和線圈的位置關(guān)系的立體圖和主視圖。 圖5是對(duì)磁鐵與聚焦線圈或跟蹤線圈的距離關(guān)系進(jìn)行說明的圖。圖6是表示使磁鐵和聚焦 線圈的間隔變化時(shí)的聚焦方向的磁推力或加速度靈敏度的關(guān)系的圖。本實(shí)施例的特征是，將聚焦線圈3的磁鐵相對(duì)面配置在其與跟蹤線圈4a、4b的磁 鐵之間的間隔方向厚度內(nèi)的結(jié)構(gòu)，以下對(duì)該實(shí)施例進(jìn)行說明。在各圖中，物鏡la、lb被安裝在物鏡支架2上。該物鏡支架2是通過磁鐵fe、5b 以及6a、mK6C、6d和聚焦線圈3及跟蹤線圈4a、4b受到磁驅(qū)動(dòng)力而工作。物鏡la、lb使用 兩個(gè)物鏡以便能夠應(yīng)對(duì)高密度光盤而且也能夠應(yīng)對(duì)以往的光盤。因此，當(dāng)作為物鏡驅(qū)動(dòng)裝置50而被安裝在光拾取器60上時(shí)，為了將從各激光器照射的光束可靠地引導(dǎo)至物鏡la、lb，在物鏡支架2上設(shè)置有二份的激光光束通過用切缺部 20。在物鏡支架2上還具備聚焦線圈3及跟蹤線圈^、4b。而且，為了追隨于光盤在半 徑方向上的變形，也可以還安裝未圖示的傾斜線圈。為了使包含這樣構(gòu)成的物鏡la、lb在內(nèi)的可動(dòng)部被彈性支承，利用金屬絲8而被 固定在另行設(shè)置的固定部9上。此時(shí)，金屬絲8的形狀在圖1中是筆直針形狀，但也可以 是曲柄形狀，或是在中間設(shè)置發(fā)條。另外，在供金屬絲8固定的固定部9上，為了給包含物 鏡la、lb的可動(dòng)部賦予振動(dòng)上適度的減衰，也可以附設(shè)減衰材料等。另外，為了向包含物鏡 la、Ib的可動(dòng)部上設(shè)置的線圈3以及4a、4b施加磁推力，在線圈3及4a、4b的相對(duì)面上配置 磁鐵fe、5b以及6a、6b、6c、6d。為了使磁鐵fe、5b以及6a、6b、6c、6d對(duì)線圈3以及4a、4b 提供適度的磁通分布，而且為了固定磁鐵fe、5b以及6a、6b、6c、6d，將磁鐵fe、5b以及6a、 6b、6c、6d固定在軛鐵7上。以下，對(duì)本實(shí)施例的特征結(jié)構(gòu)即線圈的形狀和磁鐵配置進(jìn)行說明。如圖3、4所示，跟蹤線圈4a、4b為了避開激光光束通過用切缺部20而位于在從激 光入射側(cè)觀察的情況下的磁鐵6a、6b以及6c、6d的投影面內(nèi)，并作為一對(duì)一組的線圈被安 裝在相對(duì)于物鏡支架2的幾何中心點(diǎn)對(duì)稱的位置。聚焦線圈3被卷繞在物鏡支架2上。另外，聚焦線圈3為了收納跟蹤線圈4a、4b 而形成有跟蹤線圈4a、4b的設(shè)置部附近成為斜面部而成的層差北。如圖3、圖4所示，聚焦線圈3的磁推力有效范圍3a是聚焦線圈3相對(duì)于磁鐵面 平行的部位。而且，聚焦線圈3還以避開物鏡la、lb的激光光束通過用切缺部20的方式形 成。聚焦線圈3的磁推力有效范圍3a的磁鐵相對(duì)平面如圖5所示被設(shè)置在跟蹤線圈 4a,4b的厚度Tf和Tb的范圍內(nèi)。Tf是跟蹤線圈的磁鐵側(cè)位置，Tb是跟蹤線圈貼附位置。 聚焦線圈3的磁推力有效范圍3a的磁鐵相對(duì)平面若比跟蹤線圈的磁鐵側(cè)位置Tf更向磁鐵 側(cè)突出，則有可能引起線圈和磁鐵的個(gè)體接觸，因此，優(yōu)選上述平面與Tf相比處于物鏡la、 Ib側(cè)的位置。磁鐵6a、6b、6c、6d模仿跟蹤線圈4a、4b的配置，在跟蹤線圈4a、4b的相對(duì)部上配 置磁鐵6a、6b、6c、6d。S卩，跟蹤線圈4a、4b用的磁鐵存在于相對(duì)于物鏡支架2的幾何中心 2a點(diǎn)對(duì)稱的位置。而且，為了使跟蹤方向的磁推力成為最大限度而使其在聚焦方向上極力 地變大。關(guān)于聚焦線圈3用的磁鐵如、5比由于如上所述地在物鏡支架上存在有供兩個(gè)物鏡 用的激光光束通過用切缺部20，所以磁鐵形狀為橫長的形狀，并在相對(duì)于物鏡支架2的幾 何中心加點(diǎn)對(duì)稱的位置配置聚焦線圈3用的磁鐵fe、5b。