專利名稱：全息光學元件和采用該元件的光學拾取裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學拾取裝置，并且更具體地說，涉及一種用在光學拾取裝置中的全息光學元件，可以在不同格式的光盤上記錄和再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
現(xiàn)有技術(shù)說明近年來，隨著光盤變?yōu)楦呙芏群透呷萘康墓獗P，光學拾取裝置的結(jié)構(gòu)在提高物鏡的數(shù)值孔徑以及降低激光束的波長等方面有很大進展，以便降低用于記錄和再現(xiàn)它的光束尺寸。
但是同時，由于光盤傾斜造成信號惡化的特性反比于激光波長，所以光盤傾斜的傾斜容限隨著密度的提高而急劇降低。相應(yīng)地，為了補償傾斜容限，隨著光盤記錄密度的提高，可以通過降低盤片厚度來補償其光盤傾斜特性。例如，對于具有650MB容量的CD光盤，激光波長為780nm，并且物鏡的數(shù)值孔徑為0.45。另一方面，對于具有4.7GB容量的DVD光盤，激光波長為560nm且數(shù)值孔徑為0.6。CD光盤的厚度為1.2mm而DVD光盤的厚度為0.6mm。另外，在新近研制的HD光盤的情況下，已有具體提出波長為405nm且數(shù)值孔徑為0.85。在此情況下，光盤厚度將為薄得多的0.1mm，從而可以確保光盤的傾斜容限。
由于光盤厚度根據(jù)光盤的類型而不同，所以如果采用僅適用一種特定類型光盤的光學拾取裝置來記錄和再現(xiàn)其他類型的光盤，則由于光盤的厚度差別會大量產(chǎn)生球差，從而會發(fā)生光學質(zhì)量的降低。因而難以正常地記錄和再現(xiàn)信號。為此原因，已有提出數(shù)種方法可以在盤片厚度不同的多種光盤之間確保兼容性。
例如，

圖1中畫出了在再現(xiàn)0.6mm厚度DVD光盤時采用為0.1mm厚度光盤(HD光盤)設(shè)計的物鏡的光學拾取裝置產(chǎn)生的象差形狀。象差值轉(zhuǎn)換成均方根值為大約0.507λ，但是在Marechal標準中非常短，因而整個光學系統(tǒng)的象差應(yīng)當?shù)陀?.07λ。相應(yīng)地，為了補償此相位，有人提出應(yīng)當制作一種在650nm波長光束入射其中時具有與象差相反的相位值的元件。
在這些方法中，有數(shù)種方法提出采用全息光學元件(HOE)，它是一種利用光線的衍射效應(yīng)來調(diào)整相位的光學元件。圖2表示采用光學拾取裝置將光束聚集在HD光盤和DVD光盤上的情況，該光學拾取裝置中采用了為較高密度光盤設(shè)計的全息光學元件和物鏡。
如圖2所示，通過采用全息光學元件21控制用于DVD的光束的光路和用于HD的光束的光路，使光束通過物鏡22聚焦在HD光盤23上和DVD光盤24上。這里，物鏡22為適用于HD而設(shè)計的透鏡。另外，全息光學元件21設(shè)置在物鏡22之前，通過采用405nm波長光束的零級光線使光束特性保持不變，而對于650nm波長的光束，通過采用一級光線可以補償其球差。
圖3表示用于DVD的一級光線和用于HD的零級光線隨全息光學裝置的深度而變化的衍射效率。參照圖3，405nm波長的零級光線的衍射效率越大，650nm波長的一級光線的效率就越低。據(jù)此，如果將405nm波長的零級光線的效率設(shè)計得較大，則會降低650nm波長的一級光線的效率。
另外，還提出有另一種對于兩種光盤都采用一級光線的方法。在此情況下，物鏡不應(yīng)設(shè)計為僅用于HD的透鏡，而應(yīng)設(shè)計為適用于全部兩種光盤所用源光線的特性。圖4表示在此例中用于DVD的一級光線和用于HD的一級光線隨全息光學元件的深度而變化的衍射效率。
如圖4所示，由于表示隨全息光學元件深度變化的最大效率點是不同的，所以顯然難以對兩種光盤都實現(xiàn)最大效率。另外，存在如下缺點，即如果取適當?shù)闹虚g值，則由于隨深度變化的較大衍射效率會使波動較為嚴重。
