專利名稱：小型光盤初始化設(shè)備及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于小型光盤初始化的內(nèi)容，尤其是與現(xiàn)有初始化設(shè)備不符的小小型相變型光盤初始化相關(guān)的內(nèi)容。
背景技術(shù)：
近來，隨著對(duì)數(shù)碼相機(jī)、凸輪編碼器及便攜式末端機(jī)等可移動(dòng)使用的高密度信息刻錄/再生裝置的需求的不斷增加，對(duì)具有體積小密度高的刻錄媒體的相關(guān)研究也如火如荼地開展著。
當(dāng)前，主要使用的光盤刻錄方式是通過激光的熱能引起刻錄層的相狀態(tài)變化的相變型光盤。
上述相變型光盤，是通過在刻錄層的局部區(qū)域照射集束的激光束使其升溫/熔融，并使熱迅速擴(kuò)散，利用如此設(shè)計(jì)的光盤結(jié)構(gòu)進(jìn)行迅速冷卻，使結(jié)晶質(zhì)矩陣(matrix)成為非結(jié)晶質(zhì)標(biāo)志來進(jìn)行信息刻錄。
并且，再生時(shí)，從刻錄的非結(jié)晶質(zhì)標(biāo)志和結(jié)晶質(zhì)矩陣之間的反射度差異便可讀出信息。在刻錄的信息消去的情況下，以相對(duì)較低能量的激光加熱，將非結(jié)晶質(zhì)標(biāo)志部位變成結(jié)晶質(zhì)。
這樣，利用結(jié)晶質(zhì)與非結(jié)晶質(zhì)之間的可逆性的狀態(tài)變化，進(jìn)行信息刻錄的相變型光盤大部分通過由噴濺在PC基盤上增加簿膜制成的。
此時(shí)，因?yàn)橥ㄟ^刻錄層使用的Ge-Sb-Te或者Ag-In-Sb-Te合成金屬機(jī)械是由具有非結(jié)晶質(zhì)構(gòu)造的簿膜制成的，所以在作為信息儲(chǔ)存媒介使用之前，要把刻錄層變成結(jié)晶質(zhì)。
將此過程稱作初始化，使用在大部分情況下以向同方向的長(zhǎng)激光經(jīng)過寬范圍進(jìn)行局部升溫的方法。
利用這種方法進(jìn)行相變型光盤初始化的初始化設(shè)備，適合于大部分直徑是120毫米用的光盤，所以，在適合于移動(dòng)使用的小型光盤的情況下，因?yàn)槠浯笮〉牟町?，就產(chǎn)生了無法利用現(xiàn)有設(shè)備進(jìn)行初始化的問題。
參照附圖對(duì)實(shí)例進(jìn)行的詳細(xì)說明；圖1是利用現(xiàn)有正使用的初始化設(shè)備進(jìn)行初始化的情況示意圖。
如圖1所示，初始化過程為，將需使光盤1的初始化的部位對(duì)準(zhǔn)激光4的焦點(diǎn)，通過該部位的溫度升高來實(shí)現(xiàn)。現(xiàn)有的設(shè)備中，以光盤插入時(shí)為基準(zhǔn)，因?yàn)樯喜糠执嬖诠獗P支架5，下面存在主軸電機(jī)6所以，也就有了光拾取器2可進(jìn)入的界限。即是如圖1所示，盡管存在內(nèi)部界限，一般情況下，此界限相當(dāng)于25毫米程度，如果再將上述光拾取器2向進(jìn)一步內(nèi)部移動(dòng)，就會(huì)與光盤支架5或主軸電機(jī)發(fā)生沖突。
因此，在初始化直徑在20毫米至50毫米范圍內(nèi)的小型光盤的情況下，需刻錄的部位比現(xiàn)有設(shè)備的內(nèi)部界限更靠近內(nèi)部，于是就產(chǎn)生了無法使用適合于直徑為120毫米的現(xiàn)有設(shè)備的問題。

發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明的目的是為了解決如前所述的現(xiàn)有技術(shù)的問題而提出的，因?yàn)榫邆淞?0毫米以下的大小，所以便提供了無法原樣使用當(dāng)前120毫米用初始化設(shè)備的相變化型小型光盤的初始化的設(shè)備及方法。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，依據(jù)本發(fā)明的小型光盤初始化的方法以包含以下幾個(gè)步驟為特征為使在光盤一側(cè)插入小型光盤至少要形成一個(gè)以上的夾具的步驟；在上述夾具中插入小型光盤來調(diào)節(jié)上述光盤和刻錄面的高度的步驟；在上述光盤中插入的小型光盤上照射激光進(jìn)行初始化的步驟。