這些磁鐵fe、5b以及6a、6b、6c、 6d相對(duì)于物鏡支架2的幾何中心加以包圍物鏡la、lb的方式點(diǎn)對(duì)稱地配置。在圖6中，示出了在物鏡為兩個(gè)的條件下，基于聚焦線圈3的磁推力有效范圍3a 相對(duì)于磁鐵fejb在間隙方向上的位置的、可動(dòng)部的加速度靈敏度。間隙方向是圖5所示 的ΔΧ方向。在以往的聚焦線圈的位置，無法滿足能夠應(yīng)對(duì)高倍速的必要加速度靈敏度。而像 本實(shí)施例這樣，通過在跟蹤線圈4a、4b厚度Tf與Tb的范圍內(nèi)配置聚焦線圈3的磁鐵相對(duì) 面，來使聚焦線圈3的磁推力有效范圍3a接近磁鐵，因此能夠得到能夠應(yīng)對(duì)高倍速的加速度靈敏度。這樣構(gòu)成的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置50如圖9所示地經(jīng)過調(diào)整工序被固定在光拾取器60 上。利用圖10說明光盤裝置的動(dòng)作。使用者為了進(jìn)行向光盤210的數(shù)據(jù)的復(fù)制或者讀取來自光盤210的數(shù)據(jù)，將光盤 210裝填到搭載于個(gè)人計(jì)算機(jī)等的光盤裝置200中。然后，光盤210被設(shè)置在用于進(jìn)行旋轉(zhuǎn) 驅(qū)動(dòng)的主軸電機(jī)150上，并通過盤旋轉(zhuǎn)控制電路201進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。為了大致同時(shí)從光拾取器 50在光盤210的數(shù)據(jù)面上將信息存儲(chǔ)再現(xiàn)，使激光照射于光盤210面。光拾取器50利用伺服信號(hào)檢測(cè)電路203以及聚焦驅(qū)動(dòng)回路206進(jìn)行聚焦動(dòng)作，以 使從物鏡射出的激光在光盤210面上聚焦，所述伺服信號(hào)檢測(cè)電路203用于對(duì)來自搭載在 光拾取器50上的光檢測(cè)電路的信號(hào)進(jìn)行檢測(cè)。然后，為了與光盤210數(shù)據(jù)面的軌道進(jìn)行對(duì) 位，與聚焦動(dòng)作同樣地，利用伺服信號(hào)檢測(cè)電路203及跟蹤驅(qū)動(dòng)回路205進(jìn)行跟蹤動(dòng)作。在這樣進(jìn)行激光的定位時(shí)，光盤裝置200以成為規(guī)定的數(shù)據(jù)傳送速度的方式進(jìn)行 光盤的高速旋轉(zhuǎn)，并將來自光拾取器的再現(xiàn)信號(hào)通過再現(xiàn)信號(hào)檢測(cè)電路204進(jìn)行數(shù)據(jù)生 成，并通過控制器220進(jìn)行與個(gè)人計(jì)算機(jī)之間的數(shù)據(jù)傳遞。另外，對(duì)光拾取器50的在光盤 210的半徑方向上的控制是通過進(jìn)給控制電路202進(jìn)行的。通過以上的動(dòng)作，使用者能夠進(jìn) 行光盤的數(shù)據(jù)操作。光盤不限于數(shù)據(jù)面是平滑面，或數(shù)據(jù)軌道是正圓。而且，在光盤被安裝在光盤裝置 內(nèi)的主軸電機(jī)上時(shí)，不限于光盤的幾何中心與主軸電機(jī)的旋轉(zhuǎn)中心、光盤的旋轉(zhuǎn)中心一致。 因此，當(dāng)光盤旋轉(zhuǎn)時(shí)，光盤的數(shù)據(jù)向面外方向及面內(nèi)方向擺動(dòng)。該擺動(dòng)從光拾取器側(cè)觀察 時(shí)，被視為帶有加速度的振動(dòng)。光拾取器為了使激光匯聚在該振動(dòng)上而成的光點(diǎn)追隨于光 盤數(shù)據(jù)，在物鏡驅(qū)動(dòng)裝置上配備有由磁鐵和線圈構(gòu)成的加速度發(fā)生機(jī)構(gòu)。對(duì)于線圈，由于關(guān) 于光盤面外方向的數(shù)據(jù)振動(dòng)，振動(dòng)方向?yàn)榻裹c(diǎn)方向，所以稱為聚焦線圈。