專利名稱：防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及適用于窄邊框且透明導(dǎo)電膜圖案為兩層的靜電容量式觸摸傳感器的窄邊框觸摸輸入薄片及其制造方法，其特征在于，防銹性特別優(yōu)良。
背景技術(shù)：
過(guò)去，專利文獻(xiàn)I公開(kāi)了下述技術(shù)在透明電極引線端子的各端子上形成金屬膜， 然后同時(shí)對(duì)輸入面板區(qū)域的透明電極圖案、引線端子列的金屬膜以及透明電極進(jìn)行蝕刻， 由此形成觸摸輸入裝置。
如圖9所示，所述專利文獻(xiàn)I的發(fā)明是下述一種方法發(fā)明在聚酯膜30上形成由 ITO膜31構(gòu)成的透明電極，并在其上面圖案化形成光致抗蝕膜32，接著用掩模33覆蓋光致抗蝕膜32，然后形成由In膜構(gòu)成的金屬膜34，然后拿掉掩模33，并用抗蝕劑剝離液去除光致抗蝕膜32，圖案化形成金屬膜34。之后，在被圖案化的金屬膜34上圖案化形成第二光致抗蝕膜35 (參照?qǐng)D9 (e))，然后用氯化鐵溶液等同時(shí)對(duì)金屬膜35和ITO膜31進(jìn)行蝕刻去除，最后用抗蝕劑剝離液去除光致抗蝕膜35。
專利文獻(xiàn)I :特開(kāi)平5-108264號(hào)公報(bào)發(fā)明內(nèi)容
然而，專利文獻(xiàn)I的方法中，圖9 (e)的圖案化的金屬膜34上圖案化形成第二光致抗蝕膜35時(shí),掩模33的位置只要有稍微的偏離，就會(huì)存在一側(cè)金屬膜34變細(xì)另一側(cè)金屬膜34變粗而金屬膜34無(wú)法達(dá)到所需電阻值的問(wèn)題。因此，存在此方法不適用于金屬膜 34必須以細(xì)線并其電阻值控制在規(guī)定電阻值范圍內(nèi)的窄邊框觸摸輸入薄片的問(wèn)題。
另外，靜電容量式窄邊框觸摸輸入薄片中，通常有必要將X方向上形成的透明導(dǎo)電膜圖案和Y方向上形成的透明導(dǎo)電膜圖案以?shī)A住絕緣層的方式層壓而成。在專利文獻(xiàn) I的方法中，由于無(wú)法將金屬膜及透明電極在兩面上對(duì)準(zhǔn)位置而形成，因此存在必須將制作好的兩張觸摸輸入薄片通過(guò)對(duì)準(zhǔn)位置而貼合等工序制作的問(wèn)題。結(jié)果，還存在生產(chǎn)效率降低、透明窗部的透射率降低或者厚度變厚而體積變大的問(wèn)題。
因此，本發(fā)明的目的在于，為了解決所述課題提供一種適用于窄邊框且透明導(dǎo)電膜圖案為兩層的靜電容量式觸摸傳感器且還具有非常好的防銹性的窄邊框觸摸輸入薄片及其制造方法。
因此，為了解決所述課題，本發(fā)明人做出了如下發(fā)明，S卩，根據(jù)本發(fā)明的第一方式， 提供一種防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片，其特征在于，在透明襯底薄片兩面的中央窗部上分別形成透明導(dǎo)電膜的電極圖案，在所述襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別形成用于所述電極圖案的細(xì)微布線電路圖案，該兩面的電極圖案以及細(xì)微布線電路圖案不同，其中， 一面或者兩面中至少在細(xì)微布線電路圖案上除端子部之外覆蓋形成透光性的防銹層。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式，提供一種根據(jù)第一實(shí)施方式的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片，其特征在于，在所述細(xì)微布線電路圖案中依次層壓有透明導(dǎo)電膜和5遮光性導(dǎo)電膜。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施方式，提供一種根據(jù)第一實(shí)施方式或第二實(shí)施方式的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片，其特征在于，在所述電極圖案上也覆蓋形成有所述透光性防銹層。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第四實(shí)施方式，提供一種根據(jù)第一至三任一個(gè)實(shí)施方式的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片，其特征在于，所述透光性防銹層由熱固化樹(shù)脂或光固化樹(shù)脂構(gòu)成。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第五實(shí)施方式，提供一種根據(jù)第一至四任一個(gè)實(shí)施方式的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片，其特征在于，所述襯底薄片具有兩層結(jié)構(gòu)。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第六實(shí)施方式，提供一種根據(jù)第一至五任一個(gè)實(shí)施方式的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片，其特征在于，通過(guò)進(jìn)一步包括與所述細(xì)微布線電路圖案的端子部連接的搭載IC芯片的外部電路，由此作為靜電容量式觸摸傳感器工作。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第七實(shí)施方式，提供一種防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，包括以下步驟
在透明的襯底薄片兩面上分別依次形成透明導(dǎo)電膜、遮光性導(dǎo)電膜、第一抗蝕劑層；
通過(guò)兩面同時(shí)曝光和顯像所述第一抗蝕劑層的一部分，由此進(jìn)行圖案化；
通過(guò)同時(shí)蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第一抗蝕劑層的部分的所述透明導(dǎo)電膜和所述遮光性導(dǎo)電膜，由此在襯底薄片兩面的中央窗部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的電極圖案，同時(shí)在襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的細(xì)微布線電路圖案；
剝離第一抗蝕劑層后，在暴露的遮光性導(dǎo)電膜上層壓形成被圖案化的第二抗蝕劑層；
通過(guò)僅蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第二抗蝕劑層的部分的所述遮光性導(dǎo)電膜，在襯底薄片兩面的所述中央窗部和端子部中分別暴露所述透明導(dǎo)電膜；
剝離第二抗蝕劑層后，在一面或兩面中至少在細(xì)微布線電路圖案上除端子部之外覆蓋形成透光性的防銹層。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第八實(shí)施方式，提供一種防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，包括以下步驟
在透明的襯底薄片兩面上分別依次形成透明導(dǎo)電膜、遮光性導(dǎo)電膜、第一抗蝕劑層；
通過(guò)兩面同時(shí)曝光和顯像所述第一抗蝕劑層的一部分，由此進(jìn)行圖案化；
通過(guò)同時(shí)蝕刻去除沒(méi)有層壓被圖案化的第一抗蝕劑層的部分的所述透明導(dǎo)電膜和所述遮光性導(dǎo)電膜，由此在襯底薄片兩面的中央窗部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的電極圖案，同時(shí)在襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的細(xì)微布線電路圖案；
剝離所述第一抗蝕劑層后，在暴露的遮光性導(dǎo)電膜上層壓形成添加了防銹劑且被圖案化的第二抗蝕劑層；
通過(guò)僅蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第二抗蝕劑層的部分的所述遮光性導(dǎo)電膜，由此在襯底薄片兩面的所述中央窗部和端子部中分別暴露所述透明導(dǎo)電膜，并以該狀態(tài)不剝離第二抗蝕劑層而作為防銹層殘留。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第九實(shí)施方式，提供一種防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，包括以下步驟
在透明的襯底薄片兩面上分別依次形成透明導(dǎo)電膜、遮光性導(dǎo)電膜、第一抗蝕劑層；
通過(guò)兩面同時(shí)曝光和顯像所述第一抗蝕劑層的一部分，由此進(jìn)行圖案化；
通過(guò)同時(shí)蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第一抗蝕劑層的部分的所述透明導(dǎo)電膜和所述遮光性導(dǎo)電膜，由此在襯底薄片兩面的中央窗部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的電極圖案，同時(shí)在襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的細(xì)微布線電路圖案；
剝離第一抗蝕劑層后，在暴露的遮光性導(dǎo)電膜上層壓形成添加了防銹劑且被圖案化的第二抗蝕劑層；