換句話說，當采用零級和一級光線時，如果全息光學裝置設(shè)計成對一級光線具有較大的效率，則零級光線的效率會顯著降低；而如果全息光學裝置設(shè)計成對零級光線具有較大的效率，則一級光線的效率會顯著降低，因而只能取適當?shù)闹虚g值。
另外，因為在采用一級光線用于兩種光盤的情況下其兩種光線的波長不同，所以不可能將兩種波長同時都設(shè)計成達到最大效率。因此，在此情況下，將全息光學裝置設(shè)計成具有適當?shù)闹虚g值，在此方面的設(shè)計是相同的。
相應(yīng)地，在一般非偏振全息光學裝置的情況下，難于對兩種波長都達到衍射效率的最大值，因而存在產(chǎn)生一定程度光學損耗的局限性。
本發(fā)明的其它特點和優(yōu)點將在下面的說明書中給出，并且從說明書中會部分清楚，或者可以從本發(fā)明的實施中理解。通過說明書及其權(quán)利要求書以及附圖中具體給出的結(jié)構(gòu)，可以實現(xiàn)并達到本發(fā)明的目的和其它優(yōu)點。
為實現(xiàn)上述目的，提供了一種采用全息光學元件的光學拾取裝置，包括一個全息光學元件，由雙折射介質(zhì)和各向同性介質(zhì)組合構(gòu)成，用于根據(jù)入射光束的偏振方向和波長調(diào)整透射光束的光路；和一個物鏡，用于將來自全息光學元件的光束會聚至適于各光束波長的光盤上。
構(gòu)成全息光學元件的雙折射介質(zhì)和各向同性介質(zhì)沿入射光束的傳播方向順序設(shè)置。
雙折射介質(zhì)在垂直于光束傳播方向的平面內(nèi)具有同心圓的形狀，在其徑向形成鋸齒狀，所述雙折射介質(zhì)的鋸齒狀平面通過緊密粘合至所述各向同性介質(zhì)而形成交界層。
雙折射介質(zhì)隨著高度對應(yīng)于階梯形狀的變化而形成一個鋸齒狀的斜面。
如果用于高密度光盤的光束和用于低密度光盤的光束入射在全息光學元件上，則選擇雙折射介質(zhì)使得各向同性介質(zhì)上用于高密度光盤的反射率(n1_高)與雙折射介質(zhì)上用于低密度光盤的非常光的反射率(ne_高)可以相同。
如果各向同性介質(zhì)上用于高密度光盤的光束的反射率(n1_高)與雙折射介質(zhì)上用于低密度光盤的非常光反射率(ne_高)選擇為相同，則入射在高密度光盤上光束的偏振方向與非常光的相同。
如果用于高密度光盤的光束和用于低密度光盤的光束入射在全息光學元件上，則選擇雙折射介質(zhì)使得各向同性介質(zhì)上用于高密度光盤的反射率(n1_高)與雙折射介質(zhì)上用于低密度光盤的尋常光的反射率(ne_高)可以相同。
如果各向同性介質(zhì)上用于高密度光盤的反射率(n1_高)與雙折射介質(zhì)上用于低密度光盤的尋常光反射率(ne_高)選擇為相同，則入射在高密度光盤上光束的偏振方向與尋常光的相同。
如果各向同性介質(zhì)上用于高密度光盤的反射率(n1_高)與雙折射介質(zhì)上用于低密度光盤的尋常光反射率(ne_高)選擇為相同，則入射在低密度光盤上光束的偏振方向與用于高密度光盤的光束的偏振方向以及光束傳播方向相垂直。
為實現(xiàn)上述目的，提供了一種全息光學元件，由雙折射介質(zhì)和各向同性介質(zhì)組合構(gòu)成，用于根據(jù)入射光束的波長和偏振方向選擇透射光束的傳播方向。
所述雙折射介質(zhì)和各向同性介質(zhì)沿光束的傳播方向順序設(shè)置。
雙折射介質(zhì)在垂直于光束傳播方向的平面內(nèi)沿徑向形成為鋸齒狀，雙折射介質(zhì)的所述平面通過緊密粘合至所述各向同性介質(zhì)而形成交界層。
雙折射介質(zhì)隨著高度對應(yīng)于階梯形狀的變化而形成一個鋸齒狀的斜面。
根據(jù)本發(fā)明，其優(yōu)點在于，通過使用一種其中采用雙折射介質(zhì)的全息光學元件，可以補償不同種類光盤的球差并且以光束的最大效率來記錄和再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
應(yīng)當理解，前述一般描述和下面的詳細描述只是例示性和解釋性的，意在提供對所要求保護的發(fā)明的進一步解釋。
