權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于， 電子線路板的數(shù)據(jù)文件包括:電子線路板的CAD坐標(biāo)數(shù)據(jù)、印刷電路板線路設(shè)計文件以及元器件數(shù)據(jù)庫； 所述元器件的數(shù)據(jù)庫按照元器件的封裝相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)生成標(biāo)準(zhǔn)元器件庫，特殊器件自定義生成； 所述X光機的參數(shù)包括:X光管電壓、X光管的角度、探測器的角度和/或靶功率。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)雙面電子線路板的數(shù)據(jù)文件以及X光機的參數(shù)，分別生成所述電子線路板的各面模擬圖像；包括: 從電子線路板的數(shù)據(jù)文件中獲取電子線路板的CAD坐標(biāo)數(shù)據(jù)以及印刷電路板線路設(shè)計文件； 從元器件的數(shù)據(jù)庫中獲取元器件參數(shù)； 根據(jù)所述電子線路板的CAD坐標(biāo)數(shù)據(jù)、印刷電路板線路設(shè)計文件、元器件參數(shù)及X光機的參數(shù)，結(jié)合不同X光設(shè)備在不同X光機參數(shù)下的成像規(guī)律，分別生成所述電子線路板的各面模擬圖像。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述X光機參數(shù)預(yù)先設(shè)定或根據(jù)所述線路設(shè)計文件及元器件參數(shù)確定。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，根據(jù)所述各面模擬圖像從真實圖像中識別出生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的真實圖像中的干涉圖像元素，并從所述真實圖像中過濾所述干涉圖像元素，生成被檢目標(biāo)真實圖像，具體包括: 根據(jù)各面模擬圖像識別出真實圖像中與所述各面模擬圖像對應(yīng)的真實圖像元素，并確定生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的真實圖像中的干涉圖像元素； 用真實圖像的圖像特征過濾所述干涉圖像元素的圖像特征，生成被檢目標(biāo)的真實圖像。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)各面模擬圖像識別出真實圖像中與所述各面模擬圖像對應(yīng)的真實圖像元素，并確定生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的真實圖像中的干涉圖像圖像元素，具體包括: 根據(jù)正面模擬圖像從真實圖像中識別出與所述正面模擬圖像對應(yīng)的正面真實圖像元素，并確定生成反面真實圖像所需要過濾的正面真實圖像中的干涉圖像元素，或， 根據(jù)反面模擬圖像從真實圖像中識別出與所述反面模擬圖像對應(yīng)的反面真實圖像元素，并確定生成正面真實圖像所需要過濾的反面真實圖像中的干涉圖像元素。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述圖像特征包括成像灰度和/或像素。
8.根據(jù)權(quán)利要求1一 7任一項所述的方法，其特征在于，所述模擬圖像及真實圖像包括二維圖像。
9.一種電子線路板X光檢查圖像生成裝置，其特征在于，包括: 模擬圖像生成單元，用于根據(jù)雙面電子線路板的數(shù)據(jù)文件以及X光機的參數(shù)，分別生成所述電子線路板的各面模擬圖像； 雙面真實圖像生成單元，用于將所述電子線路板進行X光成像，生成所述電子線路板的真實圖像，所述真實圖像包含雙面真實圖像元素； 被檢目標(biāo)真實圖像生成單元，用于根據(jù)所述各面模擬圖像從真實圖像中識別出生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的真實圖像中的干涉圖像元素，并從所述真實圖像中過濾所述干涉圖像元素，生成被檢目標(biāo)真實圖像。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于， 所述電子線路板的數(shù)據(jù)文件包括:電子線路板的CAD坐標(biāo)數(shù)據(jù)、印刷電路板線路設(shè)計文件以及元器件數(shù)據(jù)庫； 所述元器件的數(shù)據(jù)庫按照元器件的封裝相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)生成標(biāo)準(zhǔn)元器件庫，特殊器件自定義生成； 所述X光機的基本參數(shù)包括:X光管電壓、X光管的角度、探測器的角度、分辨率和/或靶電流。