專利名稱：顆粒敏感度降低且盤(pán)跟隨能力改善的盤(pán)頭浮動(dòng)塊設(shè)計(jì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總的涉及盤(pán)驅(qū)動(dòng)器系統(tǒng)，特別是、但不局限于在盤(pán)驅(qū)動(dòng)器系統(tǒng)中的盤(pán)頭(disc head)浮動(dòng)塊。
背景技術(shù)：
在數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)中，通常將盤(pán)驅(qū)動(dòng)器用作存儲(chǔ)裝置。這樣的盤(pán)驅(qū)動(dòng)器使用硬質(zhì)的盤(pán)，這些硬質(zhì)的盤(pán)覆涂有可磁化的介質(zhì)，以用于在多個(gè)圓形、同心的數(shù)據(jù)磁道中存儲(chǔ)數(shù)字信息。盤(pán)安裝在一主軸電動(dòng)機(jī)上，該主軸電動(dòng)機(jī)使盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，并使盤(pán)的表面在相應(yīng)的流體動(dòng)力學(xué)(例如空氣)支承的盤(pán)頭浮動(dòng)塊下方通過(guò)。浮動(dòng)塊載有向盤(pán)表面寫(xiě)入信息和從盤(pán)表面讀出信息的換能器。
一致動(dòng)器機(jī)構(gòu)在電子線路系統(tǒng)的控制下橫穿盤(pán)表面地將浮動(dòng)塊從一個(gè)磁道移動(dòng)到另一磁道。致動(dòng)器機(jī)構(gòu)包括一磁道接近臂和用于每一浮動(dòng)塊組件的一懸架。懸架包括一加載梁和一萬(wàn)向節(jié)。加載梁提供一將浮動(dòng)塊壓向盤(pán)表面的一加載力。萬(wàn)向節(jié)定位在浮動(dòng)塊和加載梁之間，或者在加載梁中結(jié)合成一體，以提供彈性的連接，以使浮動(dòng)塊能隨著盤(pán)的表面起伏而搖擺。
浮動(dòng)塊包括一面向盤(pán)表面的支承表面。當(dāng)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，盤(pán)沿著支承表面在大致平行于盤(pán)的切向速度的方向上拖曳浮動(dòng)塊下方的空氣。當(dāng)空氣在支承表面下通過(guò)時(shí)，空氣沿著其空氣流動(dòng)路徑的壓縮致使盤(pán)與支承表面之間的空氣壓力增加，這產(chǎn)生一抵抗加載力的流體動(dòng)力學(xué)升舉力，并致使浮動(dòng)塊抬升并在盤(pán)表面上方或附近飛行。
一種類型的浮動(dòng)塊是“自加載”的空氣支承浮動(dòng)塊，它包括一前導(dǎo)變細(xì)部分(“或階梯變細(xì)部分”)、一對(duì)高出的側(cè)護(hù)軌、一凹腔氣壩以及一低于周?chē)鷫毫Φ陌记弧Ｇ皩?dǎo)變細(xì)部分通常是疊置或蝕刻到浮動(dòng)塊的與記錄頭相對(duì)的端部上的。當(dāng)浮動(dòng)塊下方的空氣被盤(pán)表面拖曳時(shí)，前導(dǎo)變細(xì)部分對(duì)空氣加壓。前導(dǎo)變細(xì)部分的還有一個(gè)作用是浮動(dòng)塊下方的壓力分布由于變細(xì)部分或階梯的大壓縮角度而在變細(xì)部分端或“前導(dǎo)邊”附近有一第一峰值，并且由于為了有效地進(jìn)行磁性記錄而留出的一小支承間隙而在記錄端或“后隨邊”附近有一第二峰值。該雙峰壓力分布產(chǎn)生了一種前后搖擺(pitch)剛度較大的支承。
在記錄高度處浮動(dòng)塊與盤(pán)表面之間的支承間隙對(duì)于盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的性能來(lái)說(shuō)是一個(gè)重要的參數(shù)。人們?cè)υO(shè)計(jì)在面對(duì)盤(pán)的表面上具有專用的結(jié)構(gòu)特征的浮動(dòng)塊，這些專用的結(jié)構(gòu)特征使浮動(dòng)塊能在極其低的飛行高度處工作。隨著浮動(dòng)塊設(shè)計(jì)的進(jìn)步，隨著平均飛行高度不斷地減小，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)污染顆粒正越來(lái)越稱成讀/寫(xiě)頭調(diào)制的原因，且這樣的調(diào)制在某些情況下會(huì)導(dǎo)致讀/寫(xiě)操作的失敗。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，許多低飛行高度的浮動(dòng)塊設(shè)計(jì)不利地促使污染顆粒在浮動(dòng)塊支承表面的后隨邊和/或浮動(dòng)塊的換能器區(qū)域附近發(fā)生積累。到達(dá)浮動(dòng)塊這些區(qū)域的顆粒有時(shí)可能會(huì)導(dǎo)致不可恢復(fù)的數(shù)據(jù)損失。
許多浮動(dòng)塊設(shè)計(jì)包括位于浮動(dòng)塊的面對(duì)盤(pán)的表面的一后隨邊附近的一中心墊支承表面(例如一空氣支承表面)。中心墊支承表面通常位于緊接換能器且沿著后隨邊橫向居中的位置處。在許多例子中，浮動(dòng)塊的其它的面對(duì)盤(pán)的表面結(jié)構(gòu)特征構(gòu)造成在運(yùn)行時(shí)指向中心墊支承表面的流體流(例如空氣流)沒(méi)有被加強(qiáng)。諸如此類的結(jié)構(gòu)是不利的，因?yàn)橐呀?jīng)發(fā)現(xiàn)，中心墊支承表面的加壓增加可改善換能器的盤(pán)跟隨能力。
本發(fā)明的實(shí)施例為這些和其它的問(wèn)題提供了解決方案，并提供比現(xiàn)有技術(shù)更佳的優(yōu)點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明涉及數(shù)據(jù)存儲(chǔ)裝置，且該裝置包括具有致力于解決上述問(wèn)題的面對(duì)盤(pán)表面的結(jié)構(gòu)的盤(pán)頭浮動(dòng)塊。
本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例涉及一種盤(pán)頭浮動(dòng)塊，它具有包括一支承表面的一面對(duì)盤(pán)的表面，該支承表面大體設(shè)置在一支承表面平面內(nèi)。在面對(duì)盤(pán)的表面上形成有一傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、一傾斜的外側(cè)軌道以及一凹腔氣壩。至少傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、傾斜的外側(cè)軌道以及凹腔氣壩之一包括形成支承表面的至少一部分的一表面部分。在傾斜的內(nèi)側(cè)和外側(cè)軌道之間形成一低于周?chē)鷫毫Φ陌记?，且該凹腔包括從支承表面平面移置開(kāi)的一凹腔底板。在面對(duì)盤(pán)的表面上形成有至少一個(gè)凹入表面，并且所述凹入表面大體位于傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、傾斜的外側(cè)軌道以及低于周?chē)鷫毫Φ陌记坏耐饷?。凹入表面比凹腔底板從支承表面平面移置得更遠(yuǎn)。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，凹腔氣壩包括一傾斜的前導(dǎo)邊。
本發(fā)明的另一實(shí)施例涉及一種盤(pán)頭浮動(dòng)塊，它包括一具有一面對(duì)盤(pán)的表面的浮動(dòng)塊主體，該面對(duì)盤(pán)的表面包括大體設(shè)置在一支承表面平面內(nèi)的一支承表面。在面對(duì)盤(pán)的表面上形成有一傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、一傾斜的外側(cè)軌道以及一凹腔氣壩。至少傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、傾斜的外側(cè)軌道以及凹腔氣壩之一包括形成支承表面的至少一部分的一表面部分。在傾斜的內(nèi)側(cè)和外側(cè)軌道之間的面向盤(pán)的表面上形成一低于周?chē)鷫毫Φ陌记?。該低于周?chē)鷫毫Φ陌记话◤闹С斜砻嫫矫嬉浦瞄_(kāi)的一凹腔底板。在面對(duì)盤(pán)的表面上形成有至少一個(gè)凹入表面，并且所述凹入表面大體位于傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、傾斜的外側(cè)軌道以及低于周?chē)鷫毫Φ陌记坏耐饷妗０既氡砻媾c凹腔底板相比，從支承表面平面移置大致相同的距離。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，凹腔氣壩包括一傾斜的前導(dǎo)邊。
另一實(shí)施例涉及一種盤(pán)頭浮動(dòng)塊，它包括一具有一面對(duì)盤(pán)的表面的浮動(dòng)塊主體，該面對(duì)盤(pán)的表面包括一內(nèi)側(cè)邊、一外側(cè)邊以及大體設(shè)置在一支承表面平面內(nèi)的一支承表面。在面對(duì)盤(pán)的表面上形成有一傾斜的內(nèi)側(cè)軌道，該內(nèi)側(cè)軌道有一前導(dǎo)端和一后隨端。傾斜的內(nèi)側(cè)軌道的后隨端設(shè)置成比前導(dǎo)端離開(kāi)浮動(dòng)塊主體的內(nèi)側(cè)邊遠(yuǎn)。在面對(duì)盤(pán)的表面上形成一傾斜的外側(cè)軌道，且該外側(cè)軌道有一前導(dǎo)端和一后隨端。外側(cè)軌道的后隨端設(shè)置成比前導(dǎo)端離開(kāi)浮動(dòng)塊主體的外側(cè)邊遠(yuǎn)。在面對(duì)盤(pán)的表面上形成有一凹腔氣壩，并且該凹腔氣壩有一傾斜的前導(dǎo)邊和一至少形成支承表面的一部分的表面部分。在面對(duì)盤(pán)的表面上、在傾斜的內(nèi)側(cè)和外側(cè)軌道之間形成一低于周?chē)鷫毫Φ陌记?。該低于周?chē)鷫毫Φ陌记挥幸粡闹С斜砻嫫矫嬉浦瞄_(kāi)的凹腔底板。設(shè)置了至少一個(gè)凹入表面，且該或這些凹入表面比凹腔底板從支承表面平面移置得更遠(yuǎn)。該或這些凹入表面形成在面對(duì)盤(pán)的表面上，并且大體位于傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、傾斜的外側(cè)軌道以及低于周?chē)鷫毫Φ陌记坏耐饷?。所述至少一個(gè)凹入表面是大體設(shè)置在浮動(dòng)塊主體的內(nèi)側(cè)邊與傾斜的內(nèi)側(cè)軌道之間的一第一凹入表面。而一第二凹入表面大體設(shè)置在浮動(dòng)塊主體的外側(cè)邊與傾斜的外側(cè)軌道之間。