附圖的詳細說明本發(fā)明的上述目的、特色和優(yōu)點從下面結(jié)合附圖給出的詳細說明中將更加清楚。附圖中圖1表示在使用其中采用適用于高密度光盤而設(shè)計的物鏡的光學拾取裝置來再現(xiàn)DVD的情況下的OPD曲線的例子；圖2表示使用其中采用適用于較高密度光盤而設(shè)計的物鏡和全息光學元件的光學拾取裝置將光束會聚至HD光盤和DVD光盤的情況；圖3表示使用其中采用相關(guān)全息光學元件的光學拾取裝置時，用于HD的零級光線和用于DVD的一級光線隨全息光學元件的深度而變化的衍射效率。
圖4表示當使用其中采用相關(guān)全息光學元件的光學拾取裝置時，用于HD的一級光線和用于DVD的一級光線隨全息光學元件的深度而變化的衍射效率。
圖5表示光束通過雙折射介質(zhì)的傳播方向；圖6表示根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的全息光學元件中入射面形狀的透視圖；圖7表示沿圖6中線B-B的剖視圖的一個例子；圖8表示沿圖6中線B-B的剖視圖的一個不同例子；以及圖9表示在使用根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的全息光學元件的光學拾取裝置中，根據(jù)入射至全息光學元件中光束的偏振方向和波長所透射光束。
在本發(fā)明中，由光盤厚度差導致的球差通過構(gòu)造一種其中采用雙折射介質(zhì)的偏振全息光學元件而加以補償。圖5表示雙折射介質(zhì)的偏振光束透射特性。具體地說，圖5表示在光束偏振入射至普通雙折射介質(zhì)時光束的傳播方向。
如果偏振光束入射至雙折射介質(zhì)，則光束的傳播方向?qū)⒏鶕?jù)入射光束的偏振方向而變化。也就是說，沿雙折射介質(zhì)x軸方向偏振的光束路徑在通過雙折射介質(zhì)時不發(fā)生改變，這稱作尋常光。然而，沿雙折射介質(zhì)y軸方向偏振的光束的路徑在通過雙折射介質(zhì)時或多或少地發(fā)生改變，這稱作非常光。
圖6至圖8表示根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的采用雙折射介質(zhì)的全息光學元件。圖6為根據(jù)本發(fā)明的全息光學元件中入射面形狀的透視圖。另外，圖7和圖8表示沿圖6中線B-B的剖視圖的例子。
如圖6和圖7中所示，構(gòu)成全息光學元件的雙折射介質(zhì)73在光束傳播方向的垂直平面內(nèi)形成同心圓，而在其徑向形成類似鋸齒的形狀。具有鋸齒狀的雙折射介質(zhì)73的平面通過粘合至各向同性介質(zhì)72而形成交界層。這里，標號71表示玻璃，其中形成有雙折射介質(zhì)73和各向同性介質(zhì)72。
參照圖8，構(gòu)成全息光學元件的雙折射介質(zhì)83具有一個鋸齒狀的斜面。優(yōu)選地，該斜面具有高度變化的階梯狀結(jié)構(gòu)。另外，具有鋸齒狀的雙折射介質(zhì)83的平面通過粘合至各向同性介質(zhì)82而形成交界層。標號81表示玻璃，其中形成有雙折射介質(zhì)83和各向同性介質(zhì)82。
下面參照圖7至圖9說明根據(jù)本發(fā)明的使用全息光學裝置的對多種光盤兼容的光學拾取裝置。圖9表示在使用根據(jù)本發(fā)明的全息光學元件的光學拾取裝置中，根據(jù)入射至全息光學元件中光束的偏振方向和波長所透射光束。
在說明對多種光盤的兼容性時，以用于HD的光束(波長405nm)和用于DVD的光束(波長650nm)作為用于高密度光盤的光束和用于低密度光盤的光束入射為例加以說明。
參照圖7，各向同性介質(zhì)72是一種對波長405nm具有折射率n1_405并且對波長650nm具有折射率n1_650的材料。另外，雙折射介質(zhì)73對波長405nm根據(jù)入射光束的偏振方向具有折射率no_405和ne_405，并且對波長650nm根據(jù)入射光束的偏振方向具有折射率no_650和ne_650。此處no表示尋常光的折射率，ne表示非常光的折射率。根據(jù)一個優(yōu)選實施例，非常光相對于尋常光為偏振光，優(yōu)選偏振90度。