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置，其特征在于，所述模擬圖像生成單元還包括: 獲取模塊，用于從電子線路板的數(shù)據(jù)文件中獲取電子線路板的CAD坐標(biāo)數(shù)據(jù)、印刷電路板線路設(shè)計文件；以及從元器件的數(shù)據(jù)庫中獲取元器件參數(shù)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的裝置，其特征在于，所述模擬圖像生成單元還包括: X光機的參數(shù)確定模塊，用于預(yù)先設(shè)定或根據(jù)所述印刷電路板線路設(shè)計文件及元器件參數(shù)確定X光機的參數(shù)。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述被檢目標(biāo)真實圖像生成單元包括: 識別模塊，用于根據(jù)各面模擬圖像識別出真實圖像中與所述各面模擬圖像對應(yīng)的真實圖像元素，并確定生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的真實圖像中的干涉圖像元素， 計算模塊，利用真實圖像的圖像特征過濾所述干涉圖像元素的圖像特征，生成被檢目標(biāo)真實圖像。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置，其特征在于，所述圖像特征包括成像灰度和/或像素。
15.根據(jù)權(quán)利要求9一 14中任一項所述的裝置，其特征在于，所述模擬圖像及真實圖像包括二維圖像。
16.一種電子線路板X光檢查圖像生成方法，其特征在于，包括: 將所述電子線路板進行X光成像，分別生成所述電子線路板的單面真實圖像及雙面真實圖像， 根據(jù)所述單面真實圖像從雙面真實圖像中識別出生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素，并從所述雙面真實圖像中過濾所述干涉圖像元素，生成被檢目標(biāo)真實圖像。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于，生成單面真實圖像及雙面真實圖像的X光機參數(shù)一致。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，所述X光機參數(shù)包括:X光管電壓、X光管的角度、探測器的角度、分辨率和/或靶電流。
19.根據(jù)權(quán)利要求16- 18任一項所述的方法，其特征在于，根據(jù)所述單面真實圖像從雙面真實圖像中識別出生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素，并從所述真實圖像中過濾所述干涉圖像元素，生成被檢目標(biāo)真實圖像，具體包括: 根據(jù)單面真實圖像識別出雙面真實圖像中與所述單面真實圖像對應(yīng)的真實圖像元素，并確定生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素； 用雙面真實圖像的圖像特征過濾所述干涉圖像元素的圖像特征，生成被檢目標(biāo)的真實圖像。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)單面真實圖像識別出真實圖像中與所述單面真實圖像對應(yīng)的真實圖像元素，并確定生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的干涉圖像圖像元素，具體包括: 根據(jù)正面真實圖像從雙面真實圖像中識別出與所述正面真實圖像對應(yīng)的真實圖像元素，并確定生成反面真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素，或， 根據(jù)反面真實圖像從雙面真實圖像中識別出與所述反面真實圖像對應(yīng)的真實圖像元素，并確定生成正面真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素。
21.根據(jù)權(quán)利要求16- 20任一項所述的方法，還包括:將制作所述電子線路板的印刷電路板單獨進行X光成像，生成印刷電路板真實圖像，所述根據(jù)所述單面真實圖像從雙面真實圖像中識別出生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素，并從所述真實圖像中過濾所述干涉圖像元素，生成被檢目標(biāo)真實圖像，具體包括: 根據(jù)單面真實圖像及印刷電路板真實圖像識別出雙面真實圖像中生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素； 用雙面真實圖像的圖像特征過濾所述干涉圖像元素的圖像特征，生成被檢目標(biāo)的真實圖像。