在閱讀了以下的詳細(xì)說(shuō)明并參閱了相關(guān)的附圖之后，為本發(fā)明諸實(shí)施例的特征的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將變得清楚。
附圖簡(jiǎn)述

圖1是一盤(pán)驅(qū)動(dòng)器的軸測(cè)圖。
圖2是根據(jù)本發(fā)明一示例性實(shí)施例的浮動(dòng)塊的立體圖。
圖3是圖2所示浮動(dòng)塊的平面圖。
圖4是沿著圖2中的線4-4截取的剖面圖。
圖5是描述圖2所示浮動(dòng)塊的示例性工作質(zhì)量流量線的示意圖。
圖6是根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的浮動(dòng)塊的平面圖。
圖7是根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的浮動(dòng)塊的平面圖。
圖8是根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的浮動(dòng)塊的平面圖。
圖9是根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的浮動(dòng)塊的平面圖。
圖10描述圖9所示浮動(dòng)塊的示例性工作質(zhì)量流量線的示意圖。
圖11是根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的浮動(dòng)塊的立體圖。
圖12是圖11所示浮動(dòng)塊的平面圖。
具體實(shí)施例方式
圖1是本發(fā)明的實(shí)施例可用于的一盤(pán)驅(qū)動(dòng)器100的軸測(cè)圖。盤(pán)驅(qū)動(dòng)器100包括帶有一底座102和一頂蓋(未示出)的一殼體。盤(pán)驅(qū)動(dòng)100還包括一盤(pán)組件106，它通過(guò)一盤(pán)夾具108安裝在一主軸電動(dòng)機(jī)(未示出)上。盤(pán)組件106包括多個(gè)單獨(dú)的盤(pán)107，它們安裝成繞中心軸線109共同轉(zhuǎn)動(dòng)。各盤(pán)表面設(shè)有相關(guān)的浮動(dòng)塊110，諸浮動(dòng)塊安裝在盤(pán)驅(qū)動(dòng)器100上并裝載有一用于與盤(pán)表面通訊的讀/寫(xiě)頭。讀/寫(xiě)頭可包括任何類型的換能頭，例如感應(yīng)頭、磁阻磁頭、光度頭或磁光頭。
在圖1所示的例子中，浮動(dòng)塊110由懸架112支撐，該懸架112又附接至一致動(dòng)116的磁道接近臂114。圖1所示的致動(dòng)器是被稱為旋轉(zhuǎn)移動(dòng)線圈式致動(dòng)器，并包括總地示于118處的一音圈電動(dòng)機(jī)(VCM)。音圈電動(dòng)機(jī)118繞一樞轉(zhuǎn)軸120轉(zhuǎn)動(dòng)致動(dòng)器116及其所附接的浮動(dòng)塊110，以沿著在一盤(pán)內(nèi)徑124和一盤(pán)外徑126之間的一路徑122將浮動(dòng)塊110定位在一所要求的數(shù)據(jù)磁道上方。伺服電子裝置128基于浮動(dòng)塊110和一主計(jì)算機(jī)(未示出)所產(chǎn)生的信號(hào)來(lái)驅(qū)動(dòng)音圈電動(dòng)機(jī)118。也可以使用其它類似的致動(dòng)器，如直線致動(dòng)器。
在工作的過(guò)程中，當(dāng)盤(pán)107轉(zhuǎn)動(dòng)，盤(pán)在各浮動(dòng)塊110的下方并沿著大致平行于盤(pán)切線速度的方向拖曳空氣。當(dāng)空氣在空氣支承表面下方通過(guò)時(shí)，沿著氣流路徑的空氣壓縮致使盤(pán)和空氣支承表面之間的氣壓上升，這就產(chǎn)生了抵抗懸架112所提供的加載力的一流體動(dòng)力學(xué)的升舉力，并使浮動(dòng)塊110升起并在盤(pán)表面上方或者緊挨盤(pán)表面的地方飛行。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，浮動(dòng)塊110包括形成在其面向盤(pán)107的表面上的特殊的結(jié)構(gòu)特征。例如，這些特殊的特征中的一些能減少所不希望發(fā)生的在浮動(dòng)塊110的換能頭區(qū)域的污染顆粒的累積。此外，這些特殊特征中的一些通過(guò)改善與浮動(dòng)塊110相關(guān)的換能頭的盤(pán)跟隨能力來(lái)加強(qiáng)浮動(dòng)塊110的飛行性能。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，圖2是從例如盤(pán)107(圖1)的一盤(pán)表面所見(jiàn)的一浮動(dòng)塊200的立體圖。在圖2中，為了清楚而對(duì)豎向尺寸加以夸大。圖3是浮動(dòng)塊200從一盤(pán)表面所見(jiàn)的平面圖。浮動(dòng)塊200被示例性地設(shè)計(jì)成是以與參照?qǐng)D1所述的浮動(dòng)塊110的工作相同的方式進(jìn)行工作的。
浮動(dòng)塊200由具有一浮動(dòng)塊主體202的基片形成，該浮動(dòng)塊主體202包括一面向盤(pán)的表面203。面向盤(pán)的表面203包括一內(nèi)側(cè)邊206、一外側(cè)邊208、一前導(dǎo)邊210以及一后隨邊212。面向盤(pán)的表面203還包括設(shè)置在那些邊緣之間的多種結(jié)構(gòu)特征。例如，面向盤(pán)的表面203包括一內(nèi)側(cè)軌道214、一外側(cè)軌道220、一凹腔氣壩230、一低于周?chē)鷫毫Φ陌记?42、一中心墊245以及凹入表面204。下文將詳細(xì)描述各個(gè)面向盤(pán)的表面203的結(jié)構(gòu)特征和各種與之相關(guān)的、特殊的、單獨(dú)的面向盤(pán)的表面。
如下文將描述的，至少一個(gè)、可能若干個(gè)面向盤(pán)的表面203的結(jié)構(gòu)特征包括一支承表面。當(dāng)浮動(dòng)塊200相對(duì)一盤(pán)(例如圖1中的盤(pán)107)定位時(shí)，支承表面將大體被定位在比其它表面更靠近盤(pán)的地方。例如，一個(gè)或多個(gè)支承表面大體處于一平面內(nèi)，為了本說(shuō)明書(shū)便于說(shuō)明，將該平面稱作為支承表面平面。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，浮動(dòng)塊200包括在支承表面平面內(nèi)大體共面的多個(gè)支承表面，因而這些支承表面基本定位成離開(kāi)盤(pán)(例如盤(pán)107)相同的距離。
一般來(lái)說(shuō)，當(dāng)一盤(pán)頭浮動(dòng)塊在一盤(pán)驅(qū)動(dòng)器中工作時(shí)，浮動(dòng)塊通常構(gòu)造成響應(yīng)與一盤(pán)表面相關(guān)的各種起伏的結(jié)構(gòu)特征而搖擺。同樣，許多浮動(dòng)塊構(gòu)造成呈一工作傾擺，其中后隨端比前導(dǎo)端更靠近盤(pán)表面。應(yīng)予指出的是，在本說(shuō)明書(shū)的上下文中，當(dāng)提及浮動(dòng)塊表面相對(duì)一盤(pán)(例如比另一表面向該盤(pán)表面延伸得更遠(yuǎn)的一表面)的位置時(shí)，應(yīng)是假設(shè)浮動(dòng)塊是定位在大體與盤(pán)表面平行的一平面內(nèi)(該浮動(dòng)塊大體是平直的定位的，而無(wú)任何前后或左右的搖擺位移)。
應(yīng)予指出的是，諸如浮動(dòng)塊200之類的盤(pán)頭浮動(dòng)塊通常沿它們長(zhǎng)度和/或?qū)挾确较蚵杂袕澢＿@樣的彎曲通常被稱作浮動(dòng)塊冠狀彎曲(slider crowncurvature)和浮動(dòng)塊橫向彎曲(slider cross curvature)。因此，應(yīng)予理解，這里所述的表面和表面平面、包括支承表面平面可能呈現(xiàn)浮動(dòng)塊冠狀彎曲和橫向彎曲，而不是設(shè)置在一完全平直的平面內(nèi)的。
為了本說(shuō)明書(shū)的說(shuō)明，將參照具有一相對(duì)深度的諸表面。例如，一表面可能會(huì)具有比另一表面的深度更深或淺的表面。應(yīng)假設(shè)所述的深度就量自支承表面平面的。因此，本說(shuō)明中所用的術(shù)語(yǔ)“深度”一般是從與至少一個(gè)所述支承表面大體共平面的一平面量起。具有較深或較大的深度的一表面比具有較淺或較小深度的表面離開(kāi)支承表面平面更遠(yuǎn)。一支承表面將示例性地被賦予零深度值。
面向盤(pán)的表面203包括一內(nèi)側(cè)軌道214，該內(nèi)側(cè)軌道214具有一軌道前導(dǎo)端216和一軌道后隨端218。內(nèi)側(cè)軌道214大體傾斜成軌道后隨端218比軌道前導(dǎo)端216離開(kāi)內(nèi)側(cè)邊206更遠(yuǎn)。面向盤(pán)的表面203還包括一外側(cè)軌道220，該外側(cè)軌道220具有一軌道前導(dǎo)端222和一軌道后隨端224。外側(cè)軌道220大體傾斜成軌道后隨端224比軌道前導(dǎo)端222離開(kāi)外側(cè)邊208更遠(yuǎn)。
內(nèi)側(cè)軌道214和外側(cè)軌道220各具有一分別大體位于軌道前導(dǎo)端216和222附近的軌道階梯表面226。內(nèi)側(cè)軌道214和外側(cè)軌道220各還具有一分別大體位于軌道后隨端218和224附近的軌道支承表面228。一般來(lái)說(shuō)，軌道階梯表面226在深度上與軌道支承表面228錯(cuò)開(kāi)。換言之，軌道支承表面228比軌道階梯表面226向盤(pán)(例如圖1中的盤(pán)107)延伸得更遠(yuǎn)。表面226具有比表面228更深或更大的深度(例如，因?yàn)楸砻?28是支承表面，所以它們示例性地具有一個(gè)零深度值)。