例如，根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，通過選擇各向同性介質(zhì)72和雙折射介質(zhì)73制成全息光學元件，使得n1_405優(yōu)選等于ne_405。如果入射的405nm光束的偏振方向與非常光的偏振方向相同，則波長405nm的光束不受任何影響地透射，因為其折射率在各向同性介質(zhì)72和雙折射介質(zhì)73中是相同的。
當波長650nm的光束入射時，如果光束入射時被偏振至與波長405nm的光束的偏振方向相垂直的方向(尋常光偏振方向)，則各向同性介質(zhì)72中折射率為n1_650，而雙折射介質(zhì)73中折射率為no_650。相應(yīng)地，對于波長650nm的光束，在各向同性介質(zhì)72和雙折射介質(zhì)73中可以發(fā)現(xiàn)不同的折射率，從而由于發(fā)生衍射使得球差可以通過斜面上的全息光學元件的形狀加以補償。
參照圖9，在波長405nm的光束的情況下，全息光學元件中入射波前和透射波前以相同的方式傳播。然而在波長650nm的光束的情況下，全息光學元件中的入射波前是直線，而全息光學元件中的透射波前是曲線。此效應(yīng)是由于在全息光學元件中雙折射介質(zhì)與各向同性介質(zhì)的交界層發(fā)生衍射而引起的。相應(yīng)地，球差得到了適當?shù)难a償。
如果適當調(diào)整全息光學元件形狀的深度，可以使波長650nm光束的衍射效率達到最大。另外，由于波長405nm的光束沒有空間相位變化，所以其效率是最大化的。根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例，可以解決用于高密度光盤的光束和用于低密度光盤的光束輻照強度損耗的問題。
在另一例中，被偏振至與波長405nm的光束具有相同偏振方向(非常光偏振方向)的波長650nm的光束入射在全息光學元件上，如圖9所示。然后，在各向同性介質(zhì)72中折射率變?yōu)閚1_650，而在雙折射介質(zhì)73中，折射率變?yōu)閚e_650。因此，對于波長650nm的光束，發(fā)現(xiàn)在各向同性介質(zhì)72和雙折射介質(zhì)73中其折射率不同，從而由于發(fā)生衍射使得球差可以通過斜面上的全息光學元件的形狀加以補償。
根據(jù)本發(fā)明的一個替代實施例，通過選擇各向同性介質(zhì)72和雙折射介質(zhì)73制成全息光學元件，使得n1_405等于no_405。如果入射在全息光學元件上的波長405nm光束的偏振方向與尋常光的偏振方向相同，則波長405nm的光束不受任何影響地透射，因為其折射率在各向同性介質(zhì)72和雙折射介質(zhì)73中是相同的。
當波長650nm的光束入射在該全息光學元件上時，如果該光束被偏振至與波長405nm光束的偏振方向相垂直的方向(非常光偏振方向)，則各向同性介質(zhì)72中折射率為n1_650，而雙折射介質(zhì)73中折射率為ne_650。相應(yīng)地，對于波長650nm的光束，各向同性介質(zhì)72和雙折射介質(zhì)73中可發(fā)現(xiàn)其折射率不同，從而由于發(fā)生衍射使得球差可以通過斜面上的全息光學元件的形狀加以補償。
根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例，如果適當調(diào)整全息光學元件形狀的深度，可以使波長650nm光束的衍射效率達到最大。另外，由于波長405nm的光束沒有影響，所以其效率是最大化的。相應(yīng)地，可以解決用于高密度光盤的光束和用于低密度光盤的光束輻照強度損耗的問題。