通過(guò)僅蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第二抗蝕劑層的部分的所述遮光性導(dǎo)電膜，由此在襯底薄片兩面的所述中央窗部和端子部中分別暴露所述透明導(dǎo)電膜，進(jìn)一步在所述中央窗部和所述端子部的境界中，側(cè)面蝕刻所述遮光性導(dǎo)電膜的暴露的端面，由此使所述第二抗蝕劑層呈房檐結(jié)構(gòu)；
通過(guò)熱處理軟化所述房檐結(jié)構(gòu)的第二抗蝕劑層，由此覆蓋所述殘留的遮光性導(dǎo)電膜的暴露的端面，并以該狀態(tài)不剝離第二抗蝕劑層而作為防銹層殘留。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第十實(shí)施方式，提供一種根據(jù)第七至九任一個(gè)實(shí)施方式的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，其特征在于，所述透明的襯底薄片是由多張樹(shù)脂薄片的層壓體構(gòu)成的襯底薄片，其中，最外表面和最內(nèi)表面的樹(shù)脂薄片上在該樹(shù)脂薄片層壓之前事先形成所述透明導(dǎo)電膜和所述遮光性導(dǎo)電膜，在所述樹(shù)脂薄片層壓后形成所述第一抗蝕劑層。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第十一實(shí)施方式，提供一種根據(jù)第七至九任一個(gè)實(shí)施方式的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，其特征在于，所述透明的的襯底薄片是由多張樹(shù)脂薄片的層壓體構(gòu)成的襯底薄片，其中，最外表面和最內(nèi)表面的樹(shù)脂薄片上在該樹(shù)脂薄片層壓之前事先形成所述透明導(dǎo)電膜，在該樹(shù)脂薄片層壓后形成所述遮光性導(dǎo)電膜和所述第一抗蝕劑層。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第十二實(shí)施方式，提供一種根據(jù)第七至i 任一個(gè)實(shí)施方式的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，其特征在于，向所述第二抗蝕劑層添加的防銹劑為咪唑、三唑、苯并三唑、苯并咪唑、苯并噻唑、吡唑中的任意一種。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第十三實(shí)施方式，提供一種防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，包括以下步驟
在透明的襯底薄片兩面的整個(gè)面上分別依次形成透明導(dǎo)電膜、遮光性導(dǎo)電膜、第一光致抗蝕劑層；
通過(guò)兩面同時(shí)曝光和顯像所述第一光致抗蝕劑層的一部分，由此進(jìn)行圖案化；
通過(guò)同時(shí)蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第一光致抗蝕劑層的部分的所述透明導(dǎo)電膜和所述遮光性導(dǎo)電膜，由此在襯底薄片兩面的中央窗部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的電極圖案，同時(shí)在襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的細(xì)微布線電路圖案；
剝離所述第一光致抗蝕劑層后，在形成電極圖案和細(xì)微布線電路圖案的面的整個(gè)面上形成第二光致抗蝕劑層；
通過(guò)兩面同時(shí)曝光和顯像所述第二光致抗蝕劑層的一部分，由此進(jìn)行圖案化；
通過(guò)僅蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第二光致抗蝕劑層的部分的所述遮光性導(dǎo)電膜，由此在襯底薄片兩面的所述中央窗部和端子部中分別暴露所述透明導(dǎo)電膜；
剝離所述第二光致抗蝕劑層后，用防銹功能膜覆蓋暴露的遮光性導(dǎo)電膜。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第十四實(shí)施方式，提供一種根據(jù)第十三實(shí)施方式的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，其特征在于，通過(guò)印刷法形成所述防銹功能膜。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第十五實(shí)施方式，提供一種根據(jù)第十三實(shí)施方式的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，其特征在于，通過(guò)光學(xué)處理形成所述防銹功能膜。
另外，根據(jù)本發(fā)明的第十六實(shí)施方式，提供一種根據(jù)第十三至十五任一個(gè)實(shí)施方式的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，其特征在于，所述透明導(dǎo)電膜為ITO 膜，所述遮光性導(dǎo)電膜為銅箔。
本發(fā)明提供下述一種窄邊框觸摸輸入部薄片如上所述在透明的襯底薄片兩面的中央窗部上分別形成透明導(dǎo)電膜的電極圖案，在所述襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別形成用于所述電極圖案的細(xì)微布線電路圖案，并且該兩面的電極圖案和細(xì)微布線電路圖案不相同，其中，在細(xì)微布線電路圖案上除端子部之外覆蓋形成有透光性防銹層。因此，具有防銹性非常優(yōu)良的效果。
更加詳細(xì)地說(shuō)，例如，假設(shè)沒(méi)有添加防銹劑的第二抗蝕劑層在細(xì)微布線電路圖案上沒(méi)被剝離而殘留時(shí)，由于該第二抗蝕劑層防銹性差，因此產(chǎn)生如下問(wèn)題產(chǎn)品完成后從外部侵入腐蝕性液體，例如汗液或鹽水等，或者在高溫高濕等環(huán)境條件布線電路會(huì)發(fā)生腐蝕， 因此電學(xué)特性變差。與之相比，如本發(fā)明中所述，如果防銹層殘留在細(xì)微布線電路圖案上， 則產(chǎn)品完成后即使從外部侵入腐蝕性的液體或者處于高溫高濕的環(huán)境中，布線電路上也不會(huì)發(fā)生腐蝕，能夠保持電學(xué)特性。因此，如適用于靜電容量式觸摸傳感器等的觸摸輸入薄片一樣，本發(fā)明也非常適用于布線電路必須由細(xì)線形成且要長(zhǎng)時(shí)間保持低電阻的用途上。
另外，在窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法中，在第二抗蝕劑層中添加防銹劑且該第二抗蝕劑層沒(méi)被剝離而作為防銹層殘留的情況下，第二抗蝕劑層兼作防銹層，因此不需要再形成針對(duì)第二抗蝕劑層另設(shè)的防銹層的工序，或者能夠節(jié)省材料而成本低。進(jìn)一步，由于不需要再形成針對(duì)第二抗蝕劑層另設(shè)的防銹層，因此提高防銹區(qū)域的相對(duì)于細(xì)微布線電路圖案的位置精度。
另外，細(xì)微布線電路圖案是通過(guò)按照除端子部之外透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜的兩層結(jié)構(gòu)被防銹功能膜覆蓋的方式構(gòu)成，由此能夠長(zhǎng)時(shí)間地保持低電阻，且在端子部中通過(guò)去除遮光性導(dǎo)電膜來(lái)保持與FPC的電連接性。


圖I為表示涉及本發(fā)明的窄邊框觸摸輸入薄片的一個(gè)實(shí)施例的模式截面圖2 Ca)為表示圖I窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式圖2 (b)為表示圖I窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式圖
圖2 (c)為表示圖I窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式圖
圖2 Cd)為表示圖I窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式圖
圖2 Ce)為表示圖I窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式圖
圖2 Cf)為表示圖I窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式圖
圖2 (g)為表示圖I窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式圖