如圖所示，各軌道階梯表面226的一部分包括一匯聚的槽溝部分247，所述部分247在各軌道支承表面228內(nèi)延伸成一大體“V”形的區(qū)域。因此，考慮到軌道階梯表面226和軌道支承表面228的深度，軌道支承表面228在它們的前導(dǎo)側(cè)大體向流體流(例如空氣流)開(kāi)口，但大體在它們的后隨側(cè)封閉。在浮動(dòng)塊200在一盤(pán)驅(qū)動(dòng)器環(huán)境(例如參見(jiàn)圖1中的浮動(dòng)塊110)中工作的過(guò)程中，所示的軌道結(jié)構(gòu)示例性地導(dǎo)致一特定的流體流(例如空氣流)模式，因而也導(dǎo)致了一特定的壓力產(chǎn)生模式。該壓力產(chǎn)生模式示例性地至少有助于工作過(guò)程中對(duì)浮動(dòng)塊200的搖擺的加以控制，并且，根據(jù)給定的浮動(dòng)塊應(yīng)用場(chǎng)合的屬性，該壓力產(chǎn)生模式可以由于與浮動(dòng)塊工作性能相關(guān)的其它原因也是所要求的。
應(yīng)予指出，目前的與制造相關(guān)的限制條件難于在各軌道支承表面228內(nèi)實(shí)現(xiàn)該所述的“V”形區(qū)域。為了適應(yīng)目前的制造工藝，各軌道支承表面228內(nèi)的區(qū)域可以大體是“U”形的或具有其它的形狀。這里所圖示和所描述一些的形狀應(yīng)僅被認(rèn)為是在本發(fā)明保護(hù)范圍之內(nèi)的許多形狀的示例性的例子。
應(yīng)予注意，所示的軌道表面226和228對(duì)于本發(fā)明來(lái)說(shuō)不是關(guān)鍵性的。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，表面226和228具有相同的深度，以致軌道214和220呈現(xiàn)為一大體連續(xù)的、具有單一深度(例如整個(gè)軌道214和220各包括大體與兩表面228之一具有相同深度的一單個(gè)的面向盤(pán)的表面)的支承表面(每一軌道一個(gè))。與所示的結(jié)構(gòu)相比，這樣的一種結(jié)構(gòu)將在工作過(guò)程中呈現(xiàn)一不同的壓力模式。
根據(jù)另一實(shí)施例，表面226和228具有相同的深度，以致軌道214和220呈位于一階梯深度處(例如整個(gè)軌道214和220各包括大體與兩表面226之一具有相同深度的一單個(gè)的面向盤(pán)的表面)的一大體連續(xù)的表面(每一軌道一個(gè))。這樣的結(jié)構(gòu)將在工作過(guò)程中呈現(xiàn)又一個(gè)不同的壓力模式。根據(jù)一給定的浮動(dòng)塊應(yīng)用場(chǎng)合和/或浮動(dòng)塊環(huán)境的屬性，不同的壓力模式可能是所要求的。該特別地描述的軌道表面結(jié)構(gòu)以及其它的軌道表面結(jié)構(gòu)應(yīng)被認(rèn)為是落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)的。
面向盤(pán)的表面203還包括一凹腔氣壩230，該凹腔氣壩230示例性地與軌道214和220鄰接，但這不是必須的。凹腔氣壩230具有一凹腔氣壩上表面232，該上表面232示例性地形成一支承表面，但這不是必須的。凹腔氣壩230還具有一凹腔氣壩前導(dǎo)邊234，該前導(dǎo)邊234大體從一中點(diǎn)236向兩側(cè)角點(diǎn)238傾斜，其中兩側(cè)角點(diǎn)238大體比中點(diǎn)236離開(kāi)前導(dǎo)邊210遠(yuǎn)。凹腔氣壩230還包括一凹腔氣壩上表面前導(dǎo)邊237，該前導(dǎo)邊237大體從一凹腔氣壩上表面中點(diǎn)239向兩凹腔氣壩上表面?zhèn)冉屈c(diǎn)241傾斜。凹腔氣壩上表面?zhèn)冉屈c(diǎn)241大體比凹腔氣壩上表面中點(diǎn)239離開(kāi)前導(dǎo)邊210遠(yuǎn)。
凹腔氣壩230還包括凹腔氣壩前導(dǎo)表面240。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，表面240大體是平直的，并在深度上與凹腔氣壩上表面232錯(cuò)開(kāi)，并且也與支承表面平面錯(cuò)開(kāi)。凹腔氣壩上表面232大體比表面240向盤(pán)(例如圖1中的盤(pán)107)延伸地更多一些。表面240具有比表面232的深度深或大的深度。凹腔氣壩前導(dǎo)邊234示例性地具有一較深的深度(例如與表面240相同的深度)，并且凹腔氣壩上表面的前導(dǎo)邊237具有一較淺的深度(例如與表面232相同的深度)。
根據(jù)另一實(shí)施例，表面240包括一變化的深度，最深或最大的深度大體在這些表面的前導(dǎo)側(cè)，最淺或最小的深度大體在這些表面的后隨側(cè)。凹腔氣壩前導(dǎo)邊234示例性地具有一較深的深度(例如與表面240的最深的部分相同的深度)，凹腔氣壩上表面的前導(dǎo)邊237則具有一較淺的深度(例如與表面240的最淺的部分相同的深度)。一般來(lái)說(shuō)，盡管具有變化的深度，但凹腔氣壩前導(dǎo)表面240在其上的所有點(diǎn)處仍大體具有比凹腔氣壩上表面232的深度大或者相等的深度。示例性地，表面240包括如所述的一變化的深度，但特殊地以從一階梯向下一階梯逐漸地改變深度的多級(jí)“步進(jìn)階梯”的形式來(lái)實(shí)現(xiàn)。
盡管所示為處于相同的大體位置，但中點(diǎn)236和凹腔氣壩上表面中點(diǎn)239可以示例性地彼此移置開(kāi)。例如，凹腔氣壩上表面232和/或凹腔氣壩前導(dǎo)表面240可以構(gòu)造成中點(diǎn)236和239彼此分離。中點(diǎn)236或239都不必位于前導(dǎo)表面210的的中心處或者靠近它。中點(diǎn)中的任一個(gè)或兩者可以示例性地位于靠近比所示地更靠近邊緣206、208、210和/或212中的任一個(gè)，并且一個(gè)中點(diǎn)可以示例性地位于比其它中點(diǎn)更靠近那些邊緣中的任一個(gè)。類似地，側(cè)點(diǎn)238和241一也可以示例性地位于更靠近或進(jìn)一步遠(yuǎn)離前導(dǎo)邊210，并彼此重合。最后，根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，兩凹腔氣壩上表面前導(dǎo)邊237和凹腔氣壩前導(dǎo)邊234中僅有一個(gè)如圖所示地傾斜(例如，一中點(diǎn)比兩角點(diǎn)更靠近邊緣210)，而另一個(gè)則大體具有一方形或筆直的邊緣(例如，中點(diǎn)和兩角點(diǎn)都在一基本筆直的線上)。
一般來(lái)說(shuō)，凹腔氣壩上表面232的深度比軌道階梯表面226的深度小或淺，并且比凹腔氣壩前導(dǎo)表面240的深度小或淺(例如量自一支承表面平面)。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，凹腔氣壩上表面232具有與軌道支承表面228相同的深度(例如，凹腔氣壩上表面232也是一支承表面)。根據(jù)另一實(shí)施例，軌道階梯表面226具有與凹腔氣壩前導(dǎo)表面240相同的深度。這里所述的不同表面的相對(duì)深度應(yīng)被認(rèn)為僅僅是一些例子。這里所述的浮動(dòng)塊實(shí)施例的不同表面之間的其它深度關(guān)系應(yīng)被認(rèn)為是落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)的。
面對(duì)盤(pán)的表面203還包括一中心墊(或軌道)245。中心墊245示例性地位于前導(dǎo)邊212附近、一大體沿著該邊緣居中的位置處，但這不是必須的。中心墊245包括一中心階梯表面246和一中心支承表面248。一般來(lái)說(shuō)，中心階梯表面246在深度上與中心支承表面248錯(cuò)開(kāi)。換言之，中心支承表面248比中心階梯表面246向盤(pán)(例如圖1中的盤(pán)107)延伸得更多一些。表面246具有比表面248更大或更深的深度(例如，因?yàn)楸砻?48是一支承表面，它示例性地具有一個(gè)零深度值)。中心階梯表面246的深度示例性地可與表面226和240中的任一個(gè)或兩種相同或不同。
如圖所示，中心階梯表面246的一部分延伸入一大體“J”形的中心支承表面248。因此，考慮到中心階梯表面246與中心支承表面248的相對(duì)深度，中心支承表面248大體向在其前導(dǎo)側(cè)上的流體流(例如空氣流)開(kāi)口，但大體向在其后隨側(cè)上的流體流封閉。這樣的一個(gè)構(gòu)造導(dǎo)致一特定的流體流(例如空氣流)模式，因而也在工作過(guò)程中導(dǎo)致了一特定的壓力產(chǎn)生模式。如前文所述，根據(jù)特定的浮動(dòng)塊應(yīng)用場(chǎng)合，不同的壓力模式可能是人們所希望的。所示的中心墊245將說(shuō)明性地呈現(xiàn)一特定的壓力模式，該壓力模式可能會(huì)有利地幫助根據(jù)一給定的浮動(dòng)塊應(yīng)用場(chǎng)合來(lái)控制浮動(dòng)塊200。應(yīng)予強(qiáng)調(diào)的是，該大體“J”形的中心支承表面248可以具有多種形狀中的任一種，而不會(huì)超出本發(fā)明的保護(hù)范圍。例如，中心承載表面可以替代地呈一方形墊、一圓形墊、大體呈“C”形或者具有各種各樣的形狀中一些其它形狀。這里所述的特定形狀應(yīng)被認(rèn)為僅僅是一些例子。應(yīng)認(rèn)為其它的形狀也落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
應(yīng)予注意，所示的中心墊245的結(jié)構(gòu)對(duì)本發(fā)明來(lái)說(shuō)不是關(guān)鍵性的。也可以使用呈現(xiàn)出其它壓力模式的其它結(jié)構(gòu)。根據(jù)一給定的浮動(dòng)塊應(yīng)用場(chǎng)合和/或浮動(dòng)塊環(huán)境，不同的壓力模式可能是所希望的。應(yīng)認(rèn)為該具體所述的結(jié)構(gòu)和其它的結(jié)構(gòu)是落入本發(fā)明的保護(hù)范圍的。應(yīng)予注意，盤(pán)頭浮動(dòng)塊200(以及下文所述的其它浮動(dòng)塊實(shí)施例)通常也包括一讀/寫(xiě)換能器(未示出)，該讀/寫(xiě)換能頭位于在面對(duì)盤(pán)的表面203上或其附近的許多可能的位置之一處，例如可以位于中心墊245的附近。換能器的精確定位對(duì)于本發(fā)明來(lái)說(shuō)不是關(guān)鍵性的。示例性地，可以選擇某種中心墊245的結(jié)構(gòu)、軌道214/220的結(jié)構(gòu)等來(lái)向讀/寫(xiě)換能器的一特定的布置提供和添加性能上的優(yōu)點(diǎn)。