在另一例中，被偏振至與波長405nm的光束具有相同偏振方向(尋常光偏振方向)的波長650nm的光束入射在全息光學元件上，如圖9所示。然后，在各向同性介質(zhì)72中折射率變?yōu)閚1_650，而在雙折射介質(zhì)73中，折射率變?yōu)閚o_650。因此，對于波長650nm的光束，發(fā)現(xiàn)在各向同性介質(zhì)72和雙折射介質(zhì)73中其折射率不同，從而由于發(fā)生衍射使得球差可以通過斜面上的全息光學元件的形狀加以補償。
根據(jù)本發(fā)明，可以簡單地通過采用發(fā)射預(yù)偏振光束的激光二極管，來選擇用于高密度光盤的光束和用于低密度光盤的光束的偏振方向?？紤]其發(fā)射光束的偏振方向來設(shè)置激光二極管。其結(jié)果是，可以通過采用λ/2濾波片將偏振方向加以旋轉(zhuǎn)或者簡單地將激光二極管加以旋轉(zhuǎn)，來選擇性地調(diào)整光束的偏振方向。
另外，僅僅考慮適用于高密度光盤的光學系統(tǒng)的最佳設(shè)計，可以十分容易地設(shè)計物鏡。換句話說，將物鏡設(shè)計成適用于高密度光盤的光學系統(tǒng)。另外，至于低密度光盤光學系統(tǒng)的問題，可以通過全息光學元件補償其球差，從而易于構(gòu)造光學系統(tǒng)。
如上所述，根據(jù)全息光學元件和使用該全息光學元件的光學拾取裝置，其優(yōu)點在于，通過使用其中采用雙折射介質(zhì)的全息光學元件，可以補償多種光盤的球差，并且可以以最高光束效率來記錄和再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
雖然本發(fā)明是結(jié)合其特定的優(yōu)選實施例加以表示和說明的，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當理解，在不偏離由所附權(quán)利要求限定的精神和范圍的情況下，可以對其中作出多種形式和細節(jié)的改變。
權(quán)利要求
1.一種光學拾取裝置，其特征在于，它包括光源，用于發(fā)射光束；全息光學元件，具有雙折射介質(zhì)和各向同性介質(zhì)，用于根據(jù)入射光束的偏振方向和波長調(diào)整該光束的光路；和物鏡，用于根據(jù)光束的波長將來自全息光學元件的光束會聚至光盤上。
2.如權(quán)利要求1所述的光學拾取裝置，其特征在于，所述雙折射介質(zhì)在光束傳播方向的垂直平面內(nèi)具有同心圓的形狀，且在徑向形成鋸齒形狀，并且所述雙折射介質(zhì)的鋸齒狀平面與所述各向同性介質(zhì)形成交界層。
3.如權(quán)利要求2所述的光學拾取裝置，其特征在于，所述雙折射介質(zhì)和各向同性介質(zhì)沿光束的傳播方向順序設(shè)置。
4.如權(quán)利要求3所述的光學拾取裝置，其特征在于，所述雙折射介質(zhì)在光束傳播方向的垂直平面內(nèi)具有同心圓的形狀，且在徑向形成鋸齒形狀，并且所述雙折射介質(zhì)的鋸齒狀平面與所述各向同性介質(zhì)形成交界層。
5.如權(quán)利要求4所述的光學拾取裝置，其特征在于，所述鋸齒狀的雙折射介質(zhì)含有階梯表面。
6.如權(quán)利要求1所述的光學拾取裝置，其特征在于，如果用于高密度光盤的光束入射在全息光學元件上，則選擇所述雙折射介質(zhì)使得各向同性介質(zhì)的反射率(n1_高)與雙折射介質(zhì)的非常光反射率(ne_高)相同。
7.如權(quán)利要求6所述的光學拾取裝置，其特征在于，如果所述各向同性介質(zhì)對于用于高密度光盤的光束的折射率(n1_高)與所述雙折射介質(zhì)的非常光折射率(ne_高)選擇為相同，則入射在高密度光盤上光束的偏振方向與非常光的偏振方向相同。
8.如權(quán)利要求6所述的光學拾取裝置，其特征在于，如果所述雙折射介質(zhì)選擇為使得各向同性介質(zhì)對于用于高密度光盤光束的折射率(n1_高)與雙折射介質(zhì)對于用于高密度光盤光束的非常光折射率(ne_高)相同，則根據(jù)雙折射介質(zhì)的深度調(diào)整用于低密度光盤的光束的衍射效率。
