專利名稱：帶光學拾取器致動器的記錄和/或重現(xiàn)裝置及其方法
技術領域：
本申請涉及一種帶光學拾取器致動器的記錄/重現(xiàn)裝置，所述致動器通過提高其次級諧振頻率而能提高增益容限并減小振動，這樣能在高速下穩(wěn)定控制光學拾取器致動器。
本申請要求于2004年1月13日向韓國知識產(chǎn)權局提交的韓國專利申請?zhí)枮?0-2004-0002252的優(yōu)先權，其所公開的內(nèi)容在此全文引用作為參考。
背景技術：
通常，記錄和/或重現(xiàn)裝置能在/從記錄介質上(例如光盤)記錄和/或重現(xiàn)信息，并可包括光學拾取器致動器，例如，在光盤上沿徑向里外移動的光學拾取器致動器以將光輻射到盤的記錄表面上并接收從所述記錄表面反射的光。
參考圖1和2，傳統(tǒng)的光學拾取器致動器包括在基座10的一個側面上提供的保持架13和安裝在基座10中心的線圈架17，該線圈架17具有一物鏡15。在線圈架17的兩端中形成有延伸至物鏡15的通孔18。第一磁體20插入各自的通孔18，第二磁體23安裝在線圈架17的兩側。第一和第二磁體20和23分別連接至基座10上提供的第一和第二軛25和27。同樣，第三磁體30在基座的尋軌方向T沿基座的兩側安裝。第三磁體30安裝在基座10上提供的第三軛33內(nèi)。
線圈架17的一端被安裝在保持架13上的吊線35懸掛和可移動地支撐。
同時，所述拾取器致動器包括在聚焦方向F、尋軌方向T和傾斜方向t驅動線圈架17的磁驅動單元。在尋軌方向T除了各自的第一至第三磁體20，23和30外，所述磁驅動單元還具有在線圈架部17b圍繞線圈架17的通孔18的內(nèi)壁纏繞的尋軌線圈40和圍繞通孔18的外周纏繞的聚焦線圈43，和在線圈架部17a圍繞線圈架17的兩側纏繞的傾斜線圈45。
當向聚焦線圈43、尋軌線圈40和傾斜線圈45通電時，線圈架17通過與各個第一至第三磁體20、23和30相互作用而在聚焦方向F、尋軌方向T或傾斜方向t致動以實施對物鏡15的聚焦、尋軌和傾斜操作。
由于線圈架17懸掛在吊線35上，所以所述線圈架具有振動特性。因此，拾取器致動器包括與頻率相一致的一個增益和相位的開環(huán)，以便測量其振動特性。參考圖3A，其描述了一常見的開環(huán)，對應于0dB增益的頻率“a”導致0dB的截止頻率，點“P”表示次級諧振峰值。0dB與次級諧振峰值之間的增益差表示增益容限(gain margin)GM。
隨著記錄介質記錄/重現(xiàn)速度的穩(wěn)定增加，光拾取器在聚焦和尋軌模式下的操作頻率也增加了，以保持與速度一致，這導致記錄介質偏轉和偏心。因此，需要克服由偏心盤和偏轉盤及增加的加速度而產(chǎn)生的上述問題，以便允許進行快速光記錄介質操作。為了解決上述問題，必需提高0dB的截止頻率。為此，改變RF芯片、驅動IC芯片和數(shù)字均衡器(EDQ)的增益和相位。然而，由于光拾取器致動器的物理結構，在20kHz以上的頻率下不可避免的產(chǎn)生次級諧振，且在次級諧振頻率范圍內(nèi)增益顯著增加。次級諧振峰值的增益可能會超過0dB，這意味著增益容限為0。
在增益容限下降的情況下，如果次級諧振頻率，和具有被n(其中n為1，2，3，…)分割的次級諧振頻率的某一確定干擾，被輸入到光記錄裝置中，則光記錄裝置中很可能會產(chǎn)生干擾。這樣，由于這個干擾的可能性，在光記錄介質快速驅動時，次級諧振峰值的增益容限變成了設計控制器的最重要因素之一。