上述形成夾具的步驟，以包含以下步驟為特征與上述小型光盤反射度相同物質(zhì)的簿膜在表面上形成的步驟。
調(diào)節(jié)上述刻錄面的高度的步驟是以包含以下步驟為特征的上述光盤中形成的夾具的背面至少形成一個(gè)以上孔洞的步驟；通過上述孔洞插入具有粘著性物質(zhì)的步驟；利用上述插入的具有粘著性物質(zhì)來調(diào)節(jié)上述小型光盤的高度的步驟。
依本發(fā)明進(jìn)行小型光盤初始化的設(shè)備是以包含以下內(nèi)容為特征的在利用激光初始化的相變型光盤中，為使在上述光盤一側(cè)插入小型光盤至少要形成一個(gè)以上的夾具；為使上述光盤與小型光盤的刻錄面高度相同，在上述夾具內(nèi)部插入的粘著性的物質(zhì)。
上述夾具的特征是為插入上述粘著性物質(zhì)，在上述夾具背面至少要形成一個(gè)以上的孔洞。
上述夾具特征是與上述小型光盤的反射度相同。
綜上所述，依本發(fā)明的小型光盤的初始化設(shè)備及方法具有如下效果。
第一，不需要制作或者是購買初始化小型光盤的新設(shè)備，以現(xiàn)步驟正使用的120毫米光盤初始化設(shè)備進(jìn)行小型光盤初始化的效果。
第二，不必是小型光盤的原型，即便是任意形態(tài)，只要制作出符合其形態(tài)的夾具就可以，所以，可以不受小型光盤的形態(tài)來執(zhí)行初始化。

圖1是依現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行相變型光盤初始化設(shè)備的示意圖。
圖2是表現(xiàn)依本發(fā)明進(jìn)行小型光盤的初始化中使用的夾具平面圖及截面圖。
圖3是表現(xiàn)依本發(fā)明進(jìn)行小型光盤初始化中使用的夾具圖面。
圖4是依據(jù)本發(fā)明利用橡膠粘土來調(diào)節(jié)小型光盤的單差(這里指單單適合小型光盤)的情況的示意圖。
圖5是依本發(fā)明進(jìn)行單差調(diào)節(jié)的夾具和小型光盤的背面示意圖。
圖6是依據(jù)本發(fā)明初始化了的小型光盤示意圖。
具體實(shí)施方式下面是添加的依據(jù)發(fā)明欲達(dá)到的實(shí)例的構(gòu)成和作用的圖面說明。
圖2是表現(xiàn)依本發(fā)明進(jìn)行小型光盤的初始化中使用的夾具平面圖及截面圖如圖2所示，為使小型光盤能夠進(jìn)入120毫米光盤基盤1的一面，形成夾具(jig)7。
上述夾具7的材料可以是聚碳酸酯或是塑料也可以是金屬。(為便于理解，表現(xiàn)上述夾具形象的照片添加在圖3中。)這種情況下，為使小型光盤與夾具之間的間隔在數(shù)十um以內(nèi)，將最大的間隔盡是制造得小些。
并且，為了調(diào)節(jié)單差，如圖2的截面圖所示，在夾具的背面做出小孔。
為了通過上述孔洞，使粘土一樣的具有粘著性的材料來調(diào)節(jié)光盤的高度，將此添加在圖4中展現(xiàn)。
如圖4所示，在光盤1的夾具7中插入小型光盤后，通過背面形成的孔洞添入粘土，便調(diào)節(jié)了小型光盤的高度。
即是通過120毫米光盤1的刻錄面和小型光盤欲初始化的刻錄面的高度的調(diào)對(duì)，來調(diào)準(zhǔn)激光束的焦點(diǎn)。
與此相同，調(diào)節(jié)單差的夾具和小型光盤背面狀態(tài)添加在圖5中展示。
圖5所展示的是有光盤1在形成的夾具背面，為調(diào)節(jié)單差經(jīng)過4個(gè)地方產(chǎn)生小孔洞，并通過孔洞添加粘土的圖示。
此時(shí)，為使上述夾具和小型光盤的反射度相同，增加欲初始化的同樣的簿膜。這樣，因?yàn)槌跏蓟O(shè)備對(duì)光的反射度敏感，為了使上述初始化設(shè)備執(zhí)行穩(wěn)定動(dòng)作，在上述夾具表面涂上與上述小型光盤反射度相近的物質(zhì)如Ge-Sb-Te合成金屬機(jī)械或者Ag-In-Sb-Te合成金屬機(jī)械簿膜。
與此相同，利用夾具插入小型光盤，調(diào)節(jié)單差初始化的過程中，在上述小型光盤的內(nèi)徑中產(chǎn)生home(stacking lib)情況下，在home中，就會(huì)發(fā)生聚焦伺服動(dòng)作停止的情況。