22.根據(jù)權(quán)利要求16- 20任一項所述的方法，其特征在于，根據(jù)單面真實圖像及印刷電路板真實圖像識別出雙面真實圖像中生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素；具體包括: 根據(jù)正面真實圖像及印刷電路板真實圖像從雙面真實圖像中識別出生成反面真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素，或， 根據(jù)反面真實圖像及印刷電路板真實圖像從雙面真實圖像中識別出生成正面真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素，或 根據(jù)正、反單面真實圖像及印刷電路板真實圖像從雙面真實圖像中識別出生成印刷電路板真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素。
23.根據(jù)權(quán)利要求19- 22任一項所述的方法，其特征在于，所述圖像特征包括成像灰度和/或像素。
24.根據(jù)權(quán)利要求16- 23任一項所述的方法，其特征在于，所述真實圖像包括二維圖像。
25.一種電子線路板X光檢查圖像生成裝置，其特征在于，包括: 真實圖像生成單元，用于將所述電子線路板進行X光成像，分別生成所述電子線路板的單面真實圖像及雙面真實圖像， 被檢目標(biāo)真實圖像生成單元，用于根據(jù)所述單面真實圖像從雙面真實圖像中識別出生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素，并從所述雙面真實圖像中過濾所述干涉圖像元素，生成被檢目標(biāo)真實圖像。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的裝置，其特征在于，所述被檢目標(biāo)真實圖像生成單元包括: 識別模塊，用于根據(jù)單面真實圖像識別出雙面真實圖像中與所述單面真實圖像對應(yīng)的真實圖像元素，并確定生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素， 計算模塊，利用雙面真實圖像的圖像特征過濾所述干涉圖像元素的圖像特征，生成被檢目標(biāo)真實圖像。
27.根據(jù)權(quán)利要求25所述的裝置，其特征在于，所述真實圖像生成單元還用于將制作所述電子線路板的印刷電路板單獨進行X光成像，生成印刷電路板真實圖像，所述被檢目標(biāo)真實圖像生成單元，具體用于:根據(jù)單面真實圖像及印刷電路板真實圖像識別出雙面真實圖像中生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素；從所述雙面真實圖像中過濾所述干涉圖像元素，生成被檢目標(biāo)真實圖像。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的裝置，其特征在于，所述被檢目標(biāo)真實圖像生成單元包括: 識別模塊，用于根據(jù)單面真實圖像及印刷電路板真實圖像識別出雙面真實圖像中生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素， 計算模塊，利用雙面真實圖像的圖像特征過濾所述干涉圖像元素的圖像特征，生成被檢目標(biāo)真實圖像。
29.根據(jù)權(quán)利要求26或28所述的裝置，其特征在于，所述圖像特征包括成像灰度和/或像素。
30.根據(jù)權(quán)利要求25- 29中任一項所述的裝置，其特征在于，所述真實圖像包括二維圖像。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種電子線路板X光檢查圖像生成方法，所述方法包括：根據(jù)雙面電子線路板的數(shù)據(jù)文件以及X光機的參數(shù)，分別生成所述電子線路板的各面模擬圖像，或?qū)⑺鲭娮泳€路板進行X光成像，分別生成所述電子線路板單面真實圖像及雙面真實圖像；根據(jù)所述各面模擬圖像或單面真實圖像從雙面真實圖像中識別出生成被檢目標(biāo)真實圖像所需要過濾的干涉圖像元素，并從所述雙面真實圖像中過濾所述干涉圖像元素，生成被檢目標(biāo)真實圖像。利用本發(fā)明方法，在線式大批量的電子線路板X光檢查不需要CT技術(shù)；并可以解決雙面電子線路板的X光影像干涉的問題，簡化了電子線路板檢查設(shè)備，降低了檢查成本，提高了檢查效率，使之可以應(yīng)用于電子線路板的在線檢查。
【IPC分類】G06K9-00, G01N23-04, G06F17-50
【公開號】CN104541285
【申請?zhí)枴緾N201480001861
【發(fā)明人】萬文學(xué)
【申請人】深圳市凱意科技有限公司
【公開日】2015年4月22日
【申請日】2014年12月30日