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一種電容光學(xué)指紋采集儀的制作方法

文檔序號:9547545閱讀:309來源:國知局
一種電容光學(xué)指紋采集儀的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種采集儀,尤其涉及一種電容光學(xué)指紋采集儀。
【背景技術(shù)】
[0002]目前,光學(xué)指紋采集儀耐磨度好,壽命長,但不能有效識別活體指紋;電容式指紋采集儀,但耐磨度差,而且使用壽命短;采用了單點或多點電容檢測的光學(xué)活體指紋儀,無法完全杜絕偽指紋的檢查,很容易繞開檢查。雖然現(xiàn)有的一些技術(shù)也融合了一些電容的檢測裝置,但都是以點,或多個點的方式進行檢查,這些方式可以簡單防止偽指紋的檢查,找到這些點,很容易繞開檢查,順序采集。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,提供一種電容光學(xué)指紋采集儀,實現(xiàn)了具有光學(xué)指紋采集器的耐磨性好壽命長,同時具有電容采集器的活體指紋的檢測功能,有效防止假指紋,真正做到確保真實的活體指紋。
[0004]實現(xiàn)上述目的的技術(shù)方案是:
[0005]本發(fā)明一種電容光學(xué)指紋采集儀,由外到內(nèi)依層包括電容保護層、電容分布層、棱鏡、LED燈、非球面鏡面反光罩、光闌、非球面成像透鏡和成像器件。
[0006]上述的電容光學(xué)指紋采集儀,其中,所述的LED燈為紅色650nm LED燈。
[0007]上述的電容光學(xué)指紋采集儀,其中,所述的成像器件為CMOS或(XD成像器件。
[0008]上述的電容光學(xué)指紋采集儀,其中,所述的電容分布層為矩陣的菱形電容分布層。
[0009]上述的電容光學(xué)指紋采集儀,其中,所述電容保護層和電容分布層之間設(shè)置涂抹有UV光膠。
[0010]上述的電容光學(xué)指紋采集儀,其中,所述電容分布層和棱鏡之間設(shè)置涂抹有UV光膠。
[0011]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明提供一種電容光學(xué)指紋采集儀,實現(xiàn)了電容式指紋和光學(xué)指紋的采集融合驗證檢查,不僅具有光學(xué)指紋采集器的耐磨性好壽命長,同時具有電容采集器的活體指紋的檢測功能,采用矩陣的菱形電容式排列,以面狀的形式采集,根據(jù)手指接觸電容保護層后,電容分布層的電容強弱變化,通過進行行列掃描,得到一幅電容指紋圖像,電容的分布無法被偽指紋繞開,實現(xiàn)雙掃描,迭加認證,徹底標準偽指紋,有效防止假指紋,真正做到確保真實的活體指紋。。
【附圖說明】
[0012]圖1是本發(fā)明的一種電容光學(xué)指紋采集儀的成像原理示意圖。
[0013]圖2是本發(fā)明的。
[0014]圖3是本發(fā)明的。
【具體實施方式】
[0015]下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步說明。
[0016]請參閱圖1、圖2和圖3,本發(fā)明電容光學(xué)指紋采集儀,由外到內(nèi)依層包括電容保護層1、電容分布層2、棱鏡3、LED燈4、非球面鏡面反光罩5、光闌6、非球面成像透鏡7和成像器件8。
[0017]LED燈4為可為紅色650nm LED燈。
[0018]成像器件8為CMOS或(XD成像器件。
[0019]電容分布層2為矩陣的菱形電容分布層。
[0020]電電容保護層1和電容分布層2設(shè)置涂抹有UV光膠,并用紫外燈進行固化。
[0021]電容分布層2和棱鏡3之間設(shè)置涂抹有UV光膠,并用紫外燈進行固化。
[0022]本發(fā)明的工作原理描述如下:將手指放在從電容光學(xué)指紋采集儀的電容保護層1上,電容分布層2獲取分布式電容值,根據(jù)電容值得出一幅指紋圖像,再從當前成像器件8如CMOS或CCD成像器件中獲取一幅指紋圖像,將以上組圖像進行迭加運算,根據(jù)一個閥值判斷是否為同一手指進行了按壓。如果使用的是非手指的偽指紋,雖然可以從CMOS或CCD成像器件取得偽指紋圖像,但電容的分布檢查可以有效杜絕偽指紋的檢測。從而實現(xiàn)偽指紋的檢查,做到真正的檢測活體指紋。
[0023]雖然現(xiàn)有的一些技術(shù)也融合了一些電容的檢測裝置,但都是以點或多個點的方式進行檢查,這些方式可以簡單防止偽指紋的檢查,只要找到這些點,很容易繞開檢查。
[0024]而本發(fā)明的電容技術(shù),采用的是矩陣的菱形電容式排列,以面狀的形式采集,根據(jù)手指接觸電容保護層后,電容分布層的電容強弱變化,通過進行行列掃描,得到一幅電容指紋圖像,電容的分布無法被偽指紋繞開,實現(xiàn)雙掃描,迭加認證,徹底標準偽指紋。菱形的電容式排列,141為X方向? 142為Y方向。
[0025]以上結(jié)合附圖實施例對本發(fā)明進行了詳細說明,本領(lǐng)域中普通技術(shù)人員可根據(jù)上述說明對本發(fā)明做出種種變化例。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因而,實施例中的某些細節(jié)不應(yīng)構(gòu)成對本發(fā)明的限定,本發(fā)明將以所附權(quán)利要求書界定的范圍作為本發(fā)明的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種電容光學(xué)指紋采集儀,其特征在于:所述電容光學(xué)指紋采集儀由外到內(nèi)依層包括電容保護層、電容分布層、棱鏡、LED燈、非球面鏡面反光罩、光闌、非球面成像透鏡和成像器件。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容光學(xué)指紋采集儀,其特征在于:所述的LED燈為紅色650nm LED 燈。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容光學(xué)指紋采集儀,其特征在于:所述的成像器件為CMOS或(XD成像器件。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容光學(xué)指紋采集儀,其特征在于:所述的電容分布層為矩陣的菱形電容分布層。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容光學(xué)指紋采集儀,其特征在于:所述電容保護層和電容分布層之間設(shè)置涂抹有UV光膠。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容光學(xué)指紋采集儀,其特征在于:所述電容分布層和棱鏡之間設(shè)置涂抹有UV光膠。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種電容光學(xué)指紋采集儀,所述電容光學(xué)指紋采集儀由外到內(nèi)依層包括電容保護層、電容分布層、棱鏡、LED燈、非球面鏡面反光罩、光闌、非球面成像透鏡和成像器件。本發(fā)明實現(xiàn)了具有光學(xué)指紋采集器的耐磨性好壽命長,同時具有電容采集器的活體指紋的檢測功能,有效防止假指紋,真正做到確保真實的活體指紋。
【IPC分類】G06K9/00
【公開號】CN105303165
【申請?zhí)枴緾N201510627524
【發(fā)明人】楊杰
【申請人】上海眾享電子科技有限公司
【公開日】2016年2月3日
【申請日】2015年9月29日
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