面對(duì)盤(pán)的表面203還包括一低于周?chē)鷫毫Φ陌记?42，該凹腔242大體位于內(nèi)側(cè)軌道214、外側(cè)軌道220以及凹腔氣壩230之間，并示例性地、但不是必須地向后隨邊212延伸。低于周?chē)鷫毫Φ陌记?42包括一凹腔底板244。
面對(duì)盤(pán)的表面203還包括凹入表面204，凹入表面204包括一后隨的外側(cè)凹入表面205、一后隨的內(nèi)側(cè)凹入表面207、一前導(dǎo)的內(nèi)側(cè)凹入表面209、以及一前導(dǎo)的外側(cè)凹入表面211。示例性的，諸凹入表面204大體位于軌道214、軌道220、凹腔氣壩230以及凹腔242的外側(cè)。
如圖所示，面對(duì)盤(pán)的表面203的諸結(jié)構(gòu)特征布置成凹入表面208和211不直接彼此連接、而是被凹腔氣壩230打斷。類似地，凹入表面205和207不直接彼此連接，而是被凹腔底板244和中心墊245打斷。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，面對(duì)盤(pán)的表面203的諸結(jié)構(gòu)特征以其它的方式構(gòu)造成這些不連接的表面中的一組或兩組都是相連的。
如圖所示，面對(duì)盤(pán)的表面203的諸結(jié)構(gòu)特征布置成凹入表面207和209直接彼此連接并且不被凹腔氣壩230或表面203的任何其它的部分打斷。凹入表面205和211也類似地連接。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，面對(duì)盤(pán)的表面203諸結(jié)構(gòu)特征以其它的方式構(gòu)造成這些連接的表面中的一組和兩組都不連接(例如，諸表面被一延伸凹腔氣壩230打斷)。
根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，凹入表面204的諸表面的深度比面對(duì)盤(pán)的表面203的上述其它部分的其它上述表面的深度大或深。換言之，凹入表面204的諸表面的深度在所有上述的面對(duì)盤(pán)的表面203的表面中最大。根據(jù)另一實(shí)施例，不是所有的凹入表面204的表面都必須具有完全相同的深度，但凹入表面204的諸表面的深度仍類似地大于面對(duì)盤(pán)的表面203的其它表面的深度。
凹入表面204沿深度方向大體從凹腔242的凹腔底板244移置開(kāi)，并具有比后者更大或深的深度。換言之，凹入表面204的諸表面的深度大體比凹腔底板244的深度大或深。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，從至少與和凹腔氣壩232、軌道214/220或中心墊245相關(guān)的所述支承表面之一大體共面的一平面開(kāi)始測(cè)量，低于周?chē)鷫毫Φ陌记?42的凹腔底板244的深度大約為2-3微米，而凹入表面204的諸表面的深度大約為10微米。根據(jù)一個(gè)圖示的實(shí)施例，凹腔底板244的深度大于或深于軌道表面226和228、凹腔氣壩表面232和240以及中心墊246和248的深度，但小于或淺于凹入表面204的諸表面的深度。
圖4是沿著圖2中的線4-4截取的示意性的剖面圖。圖4示出并闡明了示例性的表面深度。如圖所示，凹入表面207(一特定的凹入表面204)的深度250量自與軌道支承表面228共面的一支承表面平面229。作為比較，低于周?chē)鷫毫Φ陌记?42的底板244的深度252也量自支承表面平面229。
根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，深度250總是大于深度252。根據(jù)另一實(shí)施例，深度250至少為深度252兩倍那樣深。根據(jù)另一實(shí)施例，深度250的值至少為6微米，較佳地為8或10微米或在8和10微米之間。大于10微米的深度250的值也應(yīng)被認(rèn)為是落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)的，并且可能會(huì)對(duì)于在下文所考慮和描述的功能性更為有效。但由于目前制造方面的限制，這樣的深度是難于實(shí)現(xiàn)的。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，深度252的值為1或6微米或在1和6微米之間，較佳地是為2或3微米或在2和3微米之間。示例性地，在深度方面，凹入表面205、209以及211是與凹入表面207相似或者相同的。
上述的深度值和關(guān)系是與本發(fā)明功能上的原理一致的，并且在本發(fā)明功能上的原理的環(huán)境中大體是有效的。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，浮動(dòng)塊200設(shè)計(jì)成在浮動(dòng)塊200在一盤(pán)驅(qū)動(dòng)器環(huán)境內(nèi)工作的過(guò)程中，對(duì)污染顆粒尤為不敏感。具體地說(shuō)，浮動(dòng)塊200設(shè)計(jì)成阻礙污染顆粒在浮動(dòng)塊200的后隨邊支承表面(中心支承表面248)、通常也是浮動(dòng)塊的換能器區(qū)域處的附近積累。示例性地，通過(guò)使凹腔氣壩230的一前導(dǎo)部分和/或軌道214和220傾斜，并采用特別地從面對(duì)盤(pán)的表面的其它部分凹入的凹入表面204，可以操縱在工作過(guò)程中浮動(dòng)塊200下方的質(zhì)量流量模式，以防止顆粒達(dá)到在后隨邊212處的低于周?chē)鷫毫Φ陌记?42和中心支承表面248。圖5是一示意圖500，繪出了一工作中的浮動(dòng)塊200的示例性的質(zhì)量流量線，并示出了如何示例性地將污染顆粒從中心支承表面248偏轉(zhuǎn)開(kāi)。
一般來(lái)說(shuō)，在浮動(dòng)塊200的工作過(guò)程中，一致動(dòng)器臂(例如圖1中的臂144)會(huì)運(yùn)動(dòng)浮動(dòng)塊，以使浮動(dòng)塊從各種角度經(jīng)受流體流，這些角度通常稱為斜交角。在致動(dòng)器臂的小斜交角布置下，浮動(dòng)塊200將大體經(jīng)受來(lái)自前導(dǎo)邊210方向的流體流(例如空氣流)。因此，在小斜交角的情況下，污染顆粒主要從浮動(dòng)塊200的前導(dǎo)邊210進(jìn)入頭盤(pán)交界面(HDI)。通過(guò)傾斜凹腔氣壩的前導(dǎo)邊234和/或凹腔氣壩上表面的前導(dǎo)邊237，就可以操縱(見(jiàn)圖5)在浮動(dòng)塊200前方的流體流(例如空氣流)，以從HDI偏轉(zhuǎn)開(kāi)污染顆粒。一傾斜的凹腔氣壩前導(dǎo)邊還能使盤(pán)表面上松散顆粒不妨礙“犁”的通路(”plowing”out ofthe way of loose particles)。由于增強(qiáng)了加壓和流體流的導(dǎo)向，所以在傾斜的凹腔氣壩邊緣前面的凹入表面204的設(shè)置示例性地進(jìn)一步有利于偏轉(zhuǎn)污染顆粒。
在致動(dòng)器臂的大斜交角布置下，浮動(dòng)塊200將大體經(jīng)受來(lái)自內(nèi)側(cè)邊206或者外側(cè)邊208的方向的流體流(例如空氣流)。因此，在大斜交角的情況下，污染顆粒主要從浮動(dòng)塊的兩側(cè)面進(jìn)入頭盤(pán)交界面(HDI)。在內(nèi)側(cè)邊206和/外側(cè)邊208附近設(shè)置某種支承表面可能會(huì)防止污染顆粒從側(cè)面的進(jìn)入。不幸的是，加工工藝上的限制使得大體較難將主動(dòng)支承表面設(shè)置在靠近浮動(dòng)塊側(cè)面之處。
根據(jù)浮動(dòng)塊200的實(shí)施例，內(nèi)側(cè)軌道214和外側(cè)軌道220是傾斜的，以對(duì)齊成在浮動(dòng)塊200的大致最大斜交角下，流體流(例如空氣流)將污染顆粒偏轉(zhuǎn)離開(kāi)浮動(dòng)塊的側(cè)面，并且特別是從低于周?chē)鷫毫Φ陌记?42和中心支承表面248偏轉(zhuǎn)開(kāi)。因此，通過(guò)傾斜的軌道214和220(見(jiàn)圖5)，將在盤(pán)表面上或在盤(pán)表面上方運(yùn)動(dòng)的污染顆粒偏轉(zhuǎn)離開(kāi)HDI。由于增強(qiáng)了加壓和流體導(dǎo)向，凹入表面204示例性地進(jìn)一步有利于顆粒的偏轉(zhuǎn)。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，浮動(dòng)塊200的有利之處在于，內(nèi)側(cè)軌道214和外側(cè)軌道220的傾斜構(gòu)造一起用作一漏斗，以將相當(dāng)大量的流體流(例如空氣流)壓擠向中心墊245及其相關(guān)的表面。這示例性地能在浮動(dòng)塊200工作的過(guò)程中使中心支承表面248更好地加壓。同樣，由于軌道214和220向后隨邊212的中心傾斜，所以正壓力較多地停留在浮動(dòng)塊面對(duì)盤(pán)的表面203的那個(gè)部分的中心。假設(shè)采用在中心墊245附近的一傳統(tǒng)的換能器布置，這些壓力模式特征將帶來(lái)?yè)Q能器在盤(pán)跟隨能力方面的有利的改進(jìn)。
而浮動(dòng)塊200僅僅是本發(fā)明的許多可能的實(shí)施例中的一個(gè)示例性的例子?？梢詰?yīng)用本發(fā)明的一般概念來(lái)產(chǎn)生在也是本發(fā)明保護(hù)范圍之內(nèi)的實(shí)施例的其它結(jié)構(gòu)。最為適合的結(jié)構(gòu)是專用的，并至少根據(jù)與一浮動(dòng)塊的應(yīng)用相關(guān)的、特定的環(huán)境上的考慮因素。下文將參照?qǐng)D6-10來(lái)討論若干其它的示例性實(shí)施例。
