專利名稱：一種基于轉(zhuǎn)向核估計的紅外條紋非均勻性校正方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種紅外成像系統(tǒng)圖像處理技術(shù)，尤其涉及一種基于轉(zhuǎn)向核估計的紅外條紋非均勻性校正方法。
背景技術(shù)：
由于工藝、材料以及器件工作環(huán)境等因素的限制，相同輻照度下紅外探測器像元響應(yīng)不完全一致，造成紅外圖像存在非均勻性的問題。其中，紅外掃描線列和非制冷凝視型焦平面的讀出電路考慮到工藝和成本的因素通常采用列輸出的方式，表現(xiàn)出的圖像噪聲主要是列向條紋狀為主的非均勻性干擾。通常在一定的光照范圍內(nèi)，紅外探測器在列向條紋非均勻性干擾下像元響應(yīng)近似為線性模型:
權(quán)利要求
1.一種基于轉(zhuǎn)向核估計的紅外條紋非均勻性校正方法，其特征在于，包含以下步驟: 步驟1，讀取一幅待校正的尺寸為的紅外圖像；計算每個像素Αα,& 水平方向和垂直方向的一階梯度
2.如權(quán)利要求1所述的基于轉(zhuǎn)向核估計的紅外條紋非均勻性校正方法，其特 征在于，所述步驟I還包含以下步驟:步驟1.1，由各像素點水平方向和垂直方向的一階梯度⑶、形成局部
3.如權(quán)利要求1所述的基于轉(zhuǎn)向核估計的紅外條紋非均勻性校正方法，其特 征在于，所述步驟2中擬合列向條紋非均勻性校正參數(shù)，是將非均勻性校正公式
全文摘要
本發(fā)明公開了一種基于轉(zhuǎn)向核估計的紅外條紋非均勻性校正方法，針對紅外列向條紋非均勻性，利用轉(zhuǎn)向核鄰域來表征像素點所在區(qū)域的邊緣程度，將轉(zhuǎn)向核估計的結(jié)果作為期望圖像，將期望圖像列向量和當(dāng)前圖像列向量之間采用最小二乘擬合，通過迭代求解各列的非均勻性校正參數(shù)，實現(xiàn)紅外圖像列向條紋非均勻性校正，去除條紋非均勻性的同時能夠保留圖像邊緣。
文檔編號G06T5/00GK103164846SQ20131008315
公開日2013年6月19日 申請日期2013年3月15日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月15日
發(fā)明者趙明, 安博文, 吳泳澎, 孫勝利, 林長青 申請人:上海海事大學(xué)