上述小型光盤的內(nèi)徑側(cè)存在的home(stacking lib)是在小型光盤制作過程中，不得已而產(chǎn)生的東西(壓膜痕跡)，因?yàn)檫@樣的原因，激光束的焦點(diǎn)就無法正常動(dòng)作，所以聚焦伺服的動(dòng)作就會(huì)停止。
在這種情況下，旋轉(zhuǎn)小型光盤使其部分初始化就可以了。
以同樣的方法初始化的小型光盤的照片添加在圖6中展示。
通過這樣的方法，當(dāng)前使用的120毫米光盤用初始化設(shè)備無法適用的小型光盤，在當(dāng)前初始化設(shè)備結(jié)構(gòu)不改變的情況下，也可以實(shí)現(xiàn)初始化。
通過上述的說明內(nèi)容，相關(guān)工作人員完全可以在不偏離本項(xiàng)發(fā)明技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。
因此，本項(xiàng)發(fā)明的技術(shù)性范圍并不局限于說明書上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利范圍來確定其技術(shù)性范圍。
權(quán)利要求
1.小型光盤的初始化方法，包括為使在光盤一側(cè)插入小型光盤至少要形成一個(gè)以上的夾具；在上述夾具中插入小型光盤來調(diào)對(duì)上述光盤和刻錄面的高度；在上述光盤中插入的小型光盤上照射激光進(jìn)行初始化。
2.如權(quán)利要求1所述的小型光盤的初始化方法，其特征在于，在表面上形成與上述小型光盤反射度相同物質(zhì)的簿膜。
3.如權(quán)利要求1所述的小型光盤的初始化方法，其特征在于，調(diào)對(duì)上述刻錄面的高度，上述光盤中形成的夾具背面至少要形成一個(gè)以上的孔洞，通過上述孔洞插入具有粘著性物質(zhì)，利用上述插入的具有粘著性物質(zhì)來調(diào)節(jié)上述小型光盤的高度。
4.如權(quán)利要求3所述的小型光盤的初始化方法，其特征在于，上述具有粘著性的物質(zhì)有粘土性質(zhì)。
5.如權(quán)利要求1所述的小型光盤的初始化方法，其特征在于，上述小型光盤具有50毫米以下。
6.小型光盤的初始化設(shè)備，包括在利用激光初始化的相變型光盤中，為使在上述光盤一側(cè)插入小型光盤至少要形成一個(gè)以上的夾具，為使上述光盤與小型光盤的刻錄面高度相同，在上述夾具內(nèi)部插入的粘著性的物質(zhì)。
7.如權(quán)利要求6所述的小型光盤的初始化設(shè)備，其特征在于，為插入上述粘著性物質(zhì)，在上述夾具的背面至少形成一個(gè)以上孔洞。
8.如權(quán)利要求6所述的小型光盤的初始化設(shè)備，其特征在于，上述具有粘著性的物質(zhì)有粘土性質(zhì)。
9.如權(quán)利要求6所述的小型光盤的初始化設(shè)備，其特征在于，上述夾具具有的與上述小型光盤反射度相同。
10.如權(quán)利要求6所述的小型光盤的初始化設(shè)備，其特征在于，上述小型光盤具有50毫米。
全文摘要
本發(fā)明是關(guān)于小型光盤初始化的內(nèi)容，尤其是與現(xiàn)有初始化設(shè)備不符的小型相變型光盤初始化相關(guān)的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明，主要包含了以下幾個(gè)步驟為使在光盤一側(cè)插入小型光盤至少要形成一個(gè)以上的夾具的步驟；在上述夾具中插入小型光盤來調(diào)節(jié)上述光盤和刻錄面的高度的步驟；在上述光盤中插入的小型光盤上照射激光進(jìn)行初始化的步驟。通過這幾個(gè)步驟，就不需要制作或者是購買初始化小型光盤的新設(shè)備，達(dá)到以上步驟正使用的光盤初始化設(shè)備進(jìn)行小型光盤初始化的效果。
文檔編號(hào)G11B7/30GK1815571SQ200510023689
公開日2006年8月9日 申請(qǐng)日期2005年1月31日 優(yōu)先權(quán)日2005年1月31日
發(fā)明者金鐘煥 申請(qǐng)人:上海樂金廣電電子有限公司