圖3為表示涉及本發(fā)明的窄邊框觸摸輸入薄片的另一個(gè)實(shí)施例的模式截面圖4為關(guān)于涉及本發(fā)明的窄邊框觸摸輸入薄片的一個(gè)實(shí)施例說(shuō)明電極圖案以及細(xì)微布線電路圖案的圖5為表示電極圖案以及細(xì)微布線電路圖案形成在由一張樹(shù)脂薄片構(gòu)成的透明襯底薄片的兩面上的窄邊框觸摸輸入薄片的例子的模式截面圖6 Ca)為表示圖5窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖6 (b)為表示圖5窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖6 (c)為表示圖5窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖6 Cd)為表示圖5窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖6 Ce)為表示圖5窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖6 Cf)為表示圖5窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖7為表示電極圖案以及細(xì)微布線電路圖案形成在由兩張樹(shù)脂薄片層壓而成的透明襯底薄片的最外表面以及最內(nèi)表面的窄邊框觸摸輸入薄片的例子的模式截面圖8 Ca)為表示圖7窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖8 (b)為表示圖7窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖8 (c)為表示圖7窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖8 Cd)為表示圖7窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖8 Ce)為表示圖7窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖8 Cf)為表示圖7窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖8 (g)為表示圖7窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖9為用于說(shuō)明專利文獻(xiàn)I中記載的觸摸輸入裝置的電極圖案形成工序的圖10為說(shuō)明在窄邊框觸摸輸入薄片的中央窗部上形成的電極圖案的形狀以及配置形態(tài)的一個(gè)例子的俯視圖11為關(guān)于涉及本發(fā)明的窄邊框觸摸輸入薄片的一個(gè)實(shí)施例說(shuō)明電極圖案以及細(xì)微布線電路圖案的圖12為表示電極圖案以及細(xì)微布線電路圖案形成在由一張樹(shù)脂薄片構(gòu)成的透明襯底薄片的兩面上的窄邊框觸摸輸入薄片的例子的模式截面圖13 Ca)為表示圖12窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖13 (b)為表示圖12窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖13 (c)為表示圖12窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖13 Cd)為表示圖12窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖13 Ce)為表示圖12窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖13 Cf)為表示圖12窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖
圖13 (g)為表示圖12窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖14為表示電極圖案以及細(xì)微布線電路圖案形成在由兩張樹(shù)脂薄片層壓而成的透明襯底薄片的最外表面以及最內(nèi)表面的窄邊框觸摸輸入薄片的例子的模式截面圖15(a)為表示圖14窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖15(b)為表示圖14窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖15(C)為表示圖14窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖15Cd)為表示圖14窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖15Ce)為表示圖14窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖15Cf)為表示圖14窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖15(g)為表示圖14窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖15(h)為表示圖14窄邊框觸摸輸入薄片的制造工序的模式截面圖16為說(shuō)明本發(fā)明的觸摸輸入薄片的一個(gè)實(shí)施例的電極圖案以及細(xì)微布線電路圖案的圖17為表示電極圖案以及細(xì)微布線電路圖案形成在由一張樹(shù)脂薄片構(gòu)成的透明襯底薄片的兩面上的窄邊框觸摸輸入薄片的例子的模式截面圖18為表示將圖17的觸摸輸入薄片的端子部附近A的部分放大截面圖19(a)為表示圖17觸摸輸入薄片的制造工序的截面圖19(b)為表示圖17觸摸輸入薄片的制造工序的截面圖19(C)為表示圖17觸摸輸入薄片的制造工序的截面圖19Cd)為表示圖17觸摸輸入薄片的制造工序的截面圖19Ce)為表示圖17觸摸輸入薄片的制造工序的截面圖19Cf)為表示圖17觸摸輸入薄片的制造工序的截面圖19(g)為表示圖17觸摸輸入薄片的制造工序的截面圖19(h)為表示圖17觸摸輸入薄片的制造工序的截面圖19(i)為表示圖17觸摸輸入薄片的制造工序的截面圖19(j)為表示圖17觸摸輸入薄片的制造工序的截面圖19(k)為表示圖17的觸摸輸入薄片的制造工序的截面圖20為表示在端子部遮光性導(dǎo)電膜被曝光的部分放大截面圖21為表示從與FPC連接的上面設(shè)置敷形涂層的例子的部分放大截面圖。
附圖標(biāo)號(hào)說(shuō)明
I 遮光性導(dǎo)電膜
3 透明導(dǎo)電膜
5 窄邊框觸摸輸入薄片
7 樹(shù)脂薄片
9 電極圖案
10:細(xì)微布線電路圖案
12:掩模
14:曝光光線
16:第一抗蝕劑層
18 :第二抗蝕劑層
20 :靜電容量式觸摸傳感器
22 :窄邊框觸摸輸入薄片5的外側(cè)邊緣部
24 :窄邊框觸摸輸入薄片5的中央窗部
25窄邊框觸摸輸入薄片5的端子部
28:外部電路
30:防銹層
46、47:菱形電極
469、479:連接布線
S :側(cè)面蝕刻部分
501 :觸摸輸入薄片
506:樹(shù)脂薄片
507:中央窗部
508:外側(cè)邊緣部
509:透明導(dǎo)電膜
510:電極圖案
511:細(xì)微布線電路圖案
512:遮光性導(dǎo)電膜
513:端子部
514:防銹功能膜
516 :第一光致抗蝕劑層
517 :掩模
518 :第二光致抗蝕劑層
519 :掩模
528 :第三光致抗蝕劑層
529 :掩模
532 :曝光光線
540 FPC
560:敷形涂層具體實(shí)施方式
下面，參照

本發(fā)明的最佳實(shí)施方式。
〈第一實(shí)施方式〉
在圖I中所示的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片5如下由透明樹(shù)脂薄片7構(gòu)成的襯底薄片的兩面上，在中央窗部24上形成透明導(dǎo)電膜3的電極圖案9，在外側(cè)邊緣部 22上形成透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I依次層壓而成的細(xì)微布線電路圖案10，該襯底薄片兩面的電極圖案9和細(xì)微布線電路圖案10不同，并且在該襯底薄片兩面的電極圖案9和細(xì)微布線電路圖案10上除端子部之外覆蓋形成有透光性防銹層30。
在此，兩面的電極圖案9和細(xì)微布線電路圖案10不同是由于靜電容量式觸摸傳11感器的電極圖案形狀以及配置為如下的緣故。即，一側(cè)面上設(shè)置有X電極xl、x2、x3……和所述電極圖案9，在另一側(cè)面上設(shè)置有Y電極yl、y2、y3……和所述電極圖案9。X電極xl、 x2、x3……平行地排列，其構(gòu)成為，多個(gè)方形按照在其長(zhǎng)尺寸方向上相對(duì)而置的兩個(gè)角并排的方式配置。同樣，Y電極yl、y2、y3……也平行地排列，其構(gòu)成為，多個(gè)方形按照在其長(zhǎng)尺寸方向上相對(duì)而置的兩個(gè)角并排的方式配置。因此，在中央窗部24上，方形按照殘留微小間隙而填滿輸入面的方式排列。
在兩面形成這樣的將透明導(dǎo)電膜3的電路圖案和細(xì)微布線電路圖案10的窄邊框觸摸輸入薄片5的制造方法是，首先在由一張樹(shù)脂薄片7構(gòu)成的襯底薄片的內(nèi)表面和外表面的整個(gè)面上分別依次形成透明導(dǎo)電膜3、遮光性導(dǎo)電膜I、第一抗蝕劑層16，然后在內(nèi)表面和外表面上分別放置所需的圖案掩模12，然后通過(guò)曝光和顯像將第一抗蝕劑層16圖案化(參照?qǐng)D2 (a))?；蛘哌€可以是，使用厚度薄的兩張樹(shù)脂薄片7，在各薄片的一個(gè)面的整個(gè)面上依次形成透明導(dǎo)電膜3、遮光性導(dǎo)電膜I、第一抗蝕劑層16，然后將這兩張樹(shù)脂薄片7 以相對(duì)而置的方式層壓而構(gòu)成襯底薄片，然后在該襯底薄片的內(nèi)表面和外表面上分別放置所需的圖案掩模12，然后通過(guò)曝光和顯像將第一抗蝕劑層16圖案化(參照?qǐng)D2 (b))，此時(shí)， 由于遮光性導(dǎo)電膜I阻斷相反一側(cè)的面的曝光光線14，因此即使用不同的掩模圖案進(jìn)行曝光，但也不會(huì)對(duì)相反一側(cè)的第一抗蝕劑層16圖案產(chǎn)生影響。另外，作為樹(shù)脂薄片7的層壓方法可以舉出熱壓或通過(guò)粘合劑層的干式層壓法等方法。