另外，由于關(guān)于光 盤面內(nèi)方向的數(shù)據(jù)跟蹤振動(dòng)，振動(dòng)方向是光盤半徑方向即數(shù)據(jù)跟蹤方向，所以稱為跟蹤線 圈。因此，在光盤內(nèi)進(jìn)行光盤的數(shù)據(jù)讀寫期間，光拾取器內(nèi)的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置為了進(jìn)行光點(diǎn)控 制而始終在各線圈上施加電壓，為了追隨光盤的數(shù)據(jù)跟蹤而使物鏡產(chǎn)生加速度地驅(qū)動(dòng)。如上所述，根據(jù)本實(shí)施例的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置結(jié)構(gòu)，能夠得到應(yīng)對(duì)超薄型且高加速度 靈敏度的光拾取器。實(shí)施例2利用圖7、8、9說明本發(fā)明的第二實(shí)施例。圖7是本實(shí)施例的俯視圖。圖8是表示本實(shí)施例的磁鐵和線圈的位置關(guān)系的立體 圖。圖9是將本實(shí)施例的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置搭載在光拾取器上的圖。本實(shí)施例的特征在于，配備在物鏡驅(qū)動(dòng)裝置上的聚焦線圈的跟蹤線圈附近形狀為 矩形，以下對(duì)該實(shí)施例進(jìn)行說明。另外，相同的附圖標(biāo)記是與實(shí)施例1相同的部件，因此省略其說明。在各圖中，對(duì)本實(shí)施例的特征結(jié)構(gòu)、即線圈的形狀和磁鐵配置進(jìn)行說明。跟蹤線圈 4a、4b為了避開激光光束的通過用切缺部20而在從激光入射側(cè)觀察的投影圖中的相對(duì)于 物鏡支架2的幾何中心點(diǎn)對(duì)稱的位置作為一對(duì)線圈被安裝。聚焦線圈10被卷繞在物鏡支 架2上。此時(shí)，聚焦線圈10為了在從激光出射側(cè)觀察的投影圖中避開跟蹤線圈^、4b，而在 跟蹤線圈4a、4b的設(shè)置部附近形成有矩形狀的層差部3c。
聚焦線圈10的磁推力有效范圍3a是聚焦線圈10相對(duì)于磁鐵面平行的部位。而 且，聚焦線圈10還以避開物鏡la、lb的光學(xué)開口部的方式形成。另外，聚焦線圈10的磁推 力有效范圍3a的磁鐵相對(duì)平面被設(shè)置在跟蹤線圈^、4b的厚度范圍內(nèi)。磁鐵6a、6b、6c、6d模仿跟蹤線圈4a、4b的配置，在跟蹤線圈4a、4b的相對(duì)部配置 有磁鐵6a、6b、6c、6d。即，跟蹤線圈^、4b用的磁鐵存在于相對(duì)于物鏡支架2的幾何中心加 點(diǎn)對(duì)稱的位置。另外，為了使跟蹤方向的磁推力成為最大限度而在聚焦方向上極力變大。關(guān)于聚焦線圈10用的磁鐵fe、5b，由于如上所述在物鏡支架上具有供兩個(gè)物鏡用 的激光光束用切缺部20，所以磁鐵形狀為橫長的形狀，并在相對(duì)于物鏡支架2的幾何中心 2a點(diǎn)對(duì)稱的位置配置聚焦線圈10用的磁鐵fe、5b。這些磁鐵fe、5b以及6a、6b、6c、6d相 對(duì)于物鏡支架2的幾何中心加以包圍物鏡la、lb的方式點(diǎn)對(duì)稱地配置。這樣構(gòu)成的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置50如圖9所示地經(jīng)過調(diào)整工序被固定在光拾取器60 上。如上所述，根據(jù)本實(shí)施例，能夠進(jìn)一步增大聚焦方向的磁推力，從而能夠得到應(yīng)對(duì) 超薄型且更高加速度靈敏度的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，通過將其搭載在光拾取器上，能夠?qū)崿F(xiàn)高性 能的光拾取器，因此具有如下構(gòu)成。1. 一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，具有將由發(fā)光元件發(fā)出的光引導(dǎo)至盤面的物鏡；搭載該 物鏡的支架；卷繞在該支架上的聚焦線圈；安裝在該聚焦線圈的附近的跟蹤線圈；使這些 線圈工作的磁鐵，其中，在所述聚焦線圈上設(shè)置有用于收納所述跟蹤線圈的空間。2.此外，所述聚焦線圈的空間由因斜面部產(chǎn)生的層差形成。3.此外，所述聚焦線圈的空間由矩形形狀的層差形成。4.此外，所述跟蹤線圈是在所述支架的對(duì)角部配置有兩個(gè)。5.此外，所述聚焦線圈的磁鐵相對(duì)面和所述跟蹤線圈的磁鐵相對(duì)面位于同一平面 上。6.此外，設(shè)置在所述聚焦線圈上的所述層差部的深度比所述跟蹤線圈的厚度大。