一種確保增益容限的方法包括一個將次級諧振頻率轉換為一個高頻和另外一個減小次級諧振峰值的大小。圖3B表示通過將次級諧振頻率轉換為高頻來確保增益容限的方法。通過從c到d增加次級諧振頻率，增益容限從GM1增加到GM2(GM1＜GM2)。
同時，線圈架因此通常由具有高強度的液晶聚合物(LCP)制造以提高次級諧振頻率。在這種情況下，次級諧振頻率由于所述高強度而能夠提高。然而，因為吸收振動性能差，由于低對數(shù)衰減或低內(nèi)部損失值，通常采用在LCP材料中混入片狀或纖維形的加強片(例如碳)的合成材料。
雖然線圈架由具備高強度的材料制成，以抑制高頻振動模，并增加次級諧振頻率以提高增益容限，但在可利用的材料方面存在有限的選擇。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實施例提出了一種記錄/重現(xiàn)裝置和一種光拾取器致動器及其方法，其中通過改進相應的線圈架的結構增加次級諧振頻率的大小，并降低次級諧振峰值，使得增益容限增加并降低了彎曲振動模式。
本發(fā)明的另外方面和/或優(yōu)點在隨后的描述中部分闡明，和通過所述說明部分將是顯而易見的，或可從本發(fā)明的實踐中明顯獲知。
為達到上述和/或其它方面和優(yōu)點，本發(fā)明實施例包括一拾取器致動器，其包括有一線圈架，在該線圈架的側壁上形成有多個增加線圈的強度的狹槽，和在聚焦方向、尋軌方向和/或傾斜方向驅動所述線圈架的磁驅動器。
所述狹槽形成于所述線圈架的第一相對側臂上的第一方向，且狹槽形成在垂直于鄰近所述第一相對側壁的側壁上的第一方向的方向上。類似地，狹槽可以形成于所述線圈架的一個側臂的水平方向上，且狹槽可以形成于另一個側臂的垂直方向上。狹槽可進一步有圓形橫截面。
為得到上述和/或其他方面和優(yōu)點，本發(fā)明的實施例包括一種記錄和/或重現(xiàn)裝置，其包括一個根據(jù)本發(fā)明實施例的拾取器致動器，和一控制到/從一介質記錄和/或重現(xiàn)信息及通過控制所述拾取器致動器的操作而為記錄和/或重現(xiàn)信息實施聚焦、尋軌和/或傾斜控制的控制器。
為了得到上述和/或其他方面和優(yōu)點，本發(fā)明實施例包括一拾取器致動器，其包括一線圈架，在該線圈架的側壁上形成有多個用以提高線圈架的強度的狹槽，和在聚焦方向、尋軌方向和/或傾斜方向驅動所述線圈架的磁驅動器，該磁驅動器包括一結合聚焦/傾斜磁驅動器和一分離尋軌驅動器。
所述結合聚焦/傾斜磁驅動器和分離尋軌驅動器定位于所述線圈架的一側。另外，另一個結合聚焦/傾斜磁驅動器和另一個分離尋軌驅動器定位于作為所述線圈架的一側的線圈架的一相對側。更進一步地，所述結合聚焦/傾斜磁驅動器和/或分離尋軌驅動器可與一多極磁體的兩相對極相互磁性作用。與上述類似，狹槽可有圓形橫截面。
為了得到上述和/或其他方面和優(yōu)點，本發(fā)明實施例包括一拾取器致動器，其包括有多個狹槽的線圈架，所述狹槽形成于所述線圈架的側壁上并有圓形橫截面用以增強線圈架的強度，和在聚焦方向、尋軌方向和/或傾斜方向驅動所述線圈架的磁驅動器。
為了得到上述和/或其他方面和優(yōu)點，本發(fā)明實施例包括一拾取器致動方法，其包括操控一根據(jù)本發(fā)明實施例的線圈架，和驅動一磁驅動器以在聚焦方向、尋軌方向和/和傾斜方向操作所述線圈架。
為了得到上述和/和其他方面和優(yōu)點，本發(fā)明實施例包括一種記錄和/或重現(xiàn)方法，其包括一根據(jù)本發(fā)明實施例的拾取器致動方法，和控制到/從一介質上記錄和/或重現(xiàn)信息和通過所述拾取器致動方法為記錄和/或重現(xiàn)信息實施聚焦、尋軌和、或傾斜控制。