圖6是根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的浮動(dòng)塊600的平面圖。在圖6中，相似或相同地標(biāo)識(shí)與關(guān)于浮動(dòng)塊200(圖2和3)所描述的部分相同或大致相似的部分。浮動(dòng)塊600示例性地設(shè)計(jì)成以與參照?qǐng)D1所描述的浮動(dòng)塊110的工作相似的方式來(lái)工作。
浮動(dòng)塊600由具有一浮動(dòng)塊主體602的基片形成，該浮動(dòng)塊主體602包括一面向盤(pán)的表面603。面向盤(pán)的表面603包括一內(nèi)側(cè)邊606和一外側(cè)邊608、一前導(dǎo)邊610和一后隨邊612。面向盤(pán)的表面603還包括設(shè)置在那些邊緣之間的多種結(jié)構(gòu)特征。
浮動(dòng)塊600示例性地以與浮動(dòng)塊200大致相同的方式來(lái)構(gòu)造。例如，浮動(dòng)塊600也相似地包括一內(nèi)側(cè)軌道614、一外側(cè)軌道620、一低于周?chē)鷫毫Φ陌记?42、一凹腔底板644以及一中心墊645，且它們大體構(gòu)造成與參照?qǐng)D2和3所述的相應(yīng)部分相似。浮動(dòng)塊600也包括一與凹腔氣壩230相似的凹腔氣壩630。下文將詳細(xì)描述凹腔氣壩630與凹腔氣壩230之間的差別。
浮動(dòng)塊200包括凹入表面204，而浮動(dòng)塊600包括凹入表面604。但與浮動(dòng)塊200不同，浮動(dòng)塊600僅包括一外側(cè)凹入表面605和一內(nèi)側(cè)凹入表面607。凹入表面605和607位于凹腔氣壩630、軌道624/620以及凹腔642的外側(cè)。凹入表面605和607示例性地構(gòu)造成以與關(guān)于浮動(dòng)塊200的凹入表面204(圖2和3)、尤其是在大工作斜交角下所描述的偏轉(zhuǎn)相似的方式來(lái)偏轉(zhuǎn)污染顆粒。凹入表面204和604都沿著它們相應(yīng)浮動(dòng)塊的內(nèi)側(cè)和外側(cè)邊大體提供了一凹入的槽溝。但凹入表面204與凹入表面604不同，它們還沿著前導(dǎo)邊提供了一槽溝。
根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，凹入表面605和607的深度是深度250(圖4)，凹腔底板644的深度是深度252(圖4)。凹入表面605和607的深度示例性地與凹入表面207的深度(圖4)相似。凹入表面605/607與凹腔底板644之間的深度關(guān)系示例性地與凹入表面207與凹腔底板244之間的深度關(guān)系(圖4)相似。
進(jìn)一步參照?qǐng)D6，浮動(dòng)塊面對(duì)盤(pán)的表面603包括一凹腔氣壩630，該凹腔氣壩630示例性、但不是必須地與軌道614和620鄰接。凹腔氣壩630具有一凹腔氣壩上表面632，該上表面632示例性地、但不是必須地形成一支承表面。凹腔氣壩630還具有一凹腔氣壩前導(dǎo)邊634，該前導(dǎo)邊634大體定位在前導(dǎo)邊610的附近，并與前導(dǎo)邊610對(duì)齊。凹腔氣壩630還包括一傾斜的凹腔氣壩上表面的前導(dǎo)邊658，該前導(dǎo)邊658大體從一凹腔氣壩上表面的中點(diǎn)639向兩凹腔氣壩上表面的側(cè)角點(diǎn)641傾斜。兩側(cè)角點(diǎn)641大體比中點(diǎn)639離開(kāi)前導(dǎo)邊610遠(yuǎn)。如圖所示，凹腔氣壩上表面的中點(diǎn)639定位在大體前導(dǎo)邊610的附近。根據(jù)一個(gè)示例性的實(shí)施例，凹腔氣壩上表面632構(gòu)造成凹腔氣壩上表面的中點(diǎn)639定位成比所圖示的更靠近邊緣606、608、610以及612中的任一個(gè)。類似地，側(cè)點(diǎn)642可以示例性地位于更靠近或者更遠(yuǎn)離前導(dǎo)邊610。
凹腔氣壩630還包括凹腔氣壩前導(dǎo)表面640，該前導(dǎo)面640大體是平直的，且其深度比凹腔氣壩上表面632的深度大或深。根據(jù)另一實(shí)施例，表面640的深度是變化的，與上面參照?qǐng)D2和3所述的表面240的一實(shí)施例類似。如圖所示，在凹腔氣壩前導(dǎo)邊634和前導(dǎo)邊610之間大體不設(shè)置凹入表面604。與凹入表面204(圖2和3)形成對(duì)比的是，凹入表面604僅在內(nèi)側(cè)和外側(cè)的前導(dǎo)角部處占據(jù)小部分的前導(dǎo)邊610。
圖7是根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的浮動(dòng)塊700的平面圖。在圖7中，相似或相同地標(biāo)識(shí)與關(guān)于浮動(dòng)塊200(圖2和3)和/或浮動(dòng)塊600(圖6)所描述的部分相同或大致相似的部分。浮動(dòng)塊700示例性地設(shè)計(jì)成以與參照?qǐng)D1所描述的浮動(dòng)塊110的工作相似的方式來(lái)工作。
浮動(dòng)塊700基本與圖6中所示的浮動(dòng)塊600相似，除了浮動(dòng)塊700包括一傾斜的內(nèi)側(cè)軌道714來(lái)替代傾斜的內(nèi)側(cè)軌道614，以及包括一傾斜的外側(cè)軌道720來(lái)替代傾斜的外側(cè)軌道620。然而，內(nèi)側(cè)軌道614和外側(cè)軌道620的面對(duì)盤(pán)的表面包括支承表面(例如在圖2和3中的軌道支承表面228)和階梯表面(例如在圖2和3中的軌道階梯表面226)，而內(nèi)側(cè)軌道714和外側(cè)軌道720的面對(duì)盤(pán)的表面不包括這樣的表面組合。而是，內(nèi)側(cè)和外側(cè)軌道714和720的面對(duì)盤(pán)的表面大體是連續(xù)的軌道階梯表面726(每一軌道有一單個(gè)的表面)。換言之，軌道714和720大體不包括任何的支承表面。軌道階梯表面726示例性地設(shè)置在與上面參照?qǐng)D2、3及4所述的軌道階梯表面226的深度相似的一單個(gè)的深度處。
根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，內(nèi)側(cè)和外側(cè)軌道714和720的面對(duì)盤(pán)的表面大體是連續(xù)的支承表面(每一軌道有一單個(gè)的表面)。換言之，軌道714和720大體不包括任何階梯表面。軌道表面726示例性地設(shè)置在與上面參照?qǐng)D2、3及4所述的軌道支承表面228的深度相似的一單個(gè)的深度處。
在浮動(dòng)塊700工作的過(guò)程中，軌道714和軌道720用作一漏斗，以將相當(dāng)大量的流體流(例如空氣流)壓擠向中心墊645。相當(dāng)大的正壓力停留在中心墊645的附近。因此，軌道714和720改善了換能器(未示出)的盤(pán)跟隨能力，尤其是在其位于中心墊645附近時(shí)的盤(pán)跟隨能力。在軌道714和720上不設(shè)置支承表面加強(qiáng)了這些效果，這是因?yàn)楦嗟募訅鹤饔帽粚?dǎo)向了與中心墊645相關(guān)的支承表面。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，浮動(dòng)塊700包括設(shè)置在除了軌道之外的位置上的支承表面(未圖示)，以在工作中對(duì)浮動(dòng)塊700進(jìn)行搖擺控制，且不會(huì)明顯地從與中心墊645相關(guān)的支承表面抽吸走壓力。
圖8是根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的浮動(dòng)塊800的平面圖。在圖8中，相似或相同地標(biāo)識(shí)與關(guān)于浮動(dòng)塊200(圖2和3)和/或浮動(dòng)塊600(圖6)所描述的部分相同或大致相似的部分。浮動(dòng)塊800示例性地設(shè)計(jì)成以與參照?qǐng)D1所描述的浮動(dòng)塊110的工作相似的方式來(lái)工作。
浮動(dòng)塊800基本與圖6中所示的浮動(dòng)塊600相似，除了浮動(dòng)塊800包括外槽溝表面860。在前面的實(shí)施例中，低于周?chē)鷫毫Φ陌记?42基本不延伸到浮動(dòng)塊軌道或凹腔氣壩之外。與之形成對(duì)比的是，浮動(dòng)塊800包括基本在一般的凹腔642區(qū)域外面(例如在一凹腔氣壩、內(nèi)側(cè)軌道以及外側(cè)軌道所階段的區(qū)域之外)的外槽溝表面860。外槽溝860大體沿著在凹腔氣壩630和軌道614/620外面的一路徑，并在前導(dǎo)邊610和后隨邊612之間延伸。外槽溝表面860特別是沿著軌道614/620所呈現(xiàn)的一傾斜角。
根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，外槽溝表面860大體是與低于周?chē)鷫毫Φ陌记?42的凹腔底板644共面和連續(xù)的。因此，外槽溝表面860成為凹腔642的、在凹腔氣壩630以及軌道614和620外面并從前導(dǎo)邊610延伸到后隨邊612的一凹腔水平延伸部分。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，外槽溝表面860的深度與凹腔底板644的深度(例如圖4中的深度252)相同。
圖9是根據(jù)本發(fā)明另一示例性實(shí)施例的浮動(dòng)塊900的平面圖。在圖9中，相似或相同地標(biāo)識(shí)與關(guān)于浮動(dòng)塊200(圖2和3)和/或浮動(dòng)塊600(圖6)所描述的部分相同或大致相似的部分。浮動(dòng)塊900示例性地設(shè)計(jì)成以與參照?qǐng)D1所描述的浮動(dòng)塊110的工作相似的方式來(lái)工作。
浮動(dòng)塊900基本與圖6中所示的浮動(dòng)塊600相似，除了浮動(dòng)塊900包括一傾斜的內(nèi)側(cè)軌道914來(lái)替代傾斜的內(nèi)側(cè)軌道614，以及包括一傾斜的外側(cè)軌道920來(lái)替代傾斜的外側(cè)軌道620。如前文所述，軌道614和軌道620(與軌道214和220相似)各包括一軌道凹入階梯表面226和一軌道后隨支承表面228。類似地，軌道914和軌道920也各包括一軌道凹入階梯表面926和一軌道后隨支承表面928。但表面926/928的大體形狀與它們的表面226/228上的相應(yīng)部分很不相同。