接著，用氯化鐵等蝕刻液對(duì)透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I同時(shí)進(jìn)行蝕刻，由此形成細(xì)線圖案(參照?qǐng)D2 (C))。然后用抗蝕劑剝離液剝離第一抗蝕劑層16而使遮光性導(dǎo)電膜I暴露，然后在暴露的遮光性導(dǎo)電膜I中僅在外側(cè)邊緣部22的部分形成第二抗蝕劑層18 (參照?qǐng)D2 (d))。然后，如果用氧化的過(guò)氧化氫水等特殊蝕刻液對(duì)其進(jìn)行蝕刻，則形成第二抗蝕劑層18的外側(cè)邊緣部22按原樣殘留，沒(méi)有形成第二抗蝕劑層18且遮光性導(dǎo)電膜I被暴露的中央窗部24上的遮光性導(dǎo)電膜I被蝕刻去除，從而在其下面的透明導(dǎo)電膜3暴露而成為電極圖案9 (參照?qǐng)D2 (e))。中央窗部24成為兩面上形成透明導(dǎo)電膜的顯示器部，外側(cè)邊緣部22上形成的遮光性導(dǎo)電膜I和在其下面形成相同圖案的透明導(dǎo)電膜3形成為細(xì)微布線電路圖案10。
但是，在該實(shí)施方式中，中央窗部的透明導(dǎo)電膜3的電極圖案9被暴露，并且第二抗蝕劑層18也被特殊蝕刻液稍微劣化或者膨潤(rùn)，因此有時(shí)對(duì)于透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I的長(zhǎng)時(shí)間的保護(hù)不是很充分。而且，細(xì)微布線電路圖案10的端子部還是被第二抗蝕劑層18覆蓋。因此，在本發(fā)明中，剝離第二抗蝕劑層后，電極圖案9和細(xì)微布線電路圖案10上除端子部外用透光性防銹層30覆蓋，由此更好地保護(hù)透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I (參照?qǐng)D2 (f))。
另外，如果將通過(guò)上述方法得到的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片5的兩面上形成的細(xì)微布線電路圖案10的端子部與搭載IC芯片的外部電路28通過(guò)FPC (Flexible Printed Circuits,柔性線路板)等連接,則能夠制造出夾住襯底薄片而在其兩面上形成透明導(dǎo)電膜3的靜電容量式觸摸傳感器(參照?qǐng)D2 (g))。
接著，詳細(xì)說(shuō)明形成所述窄邊框觸摸輸入薄片5的各層。首先，襯底薄片由厚度為 3(Γ2000 μ m程度的透明的薄片構(gòu)成，作為材質(zhì)可以舉出聚酯類樹(shù)脂、聚苯乙烯類樹(shù)脂、烯烴類樹(shù)脂、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯類樹(shù)脂、聚碳酸酯類樹(shù)脂、丙烯類樹(shù)脂等樹(shù)脂薄片7，除此之外還可以舉出各種玻璃等。
作為遮光性導(dǎo)電膜1，可以舉出由導(dǎo)電率高且遮光性優(yōu)良的單一的金屬膜或那些金屬合金或化合物等構(gòu)成的層，并且可以通過(guò)真空沉積法、濺射法、離子電鍍法、鍍金法等方法形成。而且，還需要的是存在一種蝕刻劑，它不會(huì)蝕刻透明導(dǎo)電膜，但會(huì)蝕刻遮光性導(dǎo)電膜層I。作為優(yōu)選的金屬例子，可以舉出鋁、鎳、銅、銀等。特別是由銅箔構(gòu)成的厚度為 30nnTl000nm的金屬膜非常優(yōu)選，因?yàn)槠涑藢?dǎo)電性和遮光性優(yōu)良、容易在透明導(dǎo)電膜不被蝕刻的酸性環(huán)境中的過(guò)氧化氫水中蝕刻之外，還具有與外部電路容易連接的優(yōu)點(diǎn)。
透明導(dǎo)電膜3可以舉出由銦錫氧化物、鋅氧化物等金屬氧化物構(gòu)成的層，并且可以通過(guò)真空沉積法、濺射法、離子電鍍法、鍍金法等方法形成。必要的是，形成厚度為數(shù)十nm 至數(shù)百nm程度，而且在氯化鐵等溶液中同遮光性導(dǎo)電膜I 一起容易被蝕刻，但是在酸性環(huán)境中的過(guò)氧化氫水等遮光性導(dǎo)電膜層I的蝕刻液中難以被蝕刻。而且，優(yōu)選的是光透射率為80%以上、表面電阻值為幾πιΩ至幾百Ω的。
作為防銹層30可以舉出環(huán)氧類、氨基甲酸酯類、丙烯酸類等熱固化性樹(shù)脂、或氨基甲酸酯丙烯酸酯類、氰基丙烯酸酯類等紫外線固化性樹(shù)脂。防銹層30的形成方法除了通過(guò)凹版印刷、絲網(wǎng)印刷、平版印刷等通用的印刷方法形成之外，還可以通過(guò)基于各種涂布機(jī)的方法、涂飾、浸潰等方法形成。另外，在本發(fā)明中，覆蓋電極圖案9和細(xì)微布線電路圖案10 是指不僅僅覆蓋電極圖案9和細(xì)微布線電路圖案10的上表面，而且還要覆蓋側(cè)面。
另外，在圖I所示的實(shí)施方式中，在電極圖案9和細(xì)微布線電路圖案10上設(shè)置防銹層30，但是，還可以是只有細(xì)微布線電路圖案10被所述防銹層30覆蓋(參照?qǐng)D3)。即使這種情況下也可以使細(xì)微布線電路圖案10長(zhǎng)時(shí)間保持在規(guī)定的電阻范圍內(nèi)。但是，由于圖 I所述的實(shí)施方式中，由于透明電極也能夠長(zhǎng)時(shí)間保持在規(guī)定電阻范圍內(nèi)，因此更加優(yōu)選。 只有細(xì)微布線電路圖案10被防銹層30覆蓋時(shí)，可以用上一段中的方法直接在局部上形成后進(jìn)行固化，還可以是在整個(gè)面上形成后在局部上照射紫外線而進(jìn)行固化、對(duì)非固化部分進(jìn)行去除。
另外，在圖I所述的實(shí)施方式中，窄邊框觸摸輸入薄片5的兩面上形成透光性防銹層30，但還可以是僅在窄邊框觸摸輸入薄片5的一面上形成透光性防銹層30。例如，將窄邊框觸摸輸入薄片5粘貼在玻璃板上或者樹(shù)脂板上時(shí)，窄邊框觸摸輸入薄片5的粘貼一側(cè)的面被玻璃板或樹(shù)脂板保護(hù)，因此只要用防銹層30保護(hù)與粘貼一側(cè)的面相反的一面即可。
作為第一抗蝕劑層16，優(yōu)選的是由能夠用激光或金屬鹵化物燈等曝光且用堿性溶液等顯像的酚醛清漆樹(shù)脂或四甲基氫氧化銨等光致抗蝕劑材料構(gòu)成。通過(guò)光致抗蝕劑材料的曝光和顯像，能夠可靠地形成線寬度細(xì)的細(xì)微布線電路圖案10。另外，在本發(fā)明中，由于如前面所述地形成遮光性導(dǎo)電膜1，因此如果第一抗蝕劑層16由光致抗蝕劑材料構(gòu)成，則由于內(nèi)外表面可以同時(shí)曝光和顯像，因此可以生產(chǎn)性非常良好地制造窄邊框觸摸輸入薄片5。第一抗蝕劑層16的形成方法，除了有凹版印刷、絲網(wǎng)印刷、平版印刷等通用的印刷方法之外，還有基于各種涂布機(jī)的方法、涂飾、浸潰等方法。
關(guān)于第二抗蝕劑層18，只要由對(duì)酸性環(huán)境中的過(guò)氧化氫水等遮光性導(dǎo)電膜I的蝕刻液具有抗蝕性的材料構(gòu)成就沒(méi)有特別的限定。形成方法或厚度可以與第一抗蝕劑層18 的形成方法與厚度相同。
另外，在光致抗蝕劑材料中有感光的部分溶解的“正型”和感光的部分殘留的“負(fù)型”。對(duì)于圖案的細(xì)微化來(lái)說(shuō)“正型”更有利，但在本發(fā)明中只要能夠得到所要求的圖案的抗蝕劑，則并不局限于“正型”。
另外，圖I所示的實(shí)施方式中，將透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜30依次層壓而形成細(xì)微布線電路圖案10，但還可以是僅由透明導(dǎo)電膜3來(lái)形成細(xì)微布線電路圖案10。但是， 從加強(qiáng)透明導(dǎo)電膜3的導(dǎo)電性方面考慮，優(yōu)選的是層壓銅箔等遮光性導(dǎo)電膜30。
〈第二實(shí)施方式〉
下面參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的第二實(shí)施方式。圖4為說(shuō)明本發(fā)明的窄邊框觸摸輸入薄片的一個(gè)實(shí)施例的電極圖案和細(xì)微布線電路圖案的圖。圖5為表示電極圖案和細(xì)微布線電路圖案形成在由一張樹(shù)脂薄片構(gòu)成的透明的襯底薄片的兩面上的窄邊框觸摸輸入薄片的例子的模式截面圖(從圖4所示的AA線的位置切割的縮減細(xì)微布線電路圖案數(shù)量的繪圖)，圖6 (βΓ (f)為表示其制造工序的模式截面圖。圖中，I是遮光性導(dǎo)電膜層，3是透明導(dǎo)電膜，5是窄邊框觸摸輸入薄片，7是樹(shù)脂薄片，9是電極圖案，10是細(xì)微布線電路圖案， 12是掩模，14是曝光光線，16是第一抗蝕劑層，18是第二抗蝕劑層(兼作防銹層)，20是靜電容量式觸摸傳感器，22是窄邊框觸摸輸入薄片5的外側(cè)邊緣部，24是窄邊框觸摸輸入薄片 5的中央窗部，28是外部電路。
本發(fā)明中得到的窄邊框觸摸輸入薄片5如下在襯底薄片兩面的中央窗部24上形成僅由透明導(dǎo)電膜3構(gòu)成的電極圖案9，在外側(cè)邊緣部22上形成透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I依次層壓的細(xì)微布線電路圖案10 (參照?qǐng)D4)，其特征在于，該細(xì)微布線電路圖案10 的透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I以相同圖案且位置不偏差地層壓。另外，形成有電極圖案9和細(xì)微布線電路圖案10的透明襯底薄片能夠由一張樹(shù)脂薄片7構(gòu)成(參照?qǐng)D5)。