本發(fā)明的這些和/或其他方面和優(yōu)點將通過隨后結合附圖描述的實施例將變得顯而易見和更容易理解，其中圖1表示一傳統(tǒng)的光拾取器致動器；圖2表示圖1的分解透視圖；圖3A和3B是描述在傳統(tǒng)的光拾取器致動器的增益和頻率之間發(fā)現(xiàn)的相互關系的圖表；圖4表示一根據(jù)本發(fā)明實施例的光拾取器致動器的部分透視圖；圖5表示根據(jù)本發(fā)明實施例的光拾取器致動器的線圈架的剖面圖；圖6是描述根據(jù)本發(fā)明實施例的當次級諧振頻率增加和次級諧振峰值減小時的增益和頻率之間的相互關系的圖表；圖7描述根據(jù)本發(fā)明實施例的光拾取器致動器的分解透視圖；圖8描述圖7中所示的光拾取器致動器的磁體和線圈的布置圖；圖9描述根據(jù)本發(fā)明實施例的使用一光拾取器致動器的光記錄/重現(xiàn)裝置。
具體實施例方式
現(xiàn)在將詳細說明本發(fā)明的實施例，附圖中描述了本發(fā)明的例子，其中相同的參考標記通篇表示相同的部件。下面將結合附圖描述本發(fā)明的實施例。
記錄/重現(xiàn)裝置的光拾取器致動器中所用的線圈架的次級諧振頻率受線圈架的材料、形狀和公差的影響。在本發(fā)明的實施例中，線圈架的形狀已經(jīng)被改進為具有提高的強度，因此有提高的次級諧振頻率。
參照圖4，本發(fā)明實施例的光拾取器致動器包括帶有一物鏡100的一線圈架103。線圈架103的側壁103a和103b上提供有包括狹槽105a和105b的多個狹槽105。線圈架103的一端連接至保持架108，另一端通過與線圈103連接的支承件106懸掛。
狹槽105形成于線圈架103的側壁上的水平和/或垂直方向。更好地，狹槽105a形成于線圈架103的側壁103a的水平方向，狹槽105b形成于側壁103b的垂直方向。
更好地，沿線圈架103的側壁形成狹槽105的方向。具體地，狹槽能形成于線圈架的相反側壁上的相同方向，同時狹槽形成于線圈架相鄰側壁的相應的垂直方向中。因此，能有效提高線圈架103的強度。
參照圖5，狹槽105a和105b可有圓形橫截面。如果應力集中在狹槽上，則應力將沿著圓形橫截面分布以增加線圈架的強度，由此能提高次級諧振頻率和降低次級諧振峰值。因此，線圈架的增益容限能被進一步提高。上述高頻振動模的產(chǎn)生受到狹槽的圓形橫截面的抑制，從而降低了次級諧振峰值。
如圖6所述，當次級諧振頻率從“e”增加至“f”時，次級諧振峰值降低，以此提高了增益容限。由于狹槽有圓形橫截面，所以次級諧振峰值降低，增益容限從“GM3”提高到“GM4”。
下面將進一步描述根據(jù)本發(fā)明實施例的光拾取器致動器。
參照圖7和8，根據(jù)本發(fā)明實施例的光拾取器致動器包括一基座110，位于基座110一側的保持架108，安裝在基座110上并具有物鏡100的線圈架103，和在聚焦方向F、尋軌方向T和傾斜方向t驅動線圈架103的磁驅動單元。
線圈架103包括多個狹槽105a和105b，例如狹槽105a垂直于狹槽105b。
所述磁驅動單元包括至少一個設置在線圈架的兩個側壁103b上的傾斜/聚焦線圈和尋軌線圈，磁體122與傾斜/聚焦線圈和尋軌線圈相對。例如，該至少一個傾斜/聚焦線圈可包括一第一、第二、第三和第四傾斜/聚焦線圈，例如FC1，F(xiàn)C2，F(xiàn)C3和FC4(圖8所示)，尋軌線圈可包括在線圈架103的一個側壁上的一個線圈TC1和在線圈架103的另一側壁上的一個線圈TC2。第一至第四傾斜/聚焦線圈FC1至FC4和尋軌線圈TC1和TC2安置在線圈架103的兩個側壁103b上，一支持件106安置在線圈架103的剩余兩個側壁103a上，以向第一至第四傾斜/聚焦線圈FC1至FC4和尋軌線性TC1和TC2供電并可移動地支持線圈架。支持件106可以是例如金屬絲或片簧。