應(yīng)予注意，對(duì)本發(fā)明來(lái)說(shuō)任何的傾斜軌道的特定形狀都不是關(guān)鍵性的。根據(jù)一給定浮動(dòng)塊的應(yīng)用場(chǎng)合和/或浮動(dòng)塊環(huán)境，具有不同形狀的各種傾斜軌道可能是人們更希望或者更不希望的。一些形狀可能在偏轉(zhuǎn)污染顆粒方面更為有效，而其它的形狀可能對(duì)在中心墊645上聚集壓力方面更為有效，以及還有一些其它的形狀則可能提供這兩個(gè)可能優(yōu)點(diǎn)的組合。應(yīng)認(rèn)為該具體所述的傾斜軌道的結(jié)構(gòu)和其它傾斜軌道的結(jié)構(gòu)都落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
浮動(dòng)塊900與浮動(dòng)塊600(圖6)之間至少存在另一個(gè)值得一提的區(qū)別。浮動(dòng)塊900包括凹入表面904和一具有一凹腔底板944的低于周?chē)鷫毫Φ陌记?42。這些部分替代了浮動(dòng)塊600的凹入表面604、低于周?chē)鷫毫Φ陌记?42以及凹腔底板644。浮動(dòng)塊900的這些部分的結(jié)構(gòu)與浮動(dòng)塊600的結(jié)構(gòu)之間的主要差別在于，凹腔底板部分944/644與凹入表面904/604之間的相對(duì)深度關(guān)系。
在浮動(dòng)塊600的情況中，低于周?chē)鷫毫Φ陌记?42包括位于比凹入表面604的深度小或淺的一深度處的一凹腔底板644。換言之，凹入表面604沿深度方向從凹腔底板644移置開(kāi)。與之形成對(duì)比的是，在浮動(dòng)塊900的情況中，低于周?chē)鷫毫Φ陌记坏?42的凹腔底板944設(shè)置在大體與凹入表面904相同的深度處。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，凹腔底板944和凹入表面904是共面的，并且大體是鄰接的表面。根據(jù)另一實(shí)施例，凹腔底板944和凹入表面904的深度與參照?qǐng)D4所述的深度250和252之一相似。
圖10是一示意圖1000，繪出了一工作著的浮動(dòng)塊900的示例性質(zhì)量流量線，并示出了傾斜的側(cè)向軌道如何起到一漏斗的作用來(lái)向中心墊245引導(dǎo)相當(dāng)大量的流體流(例如空氣流)。
根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，圖11是從一盤(pán)、例如圖1中的盤(pán)107的表面所見(jiàn)的一浮動(dòng)塊1100的立體圖。為了看到清楚，在圖11中夸大了豎向的尺寸。圖12是從一盤(pán)表面所見(jiàn)的浮動(dòng)塊1100平面圖。浮動(dòng)塊1100示例性地設(shè)計(jì)成以與參照?qǐng)D1所描述的浮動(dòng)塊110的工作相似的方式來(lái)工作。
浮動(dòng)塊1100的結(jié)構(gòu)特征基本與浮動(dòng)塊200的結(jié)構(gòu)特征相同，上文已經(jīng)參照?qǐng)D2-5對(duì)后一浮動(dòng)塊進(jìn)行了徹底的描述。但浮動(dòng)塊1100包括若干浮動(dòng)塊200所不具有的結(jié)構(gòu)特征。例如，浮動(dòng)塊1100具有一內(nèi)側(cè)槽溝壁1102、一內(nèi)側(cè)軌道延伸部分1104、一外側(cè)槽溝壁1106以及一外側(cè)軌道延伸部分1108。
內(nèi)側(cè)軌道壁1102有一表面1110。外側(cè)軌道壁1106有一表面1112。表面1110和1112示例性地是支承表面。但根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，表面1110和1112之一或者兩者是與支承表面平面移置開(kāi)的。內(nèi)側(cè)軌道延伸部分1104有一表面1114。外側(cè)軌道延伸部分1108有一表面1116。表面1114和1116示例性地從支承表面平面移置開(kāi)。但根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，表面1114和1116之一或者兩者都是支承表面。
內(nèi)側(cè)槽溝壁1102與內(nèi)側(cè)槽溝延伸部分1104以及浮動(dòng)塊1110的其它結(jié)構(gòu)特征示例性地合作，以形成一內(nèi)側(cè)槽溝1118。外側(cè)槽溝壁1106與外側(cè)槽溝延伸部分1108以及浮動(dòng)塊1110的其它結(jié)構(gòu)特征示例性地合作，以形成一外側(cè)槽溝1120。槽溝延伸部分1104和1108示例性地是可選擇的部分。可以示例性地與槽溝延伸部分1104和108相關(guān)或完全獨(dú)立地包括槽溝壁1102和1106。
在許多已知的浮動(dòng)塊設(shè)計(jì)的情況中，在盤(pán)驅(qū)動(dòng)器工作的過(guò)程中，污染顆粒能容易地從浮動(dòng)塊的側(cè)面進(jìn)入頭盤(pán)交界面。在浮動(dòng)塊的側(cè)邊緣附近設(shè)置某種支承表面能阻止這樣的后果。不幸的是，制造和加工方面的限制使在靠近浮動(dòng)塊的側(cè)面處設(shè)置主動(dòng)支承表面是不易的。
在浮動(dòng)塊1100的情況中，在盤(pán)驅(qū)動(dòng)器工作的過(guò)程中，槽溝1118和1120有利于產(chǎn)生主動(dòng)地使污染顆粒流向浮動(dòng)塊的后隨邊的一質(zhì)量流量模式，從而阻礙污染顆粒到達(dá)凹腔和中心墊支承表面。因此，槽溝1118和1120降低了浮動(dòng)塊1110對(duì)污染顆粒的敏感度，且尤其是降低了對(duì)從浮動(dòng)塊的側(cè)面接近浮動(dòng)塊的污染顆粒的敏感度。
總而言之，本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例涉及一種盤(pán)頭浮動(dòng)塊(110，200，600，700，800)，它包括一具有一面對(duì)盤(pán)的表面(203，603)的浮動(dòng)塊主體(202，602)，該面對(duì)盤(pán)的表面包括大體設(shè)置在一支承表面平面(229)內(nèi)的一支承表面(228，232，248)。在面對(duì)盤(pán)的表面(203，603)上形成有一傾斜的內(nèi)側(cè)軌道(214，614，714)、一傾斜的外側(cè)軌道(220，620，720)以及一凹腔氣壩(230，630)。至少傾斜的內(nèi)側(cè)軌道(214，614，714)、傾斜的外側(cè)軌道(220，620，720)以及凹腔氣壩(230，630)之一包括形成所述支承表面的至少一部分的一表面部分(228，232)。在傾斜的內(nèi)側(cè)和外側(cè)軌道(214，614，714，220，620，720)之間形成一低于周?chē)鷫毫Φ陌记?242，642)，且該凹腔(242，642)包括從支承表面平面(229)移置開(kāi)的一凹腔底板(244，644)。在面對(duì)盤(pán)的表面(203，603)上形成有至少一個(gè)凹入表面(204，205，207，209，211，604，605，607，609，611)，并且所述凹入表面大體位于傾斜的內(nèi)側(cè)軌道(214，614，714)、傾斜的外側(cè)軌道(220，620，720)以及低于周?chē)鷫毫Φ陌记?242，642)的外面。凹入表面(204，205，207，209，211，604，605，607，609，611)比凹腔底板(244，644)從支承表面平面(229)移置得更遠(yuǎn)。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，凹腔氣壩(230，630)包括一傾斜的前導(dǎo)邊(234，237，634，658)。
另一實(shí)施例涉及一種盤(pán)頭浮動(dòng)塊(110，900)，它包括一具有一面對(duì)盤(pán)的表面(903)的浮動(dòng)塊主體(902)，該面對(duì)盤(pán)的表面包括大體設(shè)置在一支承表面平面(229)內(nèi)的一支承表面(928)。在面對(duì)盤(pán)的表面(903)上形成有一傾斜的內(nèi)側(cè)軌道(914)、一傾斜的外側(cè)軌道(920)以及一凹腔氣壩(630)。至少傾斜的內(nèi)側(cè)軌道(914)、傾斜的外側(cè)軌道(920)以及凹腔氣壩(630)之一包括形成所述支承表面(632，928)的至少一部分的一表面部分(928，632)。在傾斜的內(nèi)側(cè)和外側(cè)軌道(914，920)之間形成一低于周?chē)鷫毫Φ陌记?942)。該低于周?chē)鷫毫Φ陌记?942)包括從支承表面平面(229)移置開(kāi)的一凹腔底板(944)。在面對(duì)盤(pán)的表面(903)上形成有至少一個(gè)凹入表面(904)，并且所述凹入表面大體位于傾斜的內(nèi)側(cè)軌道(914)、傾斜的外側(cè)軌道(920)以及低于周?chē)鷫毫Φ陌记?942)的外面。凹入表面(904)與凹腔底板(944)相比，大致從支承表面平面(229)移置相同的距離。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，凹腔氣壩(630)包括一傾斜的前導(dǎo)邊(934，958)。