9.如權(quán)利要求1所述的光學拾取裝置，其特征在于，如果用于高密度光盤的光束入射在全息光學元件上，則選擇所述雙折射介質(zhì)，使得各向同性介質(zhì)的反射率(n1_高)與雙折射介質(zhì)的尋常光反射率(ne_高)相同。
10.如權(quán)利要求9所述的光學拾取裝置，其特征在于，如果所述各向同性介質(zhì)對于用于高密度光盤的光束的折射率(n1_高)與所述雙折射介質(zhì)的非常光折射率(ne_高)選擇為相同，則入射在高密度光盤上光束的偏振方向與尋常光的偏振方向相同。
11.如權(quán)利要求10所述的光學拾取裝置，其特征在于，如果所述雙折射介質(zhì)選擇為使得各向同性介質(zhì)對于用于高密度光盤光束的折射率(n1_高)與雙折射介質(zhì)對于用于高密度光盤光束的非常光折射率(ne_高)相同，則根據(jù)雙折射介質(zhì)的深度調(diào)整用于低密度光盤的光束的衍射效率。
12.一種光學拾取裝置，其特征在于，它包括光源，用于發(fā)射具有第一既定波長的第一光束；全息光學元件，具有雙折射介質(zhì)和各向同性介質(zhì)，用于根據(jù)偏振方向和波長調(diào)整第一光束的光路，其中所述各向同性介質(zhì)具有至少第一和第二各向同性折射率，并且所述雙折射介質(zhì)根據(jù)第一光束的波長具有第一和第二尋常光折射率以及第一和第二非常光折射率；和物鏡，用于根據(jù)第一光束的波長將來自所述全息光學元件的第一光束聚焦至光盤上。
13.如權(quán)利要求12所述的光學拾取裝置，其特征在于，所述第一各向同性折射率與所述第一非常光折射率基本相同。
14.如權(quán)利要求12所述的光學拾取裝置，其特征在于，所述第一各向同性折射率與所述第一尋常光折射率基本相同。
15.如權(quán)利要求12所述的光學拾取裝置，其特征在于，所述第二各向同性折射率不同于所述第二非常光折射率。
16.如權(quán)利要求12所述的光學拾取裝置，其特征在于，所述第二各向同性折射率不同于所述第二尋常光折射率。
17.如權(quán)利要求12所述的光學拾取裝置，其特征在于，所述雙折射介質(zhì)具有同心圓的形狀，同心圓具有大致鋸齒形的截面形狀，該同心圓形狀位于一個大致垂直于光束傳播方向的平面內(nèi)，并且所述雙折射介質(zhì)與所述各向同性介質(zhì)緊密鄰接。
18.一種用于光學拾取裝置中的全息光學元件，其中的光學拾取裝置具有一個光源，用于發(fā)射具有第一既定波長的第一光束；和一個物鏡，用于根據(jù)第一光束的波長將來自所述全息光學元件的第一光束聚焦至光盤上，其特征在于，該全息光學元件包括雙折射介質(zhì)和各向同性介質(zhì)，用于根據(jù)偏振方向和波長調(diào)整第一光束的光路，其中所述各向同性介質(zhì)具有至少第一和第二各向同性折射率，并且所述雙折射介質(zhì)根據(jù)第一光束的波長具有第一和第二尋常光折射率以及第一和第二非常光折射率。
19.如權(quán)利要求18所述的光學拾取裝置，其特征在于，所述第一各向同性折射率與所述第一非常光折射率基本相同。
20.如權(quán)利要求18所述的光學拾取裝置，其特征在于，所述第一各向同性折射率與所述第一尋常光折射率基本相同。
21.如權(quán)利要求18所述的光學拾取裝置，其特征在于，所述第二各向同性折射率不同于所述第二非常光折射率。
22.如權(quán)利要求18所述的光學拾取裝置，其特征在于，所述第二各向同性折射率不同于所述第二尋常光折射率。
全文摘要
一種采用全息光學元件的光學拾取裝置，包括一個通過結(jié)合雙折射介質(zhì)和各向同性介質(zhì)而成的全息光學元件，用于根據(jù)入射光束的偏振方向和波長調(diào)整透射光束的光路。該光學拾取裝置具有物鏡，用于將通過全息光學元件的光束根據(jù)該光束的波長聚焦至光盤上。
文檔編號G11B7/135GK1405762SQ01140009
公開日2003年3月26日 申請日期2001年11月19日 優(yōu)先權(quán)日2001年9月20日
發(fā)明者鄭盛允 申請人:Lg電子株式會社