使用這種結構，第一至第四傾斜/聚焦線圈FC1至FC4適于在聚焦方向和傾斜聚焦方向同步地控制所述線圈架。
如圖8所示，以分象限極化的形式形成磁體122。具體地，磁體122被分成四個象限以使N極和S極適當分配。為了清楚起見，磁體122可被分割為一第一N極122a，一第二S極122b，一第三N極122c和一第四S極122d。磁體122的各個極122a、122b、122c和122d可按照傾斜/聚焦線圈FC1至FC4和尋軌線圈TC1和TC2進行布置。
例如，尋軌線圈TC1和TC2可與第一和第二極122a和122b相對的安置，每對傾斜/聚焦線圈FC1至FC4安置在線圈架103的兩個側壁上，尋軌線圈TC1和TC2安置在該兩個側壁上，以便與第一和第四極122a和122d相對的安置，同時和第二和第三極122b和122c相對置。
同時，磁體122可以是兩極表面極化的磁體。例如，一對具有兩個極的表面極化磁體可以一定間隔與傾斜/聚焦線圈FC1至FC4和尋軌線圈TC1和TC2相對的安置。
傾斜/聚焦線圈FC1至FC4和尋軌線圈TC1和TC2可以是例如繞組線圈或細圖案(fine pattern coil)，細圖案可以通過在一膜層上構圖某一材料制成，其可有效地安裝在一小的空間中。
雖然磁體122可以制成分象限極化的形式，其表面極化區(qū)域相互對稱，但是對應于尋軌線圈TC1和TC2的第一和第二極122a和122b的表面區(qū)域寬于第三和第四極122c和122d以便得到尋軌線圈TC1和TC2的有效表面面積。具體地，傾斜/聚焦線圈FC1至FC4可利用第一至第四極122a和122d，而尋軌線圈TC1和TC2可只利用第一和第二極122a和122b。因此，極化表面區(qū)域可被調(diào)整以平衡傾斜/聚焦線圈FC1至FC4和尋軌線圈TC1和TC2。
可將一中間區(qū)域123安置在磁體122的極122a至122d之間。由于磁通量在相對極的接觸區(qū)域相抵消，中間區(qū)域123位于各個極的分界點以阻止磁力衰減。圖8進一步表明了由FC1(FC2)，F(xiàn)C3(FC4)和TC1(TC2)所產(chǎn)生的各個電勢Ff1，F(xiàn)f3，F(xiàn)t1。
所述光拾取器致動器也可包括一外部軛125和一內(nèi)部軛127以引導磁體122產(chǎn)生的磁通朝向期望的點。
根據(jù)本發(fā)明上述實施例的光拾取器致動器，狹槽105位于線圈架103的側壁上以增加次級諧振頻率和從而提高光拾取器致動器的增益容限?？稍诓幻撾x本發(fā)明的情況下對圖7和8所示的實施例進行修改或變形，因此這樣的實施例并不限制本發(fā)明。
參照圖9，根據(jù)本發(fā)明實施例的一光記錄/重現(xiàn)裝置可包括一轉臺203以在其上安裝盤D，安裝在轉臺203下面用于旋轉盤D的主軸馬達180旋轉盤D，和相對于轉臺203安裝的一夾持器205，其利用轉臺和夾持器之間的相互關系所產(chǎn)生的電磁力夾持盤D。
當主軸馬達180旋轉盤D時，光拾取單元200可沿盤D的徑向移動以從/到盤上重現(xiàn)和/或記錄信息。例如，盤D相應于具有不同道間距的各種盤。
主軸馬達180和光拾取單元200由驅動單元210驅動，光拾取單元200的聚焦和尋軌伺服由控制單元220控制以從/到盤上實施重現(xiàn)或記錄信息。