本發(fā)明的另一實(shí)施例涉及一種盤(pán)頭浮動(dòng)塊(110，200，600，700及800)，它包括一具有一面對(duì)盤(pán)的表面(203，603)的浮動(dòng)塊主體(202，602)，該面對(duì)盤(pán)的表面包括一內(nèi)側(cè)邊(206，606)、一外側(cè)邊(208，608)、以及大體設(shè)置在一支承表面平面(229)內(nèi)的一支承表面(228，232，248)。在面對(duì)盤(pán)的表面(203，603)上形成有一傾斜的內(nèi)側(cè)軌道(214，614，714)，該內(nèi)側(cè)軌道有一前導(dǎo)端(216)和一后隨端(218)。傾斜的內(nèi)側(cè)軌道(214，614，714)的后隨端(218)設(shè)置成比前導(dǎo)端(216)離開(kāi)浮動(dòng)塊主體(202，602)的內(nèi)側(cè)邊(206，606)遠(yuǎn)。在面對(duì)盤(pán)的表面(203，603)上形成一傾斜的外側(cè)軌道(220，620，720)，且該外側(cè)軌道有一前導(dǎo)端(222)和一后隨端(224)。傾斜的外側(cè)軌道(220，620，720)的后隨端(224)設(shè)置成比前導(dǎo)端(222)離開(kāi)浮動(dòng)塊主體(206，602)的外側(cè)邊(208，608)遠(yuǎn)。在面對(duì)盤(pán)的表面(203，603)上形成有一凹腔氣壩(230，630)，并且該凹腔氣壩有一傾斜的前導(dǎo)邊(234，237，658)和一至少形成支承表面的一部分的表面部分(232)。在面對(duì)盤(pán)的表面(203，603)上、諸傾斜的內(nèi)側(cè)和外側(cè)軌道(214，220，614，620，714，720)之間形成一低于周?chē)鷫毫Φ陌记?242，642)。該低于周?chē)鷫毫Φ陌记?242，642)有一從支承表面平面(229)移置開(kāi)的凹腔底板(244，644)。至少一個(gè)凹入表面(204，205，207，209，211，604，605，607，609，611)比凹腔底板(244，644)從支承表面平面(229)移置得更遠(yuǎn)。該或這些凹入表面(204，205，207，209，211，604，605，607，609，611)形成在面對(duì)盤(pán)的表面(203，603)上，并且大體位于傾斜的內(nèi)側(cè)軌道(214，614，714)、傾斜的外側(cè)軌道(220，620，720)以及低于周?chē)鷫毫Φ陌记?242，642)的外面，其中，所述至少一個(gè)凹入表面(204，205，207，209，211，604，605，607，609，611)包括大體設(shè)置在浮動(dòng)塊主體的內(nèi)側(cè)邊(206，606)與傾斜的內(nèi)側(cè)軌道(214，614，714)之間的一第一凹入表面(207，607)和大體設(shè)置在浮動(dòng)塊主體(202，602)的外側(cè)邊(208，608)與傾斜的外側(cè)軌道(220，620，720)之間的一第二凹入表面(205，605)。
應(yīng)予理解，盡管在前面的描述中已經(jīng)列出了本發(fā)明的各個(gè)實(shí)施例的許多特征和優(yōu)點(diǎn)，以及本發(fā)明各個(gè)實(shí)施例結(jié)構(gòu)和功能上的細(xì)節(jié)，但僅是示例性的，在細(xì)節(jié)方面、尤其是零件的結(jié)構(gòu)和步驟方面可以在本發(fā)明原理的范圍內(nèi)進(jìn)行修改，且本發(fā)明的原理完全是由表述所附權(quán)利要求的術(shù)語(yǔ)的寬泛、一般的含義來(lái)表示的。例如，根據(jù)盤(pán)驅(qū)動(dòng)器系統(tǒng)的特定應(yīng)用場(chǎng)合，可以不超出本發(fā)明的保護(hù)范圍和原理來(lái)改變特定的部分并同時(shí)保留基本相同的功能性。此外，盡管這里所述的較佳實(shí)施例針對(duì)的是具有專用的面對(duì)盤(pán)的表面的結(jié)構(gòu)的一盤(pán)頭浮動(dòng)塊，但那些熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的人們會(huì)同意，本發(fā)明所教授的技術(shù)方案也可以不超出本發(fā)明的保護(hù)范圍和原理而應(yīng)用于其它類似的浮動(dòng)塊，如沒(méi)有凹腔氣壩的正壓力浮動(dòng)塊和具有不同數(shù)量的軌道和不同軌道形狀的浮動(dòng)塊。還有，本發(fā)明可以與任何類型的斜坡裝載-卸載或接觸開(kāi)始-停止的懸架一起使用，如旋轉(zhuǎn)和直線型的懸架，并且換能頭可以是諸如磁、磁阻、光學(xué)或磁光(舉例來(lái)說(shuō))的任何類型。
權(quán)利要求
1.一種盤(pán)頭浮動(dòng)塊，它包括一具有一面對(duì)盤(pán)的表面的浮動(dòng)塊主體，該面對(duì)磁盤(pán)的表面包括大體設(shè)置在一支承表面平面內(nèi)的一支承表面；形成在面對(duì)盤(pán)的表面上的一傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、一傾斜的外側(cè)軌道以及一凹腔氣壩，其中，至少傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、傾斜的外側(cè)軌道以及凹腔氣壩之一包括形成支承表面的至少一部分的一表面部分；形成在面對(duì)盤(pán)的表面上、傾斜的內(nèi)側(cè)和外側(cè)軌道之間的一低于周?chē)鷫毫Φ陌记?，該低于周?chē)鷫毫Φ陌记痪哂袕闹С斜砻嫫矫嬉浦瞄_(kāi)的一凹腔底板；以及比凹腔底板更進(jìn)一步從支承表面平面移置開(kāi)的至少一個(gè)凹入表面，所述至少一個(gè)的凹入表面形成在面對(duì)盤(pán)的表面上并大體位于傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、傾斜的外側(cè)軌道以及低于周?chē)鷫毫Φ陌记坏耐饷妗?br> 2.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，凹腔氣壩包括一傾斜的前導(dǎo)邊。
3.如權(quán)利要求2所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，面對(duì)盤(pán)的表面還包括一前導(dǎo)邊，并且其中，凹腔氣壩的傾斜的前導(dǎo)邊從一中點(diǎn)向兩側(cè)角點(diǎn)傾斜，兩側(cè)角點(diǎn)比中點(diǎn)從面對(duì)盤(pán)的表面的前導(dǎo)邊移置得更遠(yuǎn)。
4.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，面對(duì)盤(pán)的表面還包括一前導(dǎo)邊，并且其中凹腔氣壩包括一凹腔氣壩上表面；一凹腔氣壩前導(dǎo)表面，該凹腔氣壩前導(dǎo)表面從凹腔氣壩上表面移置開(kāi)并從支承表面移置開(kāi)；以及其中，至少凹腔氣壩上表面和凹腔氣壩前導(dǎo)表面之一包括具有一中點(diǎn)和多個(gè)側(cè)角點(diǎn)的一傾斜的前導(dǎo)邊，所述多個(gè)側(cè)角點(diǎn)設(shè)置成比中點(diǎn)離開(kāi)面對(duì)盤(pán)的表面的前導(dǎo)邊遠(yuǎn)。
5.如權(quán)利要求4所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，凹腔氣壩大體定位在面對(duì)盤(pán)的表面的前導(dǎo)邊附近。
6.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，面對(duì)盤(pán)的表面還包括一內(nèi)側(cè)邊和一后隨邊，并且其中，所述至少一個(gè)的凹入表面包括一內(nèi)側(cè)后隨凹入表面，它大體設(shè)置在傾斜的內(nèi)側(cè)軌道和面對(duì)盤(pán)的表面的內(nèi)側(cè)邊之間，并延伸至面對(duì)盤(pán)的表面的后隨邊。
7.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，面對(duì)盤(pán)的表面還包括一外側(cè)邊和一后隨邊，并且其中，所述至少一個(gè)的凹入表面包括一外側(cè)后隨凹入表面，它大體設(shè)置在傾斜的外側(cè)軌道和面對(duì)盤(pán)的表面的外側(cè)邊之間，并延伸至面對(duì)盤(pán)的表面的后隨邊。
8.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，面對(duì)盤(pán)的表面還包括一前導(dǎo)邊，并且其中，所述至少一個(gè)的凹入表面包括至少一個(gè)前導(dǎo)凹入表面，所述前導(dǎo)凹入表面大體設(shè)置在凹腔氣壩和面對(duì)盤(pán)的表面的前導(dǎo)邊之間。
9.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，凹腔氣壩大體定位在面對(duì)盤(pán)的表面的前導(dǎo)邊附近。
10.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，面對(duì)盤(pán)的表面還包括一前導(dǎo)邊、一內(nèi)側(cè)邊、一外側(cè)邊以及一后隨邊，并且其中，所述至少一個(gè)的凹入表面包括一內(nèi)側(cè)后隨凹入表面，它大體設(shè)置在傾斜的內(nèi)側(cè)軌道和面對(duì)盤(pán)的表面的內(nèi)側(cè)邊之間，并延伸至面對(duì)盤(pán)的表面的后隨邊；一外側(cè)后隨凹入表面，它大體設(shè)置在傾斜的外側(cè)軌道和面對(duì)盤(pán)的表面的外側(cè)邊之間，并延伸至面對(duì)盤(pán)的表面的后隨邊；以及至少一個(gè)前導(dǎo)凹入表面，所述前導(dǎo)凹入表面大體設(shè)置在凹腔氣壩和面對(duì)盤(pán)的表面的前導(dǎo)邊之間。
11.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，所述至少一個(gè)的凹入表面大體設(shè)置成離開(kāi)支承表面平面一至少為凹腔底板從支承表面移置開(kāi)的距離的兩倍的距離。
12.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，所述至少一個(gè)的凹入表面大體設(shè)置成離開(kāi)支承表面平面一在大致8至10微米的范圍內(nèi)的距離。
13.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，所述至少一個(gè)的凹入表面大體設(shè)置成離開(kāi)支承表面平面一至少6微米的距離。
14.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，所述凹腔底板大體設(shè)置成離開(kāi)支承表面平面一在大致2至3微米的范圍內(nèi)的距離。
15.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，面對(duì)盤(pán)的表面還包括一外側(cè)邊，其中傾斜的外側(cè)軌道包括一軌道前導(dǎo)端和一軌道后隨端，并且其中，傾斜的外側(cè)軌道構(gòu)造成軌道后隨端設(shè)置得比軌道前導(dǎo)端離開(kāi)面對(duì)盤(pán)的表面的外側(cè)邊遠(yuǎn)。