將這樣的透明導(dǎo)電膜3的電路圖案和細(xì)微布線電路圖案10形成在兩面的窄邊框觸摸輸入薄片5的制造方法，首先在由一張樹(shù)脂薄片7構(gòu)成的透明的襯底薄片的內(nèi)表面和外表面的整個(gè)面上分別依次形成透明導(dǎo)電膜3、遮光性導(dǎo)電膜I、第一抗蝕劑層16而得到導(dǎo)電性薄片(參照?qǐng)D6 (a))，然后在內(nèi)表面和外表面上分別放置所需的圖案掩模12，然后通過(guò)曝光(參照?qǐng)D6 (b))和顯像對(duì)第一抗蝕劑層16進(jìn)行圖案化。此時(shí)，遮光性導(dǎo)電膜I阻斷相反一側(cè)面的曝光光線14，因此即使同時(shí)用不同的掩模圖案進(jìn)行曝光，也不會(huì)對(duì)相反一側(cè)的第一抗蝕劑層16的圖案產(chǎn)生影響。因此，由于能夠同時(shí)對(duì)兩面進(jìn)行曝光，因此內(nèi)外表面的位置容易對(duì)準(zhǔn)，可通過(guò)一次工序?qū)擅孢M(jìn)行圖案化，從而提高生產(chǎn)效率。另外，圖6 (b)所示的掩模12的位置表示如果第一抗蝕劑層16為“負(fù)型”(如果被曝光，則相對(duì)于顯像液溶解性低，顯像后曝光部分殘留)的情況。“正型”(如果被曝光，則相對(duì)于顯像液溶解性增大， 曝光部分被去除)時(shí)，被掩模遮光的部分相反。
另外，外表面掩模和內(nèi)表面掩模的定位可以利用兩面曝光裝置的公知的掩模定位方法。例如，外表面掩模和內(nèi)表面掩模上分別形成掩模用定位標(biāo)記，照相機(jī)等光學(xué)讀取傳感器讀取一對(duì)掩模用定位標(biāo)記的重疊狀態(tài)，由此得到外表面掩模和內(nèi)表面掩模的相對(duì)的位置信息。并且，根據(jù)所得到的位置信息，掩模位置調(diào)整裝置使外表面掩模和內(nèi)表面掩模相對(duì)移動(dòng)而使得一對(duì)掩模用定位標(biāo)記的中心重合，由此進(jìn)行外表面掩模和內(nèi)表面掩模的定位。
接著，用氯化鐵等蝕刻液對(duì)透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I同時(shí)進(jìn)行蝕刻，并通過(guò)去除圖案化的第一抗蝕劑層16沒(méi)有層壓的部分的透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜1，在襯底薄片兩面的中央窗部上分別形成透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I無(wú)位置偏差地層壓的電極圖案9，同時(shí)在襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別形成透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I無(wú)位置偏差地層壓的細(xì)微布線電路圖案10 (參照?qǐng)D6 (C))。
接著，用抗蝕劑剝離液剝離第一抗蝕劑層16，使遮光性導(dǎo)電膜I暴露，然后在所暴露的遮光性導(dǎo)電膜I的整個(gè)面上形成添加了防銹劑的第二抗蝕劑層18 (參照?qǐng)D6 (d))，然后放置掩模12，并進(jìn)行曝光(參照?qǐng)D6 (e))和顯像，由此將第二抗蝕劑層18圖案化(參照?qǐng)D 6 (f))。另外，圖6 (e)所示的掩模12的位置表示第一抗蝕劑層16為負(fù)型的(如果被曝光則相對(duì)于顯像液溶解性低，顯像后曝光部分殘留)情況。
接著，用酸性化的過(guò)氧化氫水等特殊蝕刻液進(jìn)行蝕刻，并通過(guò)只去除沒(méi)有層壓被圖案化的第二抗蝕劑層18的部分的遮光性導(dǎo)電膜1，在襯底薄片兩面的中央窗部24和外側(cè)邊緣部22內(nèi)的端子部25上分別使透明導(dǎo)電膜3暴露，不剝離第二抗蝕劑層18而使其作為防銹層殘留(參照?qǐng)D5)。由于第二抗蝕劑層18起到防銹層的作用，因此產(chǎn)品完成后即使從外部侵入腐蝕性的液體或者處于高溫高濕的環(huán)境中，布線電路不會(huì)發(fā)生腐蝕，能夠保持電學(xué)特性。另外，針對(duì)在圖4中形成在襯底薄片(樹(shù)脂薄片7)表面的細(xì)微布線電路圖案10，將遮光性導(dǎo)電膜I的層壓部分繪成黑色，透明導(dǎo)電膜3的暴露部分繪成白色，并且使黑色部分的兩端與中央窗部24的境界24a和端子部25的境界25a —致。
另外，如果透明導(dǎo)電膜3為非晶質(zhì)材料，則優(yōu)選的是在該蝕刻之前通過(guò)熱處理等方法進(jìn)行晶質(zhì)化。通過(guò)晶質(zhì)化提高耐蝕刻性，能夠更加容易地只對(duì)遮光性金屬膜I進(jìn)行蝕刻。
通過(guò)以上方法得到的窄邊框觸摸輸入薄片5的兩面上形成的細(xì)微布線電路圖案 10的端部分別與搭載有IC芯片的外部電路28在端子部25連接，則可以制造出夾住襯底薄片7而在其兩面上形成透明導(dǎo)電膜3的靜電容量式觸摸傳感器20。
在這里，關(guān)于靜電容量式觸摸傳感器20的中央窗部24上形成的電極圖案9進(jìn)行補(bǔ)充說(shuō)明。
該電極圖案9在內(nèi)表面和外表面上其圖案不同。例如，如圖10所示，襯底薄片7 (樹(shù)脂薄片7)的內(nèi)表面包括俯視時(shí)具有菱形形狀的菱形電極46和將多個(gè)菱形電極46在圖中縱向(Y方向)連貫的連接布線469。多個(gè)菱形電極46和連接布線469相互電連接。另外， 由這樣的連接布線469及與其連貫的多個(gè)菱形電極46組成一組，并該一組沿著圖中橫向(X 方向)重復(fù)排列。另一方面，同樣的原理，襯底薄片7 (樹(shù)脂薄片7)的外表面中包括多個(gè)菱形電極47和將這些電極連貫的連接布線479。但是，這時(shí)連接布線479的延伸方向與連接布線469的延伸方向不同，是圖中的橫向(X方向)。另外，與之伴隨，由連接布線479及與其連貫的多個(gè)菱形電極47組成的一組重復(fù)排列的方向?yàn)閳D中所示的縱向(Y方向)。而且， 從圖10中清楚地看到，一方面菱形電極46以填補(bǔ)多個(gè)連接布線479之間間隙的方式配置， 另一方面菱形電極47以填補(bǔ)多個(gè)連接布線469之間間隙的方式配置。從圖10中還可以看到，菱形電極46和菱形電極47的配置關(guān)系是互補(bǔ)的關(guān)系。也就是，多個(gè)菱形電極47以填補(bǔ)將菱形電極46以矩陣形狀排列時(shí)產(chǎn)生的菱形形狀間隙的方式排列。如前面所述，本發(fā)明中由于遮光性導(dǎo)電膜I阻斷相反一側(cè)面的曝光光線14，因此即使同時(shí)曝光，也不會(huì)對(duì)相反一側(cè)的第一抗蝕劑層16圖案產(chǎn)生影響，在這樣的內(nèi)外表面上能夠形成圖案不同的電路圖案。
如此地，由于X方向電極及Y方向電極在俯視時(shí)以格子狀配置，因此如果使用者用手指等接觸該格子上的任一個(gè)位置(例如，虛線圓圈表示的FR位置)，則該手指等與所接觸的X方向電極之間形成電容器，另外，該手指等與所接觸的Y方向電極之間也形成電容器。 通過(guò)該電容器的形成，該X方向電極及Y方向電極的靜電容量增大。外部電路28的位置檢測(cè)部檢測(cè)此時(shí)產(chǎn)生的靜電容量的變化量，或者進(jìn)一步檢測(cè)具有最大靜電容量的X方向電極及Y方向電極，由此可以將具體接觸到中央窗部24內(nèi)的哪個(gè)位置的情況作為特定值即X坐標(biāo)值和Y坐標(biāo)值的組來(lái)得到。
接著，詳細(xì)說(shuō)明形成上述第三實(shí)施方式的窄邊框觸摸輸入薄片5的各層。
首先，襯底薄片由厚度為30 μ πΓ2000 μ m程度的透明薄片構(gòu)成，作為材質(zhì)可以舉出聚酯類樹(shù)脂、聚苯乙烯類樹(shù)脂、烯烴類樹(shù)脂、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯類樹(shù)脂、聚碳酸酯類樹(shù)脂、丙烯類樹(shù)脂等樹(shù)脂薄片7。另外，在本發(fā)明中作為襯底薄片可以用玻璃材料。
可是，導(dǎo)電性薄片的襯底薄片為樹(shù)脂薄片時(shí)，存在膜伸展的問(wèn)題。因此，導(dǎo)電性薄片兩面的第一抗蝕劑層16的圖案形成，比較適合的是通過(guò)兩面同時(shí)曝光而成的圖案法。理由是，在將第一抗蝕劑層16的圖案形成以一面一面地進(jìn)行曝光時(shí)，一面的圖案形成結(jié)束后，如果將導(dǎo)電性薄片的內(nèi)外表面調(diào)換后再安裝在曝光裝置時(shí)襯底薄片發(fā)生伸展，則外表面電路圖案和內(nèi)表面電路圖案的位置會(huì)發(fā)生偏差。如圖10中所不的例子，由于菱形電極46 和菱形電極47的配置關(guān)系是互補(bǔ)的關(guān)系，因此如果外表面電路圖案和內(nèi)表面電路圖案位置發(fā)生偏差，則無(wú)法作為靜電容量式觸摸傳感器20正常發(fā)揮其功能。
作為遮光性導(dǎo)電膜層1，可以舉出由導(dǎo)電率高且遮光性優(yōu)良的單一的金屬膜或那些金屬合金或化合物等構(gòu)成的層，并且可以通過(guò)真空沉積法、濺射法、離子電鍍法、鍍金法等方法形成。而且，必要的是存在一種蝕刻劑，它不會(huì)蝕刻透明導(dǎo)電膜，但會(huì)蝕刻遮光性導(dǎo)電膜層I。作為優(yōu)選的金屬例子，可以舉出鋁、鎳、銅、銀、錫等。特別是由銅箔構(gòu)成的厚度為 20nnTl000nm的金屬膜非常優(yōu)選，因?yàn)槠涑藢?dǎo)電性和遮光性優(yōu)良、容易在透明導(dǎo)電膜不被蝕刻的酸性環(huán)境中的過(guò)氧化氫水中蝕刻之外，還具有與外部電路容易連接的優(yōu)點(diǎn)。更優(yōu)選的是厚度為30nm以上的。再更優(yōu)選的是厚度為100nnT500nm的。通過(guò)將厚度設(shè)定為IOOnm 以上，由此可以得到具有高導(dǎo)電性的遮光性金屬膜層1，并通過(guò)將厚度設(shè)定為500nm以下， 由此可以得到便于操作且加工性優(yōu)良的遮光性金屬膜層I。