光拾取器單元200包括帶有一物件100的光學系統(tǒng)，和用于在聚焦和尋軌方向驅動物鏡100的光拾取器致動器。例如所述光拾取器致動器可包括圖5所示的線圈架103。
光拾取單元200檢測到的信號通過驅動單元210輸入到控制單元200中。驅動單元210控制主軸馬達112的旋轉速度，放大輸入信號并驅動光拾取單元200。
控制單元220發(fā)送一聚焦伺服命令和一尋軌伺服命令到驅動單元以實施聚焦伺服和尋軌伺服，所述命令根據(jù)從驅動單元210得到的信號進行調(diào)整。例如光拾取單元200對于具有不同道間距的信息存儲介質發(fā)射通常使用的三個射束。那么控制單元220就可利用三個射束的信號對不同的信息存儲介質實施尋軌控制。
如上面的描述，根據(jù)本發(fā)明實施例的記錄/重現(xiàn)裝置和光拾取器致動器及其方法，在線圈架上設置狹槽以增加強度并因此增加次級諧振頻率。此外，狹槽可具有圓形橫截面以降低次級諧振峰值并因此提高增益容限。另外，這樣的操作可將實現(xiàn)對記錄介質的快速操作不可缺少的穩(wěn)定性并入到所述光拾取器致動器中。
雖然已經(jīng)特別的示出了本發(fā)明的實施例并參照在附圖中描述的典型實施例對其進行了說明，但本領域技術人員應該理解在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下可在其形式和細節(jié)上對其進行各種改變和修改。因此，本發(fā)明的精神實質和保護范圍是由以下的權利要求及其等價內(nèi)容限定。
權利要求
1.一種拾取器致動器，包括一線圈架，在該線圈架的側壁上形成有多個狹槽，以增加線圈架的強度；和一磁驅動器，用于在一聚焦方向、一尋軌方向和/或一傾斜方向驅動所述線圈架。
2.根據(jù)權利要求1所述的拾取器驅動器，其中在線圈架的第一相對側壁上以第一方向形成所述狹槽，且在與所述第一相對側壁相鄰的側壁上以垂直于第一方向的方向形成所述狹槽。
3.根據(jù)權利要求1所述的拾取器致動器，其中在所述線圈架的一個側壁上以水平方向形成狹槽，且在另一側壁上以垂直方向形成狹槽。
4.根據(jù)權利要求2所述的拾取器致動器，其中狹槽具有圓形橫截面。
5.根據(jù)權利要求1所述的拾取器致動器，其中狹槽具有圓形橫截面。
6.一種記錄和/或重現(xiàn)裝置，包括權利要求1中所述的拾取器致動器；和一控制器，其控制到/從一介質上記錄和/或重現(xiàn)信息，和通過控制拾取器致動器的操作為記錄和/或重現(xiàn)信息實施聚焦、尋軌和/或傾斜控制。
7.一種拾取器致動器，包括一線圈架，在該線圈架的側壁上形成有多個狹槽，以增加線圈架的強度；和一磁驅動器，用于在一聚焦方向、一尋軌方向和/或一傾斜方向驅動所述線圈架，所述磁驅動器包括一結合聚焦/傾斜磁驅動器和一分離的尋軌驅動器。
全文摘要
一種記錄/重現(xiàn)裝置和一種光拾取器致動器及相應的方法，用于利用由一支承件可移動支承的磁驅動單元在一聚焦方向、一尋軌方向和一傾斜方向驅動線圈架，其中物鏡安裝在所述線圈架上，且在所述線圈架的側壁上形成有多個狹槽。根據(jù)本發(fā)明實施例，可增加次級諧振頻率和次級諧振峰值，因此提高了增益容限。
文檔編號G11B7/004GK1652224SQ200510050910
公開日2005年8月10日 申請日期2005年1月13日 優(yōu)先權日2004年1月13日
發(fā)明者趙元翼, 張大鐘 申請人:三星電子株式會社