16.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，面對(duì)盤(pán)的表面還包括一內(nèi)側(cè)邊，其中傾斜的內(nèi)側(cè)軌道包括一軌道前導(dǎo)端和一軌道后隨端，并且其中，傾斜的內(nèi)側(cè)軌道構(gòu)造成軌道后隨端設(shè)置得比軌道前導(dǎo)端離開(kāi)面對(duì)盤(pán)的表面的內(nèi)側(cè)邊遠(yuǎn)。
17.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，還包括至少一個(gè)外槽溝表面，所述槽溝表面與凹腔底板共面并大體設(shè)置在至少傾斜的內(nèi)側(cè)軌道和傾斜的外側(cè)軌道之一的外面和附近。
18.如權(quán)利要求1所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，還包括設(shè)置在低于周?chē)鷫毫Φ陌记坏耐饷娴囊徊蹨媳?，并且所述槽溝壁從傾斜的內(nèi)側(cè)和外側(cè)軌道之一移置開(kāi)，以在槽溝壁與該傾斜的軌道之間形成一槽溝。
19.如權(quán)利要求18所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，槽溝壁包括設(shè)置在支承表面平面內(nèi)的一支承表面。
20.一種盤(pán)頭浮動(dòng)塊，它包括一具有一面對(duì)盤(pán)的表面的浮動(dòng)塊主體，該面對(duì)盤(pán)的表面包括大體設(shè)置在一支承表面平面內(nèi)的一支承表面；形成在面對(duì)盤(pán)的表面上的一傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、一傾斜的外側(cè)軌道以及一凹腔氣壩，其中，至少傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、傾斜的外側(cè)軌道以及凹腔氣壩之一包括形成支承表面的至少一部分的一表面部分；形成面對(duì)盤(pán)的表面上、傾斜的內(nèi)側(cè)和外側(cè)軌道之間的一低于周?chē)鷫毫Φ陌记?，該低于周?chē)鷫毫Φ陌记话◤闹С斜砻嫫矫嬉浦瞄_(kāi)的一凹腔底板；以及形成在面對(duì)盤(pán)的表面上的至少一個(gè)凹入表面，并且所述凹入表面大體位于傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、傾斜的外側(cè)軌道以及低于周?chē)鷫毫Φ陌记坏耐饷妫鲋辽僖粋€(gè)凹入表面與凹腔底板相比，從支承表面平面移置大致相同的距離。
21.如權(quán)利要求20所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，凹腔氣壩包括一傾斜的前導(dǎo)邊。
22.如權(quán)利要求21所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，面對(duì)盤(pán)的表面還包括一前導(dǎo)邊，并且其中，凹腔氣壩的傾斜的前導(dǎo)邊從一中點(diǎn)向兩側(cè)角點(diǎn)傾斜，兩側(cè)角點(diǎn)比中點(diǎn)從面對(duì)盤(pán)的表面的前導(dǎo)邊移置得更遠(yuǎn)。
23.如權(quán)利要求20所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，面對(duì)盤(pán)的表面還包括一前導(dǎo)邊，并且其中凹腔氣壩包括一凹腔氣壩上表面；一凹腔氣壩前導(dǎo)表面，該凹腔氣壩前導(dǎo)表面從凹腔氣壩上表面移置開(kāi)并從支承表面移置開(kāi)；以及其中，至少凹腔氣壩上表面和凹腔氣壩前導(dǎo)表面之一包括具有一中點(diǎn)和多個(gè)側(cè)角點(diǎn)的一傾斜的前導(dǎo)邊，所述多個(gè)側(cè)角點(diǎn)設(shè)置成比中點(diǎn)離開(kāi)面對(duì)盤(pán)的表面的前導(dǎo)邊遠(yuǎn)。
24.如權(quán)利要求23所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，凹腔氣壩大體定位在面對(duì)盤(pán)的表面的前導(dǎo)邊附近。
25.如權(quán)利要求20所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，面對(duì)盤(pán)的表面還包括一內(nèi)側(cè)邊和一后隨邊，并且其中，所述至少一個(gè)的凹入表面包括一內(nèi)側(cè)后隨凹入表面，它大體設(shè)置在傾斜的內(nèi)側(cè)軌道和面對(duì)盤(pán)的表面的內(nèi)側(cè)邊之間，并延伸至面對(duì)盤(pán)的表面的后隨邊。
26.如權(quán)利要求20所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，面對(duì)盤(pán)的表面還包括一外側(cè)邊和一后隨邊，并且其中，所述至少一個(gè)的凹入表面包括一外側(cè)后隨凹入表面，它大體設(shè)置在傾斜的外側(cè)軌道和面對(duì)盤(pán)的表面的外側(cè)邊之間，并延伸至面對(duì)盤(pán)的表面的后隨邊。
27.如權(quán)利要求20所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，所述至少一個(gè)的凹入表面和所述凹腔底板大體設(shè)置成離開(kāi)支承表面平面一在大致8至10微米的范圍內(nèi)的距離。
28.如權(quán)利要求20所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，所述至少一個(gè)的凹入表面和所述凹腔底板大體設(shè)置成離開(kāi)支承表面平面一至少6微米的距離。
29.如權(quán)利要求20所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，所述至少一個(gè)的凹入表面和所述凹腔底板大體設(shè)置成離開(kāi)支承表面平面一在大致2至3微米的范圍內(nèi)的距離。
30.如權(quán)利要求20所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，面對(duì)盤(pán)的表面還包括一外側(cè)邊，其中傾斜的外側(cè)軌道包括一軌道前導(dǎo)端和一軌道后隨端，并且其中，傾斜的外側(cè)軌道構(gòu)造成軌道后隨端設(shè)置得比前導(dǎo)端離開(kāi)面對(duì)盤(pán)的表面的外側(cè)邊遠(yuǎn)。
31.如權(quán)利要求20所述的盤(pán)頭浮動(dòng)塊，其特征在于，面對(duì)盤(pán)的表面還包括一內(nèi)側(cè)邊，其中傾斜的內(nèi)側(cè)軌道包括一軌道前導(dǎo)端和一軌道后隨端，并且其中，傾斜的內(nèi)側(cè)軌道構(gòu)造成軌道后隨端設(shè)置得比前導(dǎo)端離開(kāi)面對(duì)盤(pán)的表面的內(nèi)側(cè)邊遠(yuǎn)。
32.一種盤(pán)頭浮動(dòng)塊，它包括一具有一面對(duì)盤(pán)的表面的浮動(dòng)塊主體，該面對(duì)盤(pán)的表面包括一內(nèi)側(cè)邊、一外側(cè)邊以及大體設(shè)置在一支承表面平面內(nèi)的一支承表面；形成在面對(duì)盤(pán)的表面上的一傾斜的內(nèi)側(cè)軌道，該內(nèi)側(cè)軌道有一前導(dǎo)端和一后隨端，傾斜的內(nèi)側(cè)軌道的后隨端設(shè)置成比前導(dǎo)端離開(kāi)浮動(dòng)塊主體的內(nèi)側(cè)邊遠(yuǎn)；形成在面對(duì)盤(pán)的表面上的一傾斜的外側(cè)軌道，該外側(cè)軌道有一前導(dǎo)端和一后隨端，外側(cè)軌道的后隨端設(shè)置成比前導(dǎo)端離開(kāi)浮動(dòng)塊主體的外側(cè)邊遠(yuǎn)；形成在面對(duì)盤(pán)的表面上的一凹腔氣壩，并且該凹腔氣壩有一傾斜的前導(dǎo)邊和一至少形成支承表面的一部分的表面部分；形成在面對(duì)盤(pán)的表面上、兩傾斜的內(nèi)側(cè)和外側(cè)軌道之間形成一低于周?chē)鷫毫Φ陌记唬渲?，該低于周?chē)鷫毫Φ陌记挥幸粡闹С斜砻嫫矫嬉浦瞄_(kāi)的凹腔底板；以及至少一個(gè)凹入表面，所述凹入表面比凹腔底板從支承表面平面移置得更遠(yuǎn)，且所述至少一個(gè)凹入表面形成在面對(duì)盤(pán)的表面上，并且大體位于傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、傾斜的外側(cè)軌道以及低于周?chē)鷫毫Φ陌记坏耐饷?，其中，所述至少一個(gè)凹入表面包括大體設(shè)置在浮動(dòng)塊主體的內(nèi)側(cè)邊與傾斜的內(nèi)側(cè)軌道之間的一第一凹入表面和大體設(shè)置在浮動(dòng)塊主體的外側(cè)邊與傾斜的外側(cè)軌道之間的一第二凹入表面。
全文摘要
提供一種盤(pán)頭浮動(dòng)塊，它包括一具有一面對(duì)盤(pán)的表面的浮動(dòng)塊主體，該主體包括一支承面，該支承表面大體設(shè)置在一支承表面平面(229)內(nèi)。在面對(duì)盤(pán)的表面上形成有一傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、一傾斜的外側(cè)軌道以及一凹腔氣壩(223)。至少傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、傾斜的外側(cè)軌道以及凹腔氣壩之一包括形成支承表面的至少一部分的一表面部分。在傾斜的內(nèi)側(cè)和外側(cè)軌道之間形成有一低于周?chē)鷫毫Φ陌记?，該低于周?chē)鷫毫Φ陌记痪哂袕闹С斜砻嫫矫嬉浦瞄_(kāi)的一凹腔底板(244)。至少一個(gè)凹入表面形成在面對(duì)盤(pán)的表面上并且大體位于傾斜的內(nèi)側(cè)軌道、傾斜的外側(cè)軌道以及低于周?chē)鷫毫Φ陌记?242)的外面。凹入表面(204)比凹腔底板從支承表面平面移置得更遠(yuǎn)。
文檔編號(hào)G11B5/60GK1705981SQ02810027
公開(kāi)日2005年12月7日 申請(qǐng)日期2002年4月1日 優(yōu)先權(quán)日2001年8月22日
發(fā)明者R·M·拉奧 申請(qǐng)人:西加特技術(shù)有限責(zé)任公司