透明導(dǎo)電膜3可以舉出由銦錫氧化物、鋅氧化物等金屬氧化物構(gòu)成的層，并且可以通過(guò)真空沉積法、濺射法、離子電鍍法、鍍金法等方法形成。必要的是，形成厚度為數(shù)十nm 至數(shù)百nm程度，而且在氯化鐵等溶液中同遮光性導(dǎo)電膜I 一起容易被蝕刻，但是在酸性環(huán)境中的過(guò)氧化氫水等遮光性導(dǎo)電膜層I的蝕刻液中難以被蝕刻。而且，優(yōu)選的是光透射率為80%以上、表面電阻值為幾πιΩ至幾百Ω的。另外，作為透明導(dǎo)電膜3，還可以使用噻吩等導(dǎo)電性聚合物膜或者包含金屬納米線或碳納米管等的導(dǎo)電纖維膜，這種情況下，可以通過(guò)各種印刷法或涂飾等方法形成。
作為第一抗蝕劑層16，由通過(guò)高壓水銀燈、超高壓水銀燈、激光光線或者金屬鹵化物燈等曝光且能夠用堿性溶液等顯像的厚度為1(Γ20μπι的丙烯酸類光致抗蝕劑材料等構(gòu)成。通過(guò)光致抗蝕劑材料的曝光和顯像，能夠可靠地形成線寬度細(xì)的細(xì)微布線電路圖案10， 能夠制造邊框更窄的窄邊框觸摸輸入薄片5。第一抗蝕劑層16的形成方法，除了使用凹版印刷、絲網(wǎng)印刷、平版印刷等通用的印刷方法之外，還可以通過(guò)基于各種涂布機(jī)的方法、涂飾、浸潰等方法、干膜抗蝕劑法等各種方法整個(gè)面形成后，通過(guò)曝光和顯像形成圖案，其中更加優(yōu)選的是干膜抗蝕劑法。
干膜抗蝕劑法中使用的干膜抗蝕劑(DFR)是作為第一抗蝕劑層16的感光層被基膜和覆蓋膜夾在中間而形成的膜。上述的印刷法、涂布法、涂飾法等只能涂布一面存在效率低的問(wèn)題，但相比這些方法干膜抗蝕劑法是剝離覆蓋膜后將感光層用加熱滾輪粘結(jié)的方法，因此生產(chǎn)效率高，能夠滿足各種要求，因此成主流。另外，曝光是通常從基膜的上面配置掩模而進(jìn)行(未圖示)，而剝離基膜后進(jìn)行顯像。作為干膜抗蝕劑法的基膜可以使用由聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯等構(gòu)成的膜。另外，作為干膜抗蝕劑法的覆蓋膜可以使用由聚乙烯等構(gòu)成的膜。
作為第二抗蝕劑層18，優(yōu)選的是由前述的光致抗蝕劑材料上添加了防銹劑的層構(gòu)成。作為防銹劑可以使用已經(jīng)公知的作為防銹劑用的材料，具體而言，可以使用例如咪唑、 三唑、苯并三唑、苯并咪唑、苯并噻唑、吡唑等。另外，可以舉出這些鹵化物、烷基、苯基置換體等的單環(huán)或者多環(huán)式的唑類、苯胺等的芳香族胺類、烷基胺等的脂肪族胺、這些鹽等，并不局限于本發(fā)明記載的材料。第二抗蝕劑層18的形成方法除了通過(guò)凹版印刷、絲網(wǎng)印刷、 平版印刷等通用的印刷方法形成之外，還可以通過(guò)基于各種涂布機(jī)的方法、涂飾、浸潰等方法、干膜抗蝕劑法等各種方法整個(gè)面形成后，進(jìn)行曝光和顯像而形成圖案，其中更加優(yōu)選的是干膜抗蝕劑法。另外，沒(méi)有要求形成精密的圖案，因此不必通過(guò)光學(xué)處理，而只是通過(guò)印刷法直接形成圖案即可。
另外，在第二抗蝕劑層18上，可以設(shè)置用來(lái)隱藏細(xì)微布線電路圖案10且可提高外觀設(shè)計(jì)的圖案層。圖案層可以使用將聚乙烯類、聚酰胺類、聚丙烯類、聚氨酯類、醇酸類等樹(shù)脂作為黏合劑、將合適顏色的顏料或染料作為染色劑來(lái)所含有的染色油墨。另外，作為染色劑還可以使用鋁、鈦、青銅等金屬離子或云母上涂飾氧化鈦的珍珠顏料等。作為圖案層的形成方法有凹版印刷、絲網(wǎng)印刷、平版印刷等通用的印刷法或各種涂飾法、涂飾等方法。
以上，針對(duì)電路圖案和細(xì)微布線電路圖案形成在由一張樹(shù)脂薄片7構(gòu)成的透明的襯底薄片的外表面和內(nèi)表面上的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法的第二實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明并不局限于此。
例如，第二實(shí)施方式的由一張樹(shù)脂薄片7構(gòu)成的襯底薄片7可以用多張樹(shù)脂薄片 7、7層壓形成的透明的襯底薄片代替，并在其最外表面和最內(nèi)表面上形成透明導(dǎo)電膜3的電路圖案和細(xì)微布線電路圖案10 (參照第三實(shí)施方式的圖7)。
要想得到如第三實(shí)施方式的窄邊框觸摸輸入薄片，首先用厚度薄的兩張樹(shù)脂薄片7、7，在各樹(shù)脂薄片的一面上事先依次層壓形成透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜1，并將該兩張樹(shù)脂薄片7、7按照相對(duì)而置的方式層壓(圖8 (a))，然后在兩面上形成第一抗蝕劑層16 (參照?qǐng)D8 (b))?；蛘?，層壓樹(shù)脂薄片7、7之前，事先僅形成透明導(dǎo)電膜3，并將該兩張樹(shù)脂薄片7、7按照相對(duì)而置的方式層壓，然后在兩面上依次層壓形成遮光性導(dǎo)電膜I和第一抗蝕劑層16。另外，還可以是層壓樹(shù)脂薄片7、7后，在兩面上依次層壓形成透明導(dǎo)電膜3、遮光性導(dǎo)電膜I和第一抗蝕劑層16。另外，作為層壓樹(shù)脂薄片7的方法，可以舉出熱壓或者通過(guò)粘合劑層的干式層壓方法等。用粘合劑層層壓樹(shù)脂薄片7時(shí)，作為粘合劑層可以利用具有芯材的材料，以此來(lái)調(diào)整層壓體整體的厚度。另外，還可以是通過(guò)在最外表面和最內(nèi)表面的樹(shù)脂薄片7、7之間進(jìn)一步增加樹(shù)脂薄片來(lái)調(diào)整層壓體整體的厚度。
以下的工序與第二實(shí)施方式的工序相同。即，由層壓體構(gòu)成的透明的襯底薄片的最外表面和最內(nèi)表面上放置所需的圖案的掩模12，并通過(guò)曝光(參照?qǐng)D8 (c))和顯像圖案化形成第一抗蝕劑層16。
接著，用氯化鐵等蝕刻液同時(shí)對(duì)透明導(dǎo)電膜3及遮光性導(dǎo)電膜I同時(shí)進(jìn)行蝕刻，并通過(guò)去除沒(méi)有層壓被圖案化的第一抗蝕劑層16的部分的透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜1， 由此形成在襯底薄片兩面的中央窗部上分別無(wú)位置偏差地層壓透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I的電極圖案9，同時(shí)形成在襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別無(wú)位置偏差地層壓透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I的細(xì)微布線電路圖案10 (參照?qǐng)D8 (d))。
接著，用抗蝕劑剝離液剝離第一抗蝕劑層16而使遮光性導(dǎo)電膜I暴露，然后在所暴露的遮光性導(dǎo)電膜I上的整個(gè)面上形成添加了防銹劑的第二抗蝕劑層18(參照?qǐng)D8(e))， 然后放置掩模12，并通過(guò)曝光(參照?qǐng)D8 (f))和顯像圖案化形成第二抗蝕劑層18 (參照?qǐng)D 8 (g))。
接著，用酸性化的過(guò)氧化氫水等特殊蝕刻液進(jìn)行蝕刻，只去除沒(méi)有層壓被圖案化的抗蝕劑層18的部分的遮光性導(dǎo)電膜1，從而襯底薄片兩面的中央窗部24和外側(cè)邊緣部 22內(nèi)的端子部25上分別使透明導(dǎo)電膜3暴露，通過(guò)第二抗蝕劑層18沒(méi)有被剝離而作為防銹層殘留，由此能夠得到如圖7所示的兩張樹(shù)脂薄片的層壓體作為襯底薄片的窄邊框觸摸輸入薄片。
〈第四實(shí)施方式〉
下面，參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的第四實(shí)施方式。圖11為說(shuō)明本發(fā)明的窄邊框觸摸輸入薄片的一個(gè)實(shí)施例的電極圖案以及細(xì)微布線電路圖案的圖。圖12為表不電極圖案以及細(xì)微布線電路圖案形成在由一張樹(shù)脂薄片構(gòu)成的透明襯底薄片的兩面上的窄邊框觸摸輸入薄片的例子的模式截面圖(從圖11所示的AA線的位置切割的縮減細(xì)微布線電路圖案數(shù)量的繪圖)，圖13 (a) (g)為表示其制造工序的模式截面圖。圖中，I是遮光性導(dǎo)電膜層，3是透明導(dǎo)電膜，5是窄邊框觸摸輸入薄片，7是樹(shù)脂薄片，9是電極圖案，10是細(xì)微布線電路圖案，12是掩模，14是曝光光線，16是第一抗蝕劑層，18是第二抗蝕劑層(兼作防銹層)，20是靜電容量式觸摸傳感器，22是窄邊框觸摸輸入薄片5的外側(cè)邊緣部，24是窄邊框觸摸輸入薄片5的中央窗部，28是外部電路，S是側(cè)面蝕刻部分。
本發(fā)明中得到的窄邊框觸摸輸入薄片5是如下的窄邊框觸摸輸入薄片在襯底薄片兩面的中央窗部24上形成僅由透明導(dǎo)電膜3構(gòu)成的電極圖案9，在外側(cè)邊緣部22上形成透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I依次層壓的細(xì)微布線電路圖案10 (參照?qǐng)D11)，其特征在于，該細(xì)微布線電路圖案10的透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I除了中央窗部和端子部的境界之外以相同的圖案無(wú)位置偏差地層壓形成。另外，形成有電極圖案9和細(xì)微布線電路圖案10的透明襯底薄片能夠由一張樹(shù)脂薄片7構(gòu)成(參照?qǐng)D12)。