權(quán)利要求
1.一種物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，具有將由發(fā)光元件發(fā)出的光引導(dǎo)至盤面的物鏡；搭載該物鏡 的支架；卷繞在該支架上的聚焦線圈；安裝在該聚焦線圈的附近的跟蹤線圈；使這些線圈 工作的磁鐵，其特征在于，在所述聚焦線圈上設(shè)置有用于收納所述跟蹤線圈的空間。
2.如權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于， 所述聚焦線圈的空間由因斜面部產(chǎn)生的層差形成。
3.如權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于， 所述聚焦線圈的空間由矩形形狀的層差形成。
4.如權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于， 所述跟蹤線圈是在所述支架的對(duì)角部配置有兩個(gè)。
5.如權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述聚焦線圈的磁鐵相對(duì)面和所述跟蹤線圈的磁鐵相對(duì)面位于同一平面上。
6.如權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，設(shè)置在所述聚焦線圈上的所述層差部的深度比所述跟蹤線圈的厚度大。
7.一種光拾取器，其特征在于，具有權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。
8.一種光拾取器，其特征在于，具有權(quán)利要求2所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。
9.一種光拾取器，其特征在于，具有權(quán)利要求3所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。
10.一種光拾取器，其特征在于，具有權(quán)利要求4所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。
11.一種光拾取器，其特征在于，具有權(quán)利要求5所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。
12.一種光拾取器，其特征在于，具有權(quán)利要求6所述的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供能夠應(yīng)對(duì)超薄型且高倍速的物鏡驅(qū)動(dòng)裝置及光拾取器。在具備半導(dǎo)體激光器、透鏡等電光學(xué)零件、物鏡驅(qū)動(dòng)裝置的光拾取器中，所述物鏡驅(qū)動(dòng)裝置具備物鏡、保持物鏡的支架、聚焦線圈和跟蹤線圈，所述聚焦線圈與物鏡光學(xué)面平行地被卷線，呈在跟蹤線圈附近具有斜面部的平行四邊形，跟蹤線圈在透鏡支架的對(duì)角部配置兩個(gè)。
文檔編號(hào)G11B7/09GK102103869SQ20101060097
公開日2011年6月22日 申請(qǐng)日期2010年12月17日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月18日
發(fā)明者佐藤良廣, 加藤盛一, 木村勝彥, 水野隆一郎, 羽藤順, 齊藤英直 申請(qǐng)人:日立視聽媒體股份有限公司