這樣的將透明導(dǎo)電膜3的電路圖案和細(xì)微布線電路圖案10形成在兩面的窄邊框觸摸輸入薄片5的制造方法，首先在由一張樹(shù)脂薄片7構(gòu)成的透明的襯底薄片的內(nèi)表面和外表面的整個(gè)面上分別依次形成透明導(dǎo)電膜3、遮光性導(dǎo)電膜I、第一抗蝕劑層16而得到導(dǎo)電性薄片(參照?qǐng)D13 (a))，然后在內(nèi)表面和外表面上分別放置所需的圖案掩模12，然后通過(guò)曝光(參照?qǐng)D18 (b))和顯像將第一抗蝕劑層16進(jìn)行圖案化。此時(shí)，遮光性導(dǎo)電膜I阻斷相反一側(cè)的面的曝光光線14，因此即使同時(shí)用不同的掩模圖案進(jìn)行曝光，但也不會(huì)對(duì)相反一側(cè)的第一抗蝕劑層16的圖案產(chǎn)生影響。因此，由于能夠同時(shí)對(duì)兩面進(jìn)行曝光，因此第一抗蝕劑層16在內(nèi)外表面上容易對(duì)準(zhǔn)位置，可通過(guò)一次工序?qū)擅孢M(jìn)行圖案化，從而提高生產(chǎn)效率。另外，圖13 (b)所示的掩模12的位置表示如果第一抗蝕劑層16為“負(fù)型”(如果被曝光，則相對(duì)于顯像液的溶解性低，顯像后曝光部分殘留)的情況?！罢汀?如果被曝光，則相對(duì)于顯像液的溶解性增大，曝光部分被去除)情況下，被掩模遮光的部分相反。
另外，外表面掩模和內(nèi)表面掩模的定位可以利用兩面曝光裝置的公知的掩模定位方法。例如，外表面掩模和內(nèi)表面掩模上分別形成掩模用定位標(biāo)記，用照相機(jī)等光學(xué)讀取傳感器讀取一對(duì)掩模用定位標(biāo)記的重疊狀態(tài)，由此得到外表面掩模和內(nèi)表面掩模的相對(duì)位置信息。并且，根據(jù)所得到的位置信息，掩模位置調(diào)整裝置使外表面掩模和內(nèi)表面掩模相對(duì)移動(dòng)而使得一對(duì)掩模用定位標(biāo)記的中心重合，由此進(jìn)行外表面掩模和內(nèi)表面掩模的定位。
接著，用氯化鐵等蝕刻液對(duì)透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I同時(shí)進(jìn)行蝕刻，并去除沒(méi)有層壓被圖案化的第一抗蝕劑層16的部分的透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜1，由此形成在襯底薄片兩面的中央窗部上分別形成透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I無(wú)位置偏差地層壓的電極圖案9，同時(shí)在襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別形成透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I無(wú)位置偏差地層壓的細(xì)微布線電路圖案10 (參照?qǐng)D13 (C))。
接著，用抗蝕劑剝離液剝離第一抗蝕劑層16，使遮光性導(dǎo)電膜I暴露，然后在所暴露的遮光性導(dǎo)電膜I的整個(gè)面上形成添加了防銹劑的第二抗蝕劑層18 (參照?qǐng)D13 (d))， 然后放置掩模12，并進(jìn)行曝光(參照?qǐng)D13 Ce 和顯像，由此將第二抗蝕劑層18進(jìn)行圖案化(參照?qǐng)D13 (f))。另外，圖13 (e)所示的掩模12的位置表示第一抗蝕劑層16為負(fù)型的 (如果被曝光則相對(duì)于顯像液的溶解性低，顯像后曝光部分殘留)情況。
接著，用酸性化的過(guò)氧化氫水等特殊蝕刻液進(jìn)行蝕刻，并只去除沒(méi)有層壓被圖案化的第二抗蝕劑層18的部分的遮光性導(dǎo)電膜1，由此在襯底薄片兩面的中央窗部24和外側(cè)邊緣部22內(nèi)的端子部25上透明導(dǎo)電膜3被暴露，進(jìn)一步在所述中央窗部24和所述端子部 25的境界24a、25a中，對(duì)遮光性導(dǎo)電膜I暴露的端面稍微進(jìn)行側(cè)面蝕刻(圖中的S)，由此使第二抗蝕劑層18呈房檐結(jié)構(gòu)(參照?qǐng)D13 (g))。側(cè)面蝕刻的量?jī)?yōu)選的是例如2 μ m程度。
最后，通過(guò)熱處理軟化房檐結(jié)構(gòu)第二抗蝕劑層18，由此覆蓋所殘留的遮光性導(dǎo)電膜I的暴露的端面，并以該狀態(tài)不剝離第二抗蝕劑層18而作為防銹層殘留(參照?qǐng)D12)。第二抗蝕劑層18起到防銹層的功能，并且在中央窗部和端子部的境界中遮光性導(dǎo)電膜的端面沒(méi)有暴露，因此產(chǎn)品完成后即使從外部侵入腐蝕性的液體或者處于高溫高濕的環(huán)境中， 但布線電路的防腐蝕性很高，能夠保持電學(xué)特性。另外，在圖11中形成在襯底薄片(樹(shù)脂薄片7)表面的細(xì)微布線電路圖案10是，將遮光性導(dǎo)電膜I的層壓部分描繪成黑色，透明導(dǎo)電膜3的暴露部分描繪成白色，并且使黑色部分的兩端比同中央窗部24的境界24a和同端子部25的境界25a后退S分量。
另外，如果透明導(dǎo)電膜3為非晶質(zhì)材料，則優(yōu)選的是在進(jìn)行該蝕刻之前通過(guò)熱處理等方法進(jìn)行晶質(zhì)化。通過(guò)晶質(zhì)化耐蝕刻性提高，因此能夠更加容易地只對(duì)遮光性金屬膜 I進(jìn)行蝕刻。
通過(guò)以上方法得到的窄邊框觸摸輸入薄片5的兩面上形成的細(xì)微布線電路圖案 10的端部分別與搭載有IC芯片的外部電路28在端子部25連接，則可以制造出夾住襯底薄片而在其兩面上形成透明導(dǎo)電膜3的靜電容量式觸摸傳感器20。
接著，詳細(xì)說(shuō)明形成上述窄邊框觸摸輸入薄片5的各層。
首先，襯底薄片由厚度為3(Γ2000μπι程度的透明的薄片構(gòu)成，作為材質(zhì)可以舉出聚酯類樹(shù)脂、聚苯乙烯類樹(shù)脂、烯烴類樹(shù)脂、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯類樹(shù)脂、聚碳酸酯類樹(shù)脂、丙烯酸類樹(shù)脂等樹(shù)脂薄片7。另外，在本發(fā)明中作為襯底薄片還可以使用玻璃材料。
可是，導(dǎo)電性薄片的襯底薄片為樹(shù)脂薄片時(shí)，存在膜伸展的問(wèn)題。因此，導(dǎo)電性薄片兩面的第一抗蝕劑層16的圖案形成，比較適合的是通過(guò)兩面同時(shí)曝光而成的圖案法。理由是，在將第一抗蝕劑層16的圖案形成以一面一面地進(jìn)行曝光時(shí)，一面的圖案形成結(jié)束后，如果將導(dǎo)電性薄片的內(nèi)外表面調(diào)換后再安裝在曝光裝置時(shí)襯底薄片發(fā)生伸展，則外表面電路圖案和內(nèi)表面電路圖案的位置會(huì)發(fā)生偏差。如圖7中所示的例子，由于菱形電極46 和菱形電極47的配置關(guān)系是互補(bǔ)的關(guān)系，因此如果外表面電路圖案和內(nèi)表面電路圖案位置發(fā)生偏差，則無(wú)法作為靜電容量式觸摸傳感器20正常發(fā)揮其功能。
作為遮光性導(dǎo)電膜層1，可以舉出由導(dǎo)電率高且遮光性優(yōu)良的單一的金屬膜或那些金屬合金或化合物等構(gòu)成的層，并且可以通過(guò)真空沉積法、濺射法、離子電鍍法、鍍金法等方法形成。而且，必要的是存在一種蝕刻劑，它不會(huì)蝕刻透明導(dǎo)電膜，但會(huì)蝕刻遮光性導(dǎo)電膜層I。作為優(yōu)選的金屬例子，可以舉出鋁、鎳、銅、銀、錫等。特別是由銅箔構(gòu)成的厚度為 20nnTl000nm的金屬膜更優(yōu)選，因?yàn)槠涑藢?dǎo)電性和遮光性優(yōu)良、容易在透明導(dǎo)電膜不被蝕刻的酸性環(huán)境中的過(guò)氧化氫水中蝕刻之外，還具有與外部電路容易連接的優(yōu)點(diǎn)。更優(yōu)選的是厚度為30nm以上的。再更優(yōu)選的是厚度為100nnT500nm的。通過(guò)將厚度設(shè)定為IOOnm 以上，由此可以得到具有高導(dǎo)電性的遮光性金屬膜層1，并通過(guò)將厚度設(shè)定為500nm以下， 由此可以得到便于操作且加工性優(yōu)良的遮光性金屬膜層I。
透明導(dǎo)電膜3可以舉出由銦錫氧化物、鋅氧化物等金屬氧化物等構(gòu)成的層，并且可以通過(guò)真空沉積法、濺射法、離子電鍍法、鍍金法等方法形成。必要的是，形成厚度為數(shù)十 nm至數(shù)百nm程度，而且在氯化鐵等溶液中同遮光性導(dǎo)電膜I 一起容易被蝕刻，但是在酸性環(huán)境中的過(guò)氧化氫水等遮光性導(dǎo)電膜層I的蝕刻液中難以被蝕刻。而且，優(yōu)選的是光透射率為80%以上、表面電阻值為幾πιΩ至幾百Ω的。另外，作為透明導(dǎo)電膜3，還可以使用噻吩等導(dǎo)電性聚合物膜或者包含金屬納米線或碳納米管等的導(dǎo)電纖維膜，這種情況下，可以通過(guò)各種印刷法或涂飾等方法形成。
作為第一抗蝕劑層16，由通過(guò)高壓水銀燈、超高壓水銀燈、激光光線或者金屬鹵化物燈等曝光且能夠用堿性溶液等顯像的厚度為1(Γ20μ m的丙烯酸類光致抗蝕劑材料等構(gòu)成。通過(guò)光致抗蝕劑材料的曝光和顯像，能夠可靠地形成線寬度細(xì)的細(xì)微布線電路圖案 10，并能夠制造邊框更窄的窄邊框觸摸輸入薄片5。第一抗蝕劑層16的形成方法，除了使用凹版印刷、絲網(wǎng)印刷、平版印刷等通用的印刷方法之外，還可以通過(guò)基于各種涂布機(jī)的方法、涂飾、浸潰等方法、干膜抗蝕劑法等各種方法整個(gè)面形成后，通過(guò)曝光和顯像形成圖案， 其中更加優(yōu)選的是干膜抗蝕劑法。
在干膜抗蝕劑法中使用的干膜抗蝕劑(DFR)是作為第一抗蝕劑層16的感光層被基膜和覆蓋膜夾在中間而形成的膜。上述的印刷法、涂布法、涂飾法等只能涂布一面存在效率低的問(wèn)題，但相比這些方法干膜抗蝕劑法是剝離覆蓋膜后將感光層用加熱滾輪粘結(jié)的方法，因此生產(chǎn)效率高，能夠滿足各種要求，因此成主流。另外，曝光是通常從基膜的上面配置掩模而進(jìn)行(未圖示)，剝離基膜后進(jìn)行顯像。作為干膜抗蝕劑法的基膜可以使用由聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯等構(gòu)成的膜。另外，作為干膜抗蝕劑法的覆蓋膜可以使用由聚乙烯等構(gòu)成的膜。20
作為第二抗蝕劑層18，優(yōu)選的是與第一抗蝕劑層16相同的材料構(gòu)成，且厚度為2.5^10 μ m,更加優(yōu)選的是在厚度為2. 5飛μ m的光致抗蝕劑材料中添加了防銹劑的材料構(gòu)成。作為防銹劑可以使用已經(jīng)公知的作為防銹劑用的材料，具體而言，可以使用例如咪唑、 三唑、苯并三唑、苯并咪唑、苯并噻唑、吡唑等。另外，可以舉出這些鹵化物、烷基、苯基置換體等的單環(huán)或者多環(huán)式的唑類、苯胺等的芳香族胺類、烷基胺等的脂肪族胺、這些鹽等，并不局限于本發(fā)明記載的材料。第二抗蝕劑層18的形成方法除了使用凹版印刷、絲網(wǎng)印刷、 平版印刷等通用的印刷方法之外，還可以通過(guò)基于各種涂布機(jī)的方法、涂飾、浸潰等方法、 干膜抗蝕劑法等各種方法整個(gè)面形成后，通過(guò)曝光和顯像形成圖案，其中更加優(yōu)選的是干膜抗蝕劑法。另外，由于不要求形成精密的圖案，因此不必通過(guò)光學(xué)處理，而只是通過(guò)印刷法直接形成圖案即可。
另外，在第二抗蝕劑層18上，可以設(shè)置用來(lái)隱藏細(xì)微布線電路圖案10且可提高外觀設(shè)計(jì)的圖案層。圖案層可以使用將聚乙烯類、聚酰胺類、聚丙烯類、聚氨酯類、醇酸類等樹(shù)脂作為黏合劑、將合適顏色的顏料或染料作為染色劑來(lái)所含有的染色油墨。另外，作為染色劑還可以使用鋁、鈦、青銅等金屬離子或云母上涂飾氧化鈦的珍珠顏料等。作為圖案層的形成方法有凹版印刷、絲網(wǎng)印刷、平版印刷等通用的印刷法或各種涂布法、涂飾等方法。
以上，針對(duì)電路圖案和細(xì)微布線電路圖案形成在由一張樹(shù)脂薄片7構(gòu)成的透明的襯底薄片的外表面和內(nèi)表面上的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法的第二實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明并不局限于此。
例如，第四實(shí)施方式的由一張樹(shù)脂薄片7構(gòu)成的襯底薄片7可以用多張樹(shù)脂薄片7、7層壓形成的透明的襯底薄片來(lái)代替，并且在其最外表面和最內(nèi)表面上形成透明導(dǎo)電膜 3的電路圖案和細(xì)微布線電路圖案10 (參照第五實(shí)施方式的圖14)。
要想得到如第五實(shí)施方式的窄邊框觸摸輸入薄片，首先用厚度薄的兩張樹(shù)脂薄片7、7，在各樹(shù)脂薄片的一面上事先依次層壓形成透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜1，并將該兩張樹(shù)脂薄片7、7按照相對(duì)而置的方式層壓(圖15 (a))，然后在兩面上形成第一抗蝕劑層16 (參照?qǐng)D15 (b))?；蛘撸瑢訅簶?shù)脂薄片7、7之前，事先僅形成透明導(dǎo)電膜3，并將該兩張樹(shù)脂薄片7、7按照相對(duì)而置的方式層壓，然后在兩面上依次層壓形成遮光性導(dǎo)電膜I和第一抗蝕劑層16。另外，還可以是層壓樹(shù)脂薄片7、7后，在兩面上依次層壓形成透明導(dǎo)電膜3、 遮光性導(dǎo)電膜I和第一抗蝕劑層16。另外，作為層壓樹(shù)脂薄片7的方法，可以舉出熱壓或者通過(guò)粘合劑層的干式層壓方法等。用粘合劑層層壓樹(shù)脂薄片7時(shí)，作為粘合劑層還可以利用具有芯材的材料，以此來(lái)調(diào)整層壓體整體的厚度。另外，還可以是通過(guò)在最外表面和最內(nèi)表面的樹(shù)脂薄片7、7之間進(jìn)一步增加樹(shù)脂薄片來(lái)調(diào)整層壓體整體的厚度。
以下的工序與第四實(shí)施方式的工序相同。S卩，由層壓體構(gòu)成的透明的襯底薄片的最外表面和最內(nèi)表面上放置所需的圖案的掩模12，并通過(guò)曝光(參照?qǐng)D15 (c))和顯像圖案化形成第一抗蝕劑層16。
接著，用氯化鐵等蝕刻液同時(shí)對(duì)透明導(dǎo)電膜3及遮光性導(dǎo)電膜I同時(shí)進(jìn)行蝕刻，并通過(guò)去除沒(méi)有層壓被圖案化的第一抗蝕劑層16的部分的透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜1， 形成在襯底薄片兩面的中央窗部上分別無(wú)位置偏差地層壓透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I 的電極圖案9，同時(shí)形成在襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別無(wú)位置偏差地層壓透明導(dǎo)電膜3和遮光性導(dǎo)電膜I的細(xì)微布線電路圖案10 (參照?qǐng)D15 (d))。
接著，用抗蝕劑剝離液剝離第一抗蝕劑層16而使遮光性導(dǎo)電膜I暴露，然后在所暴露的遮光性導(dǎo)電膜I上的整個(gè)面上形成添加了防銹劑的第二抗蝕劑層18 (參照?qǐng)D15 (e))，然后放置掩模12，并通過(guò)曝光(參照?qǐng)D15 Cf 和顯像圖案化形成第二抗蝕劑層18 (參照?qǐng)D15 (g))。
接著，用酸性化的過(guò)氧化氫水等特殊蝕刻液進(jìn)行蝕刻，并只去除沒(méi)有層壓被圖案化的第二抗蝕劑層18的部分的遮光性導(dǎo)電膜1，由此在襯底薄片兩面的中央窗部24和外側(cè)邊緣部22內(nèi)的端子部25上使透明導(dǎo)電膜3暴露，進(jìn)一步在同所述中央窗部24和所述端子部25的境界24a、25a中，對(duì)遮光性導(dǎo)電膜I的暴露的端面進(jìn)行側(cè)面蝕刻(圖中的S)，由此使第二抗蝕劑層18呈房檐結(jié)構(gòu)(參照?qǐng)D15 (h))
最后，通過(guò)熱處理軟化房檐結(jié)構(gòu)第二抗蝕劑層18，由此覆蓋所殘留的遮光性導(dǎo)電膜I的暴露的端面，并以該狀態(tài)不剝離第二抗蝕劑層18而作為防銹層殘留(參照?qǐng)D12)，由此得到如圖14所示的將兩張樹(shù)脂薄片層壓體作為襯底薄片的窄邊框觸摸輸入薄片。
<第六實(shí)施方式>
下面，參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明。圖16為說(shuō)明本發(fā)明的觸摸輸入薄片的一個(gè)實(shí)施例的電極圖案以及細(xì)微布線電路圖案的圖。圖17為表示電極圖案以及細(xì)微布線電路圖案形成在由一張樹(shù)脂薄片構(gòu)成的透明襯底薄片的兩面上的窄邊框觸摸輸入薄片的例子的模式截面圖。圖18為表示將圖17的觸摸輸入薄片的端子部附近A的部分放大截面圖。圖19 (βΓ (k)為表示圖17觸摸輸入薄片的制造工序的截面圖。圖中，501是觸摸輸入薄片、506 是樹(shù)脂薄片、507是中央窗部、508是外側(cè)邊緣部、509是透明導(dǎo)電膜、510是電極圖案、511是細(xì)微布線電路圖案、512是遮光性導(dǎo)電膜、513是端子部、514是防銹功能膜、516是第一光致抗蝕劑層、517是掩模、518是第二光致抗蝕劑層、519是掩模、528是第三光致抗蝕劑層、529 是掩模、532是曝光光線。
圖16和圖17所示的觸摸輸入薄片501是如下的觸摸輸入薄片在襯底薄片兩面的中央窗部507上形成僅由透明導(dǎo)電膜509構(gòu)成的電極圖案510，在外側(cè)邊緣部508上形成透明導(dǎo)電膜509和遮光性導(dǎo)電膜512依次層壓的細(xì)微布線電路圖案511 (參照?qǐng)D11)，其特征在于，該細(xì)微布線電路圖案511的透明導(dǎo)電膜509和遮光性導(dǎo)電膜512以相同的圖案無(wú)位置偏差地層壓形成。
將這樣的透明導(dǎo)電膜509的電極圖案510和細(xì)微布線電路圖案511形成在兩面的窄邊框觸摸輸入薄片501的制造方法，首先在由一張樹(shù)脂薄片506構(gòu)成的透明的襯底薄片的兩面的整個(gè)面上分別依次形成透明導(dǎo)電膜509、遮光性導(dǎo)電膜512、第一光致抗蝕劑層 516而得到導(dǎo)電性膜(參照?qǐng)D19 (a))，然后在內(nèi)表面和外表面上分別放置所需的圖案掩模 517，然后通過(guò)曝光(參照?qǐng)D19 (b))和顯像將第一光致抗蝕劑層516進(jìn)行圖案化。此時(shí)，遮光性導(dǎo)電膜I阻斷相反一側(cè)的面的曝光光線532，因此即使同時(shí)用不同的掩模圖案進(jìn)行曝光，但不會(huì)對(duì)相反一側(cè)的第一光致抗蝕劑層516的圖案產(chǎn)生影響。因此，由于能夠同時(shí)對(duì)兩面進(jìn)行曝光，因此第一光致抗蝕劑層516的內(nèi)外表面的位置容易對(duì)準(zhǔn)，可通過(guò)一次工序?qū)擅孢M(jìn)行圖案化，從而提高生產(chǎn)效率。另外，圖19 (b)所示的掩模517的位置表示如果第一光致抗蝕劑層516為“負(fù)型”(如果被曝光，則相對(duì)于顯像液的溶解性低，顯像后曝光部分殘留)的情況。“正型”(如果被曝光，則相對(duì)于顯像液的溶解性增大，曝光部分被去除)時(shí)被掩模遮光的部分相反。
接著，用氯化鐵等蝕刻液對(duì)透明導(dǎo)電膜509和遮光性導(dǎo)電膜512同時(shí)進(jìn)行蝕刻，并去除沒(méi)有層壓被圖案化的第一光致抗蝕劑層516的部分的透明導(dǎo)電膜509和遮光性導(dǎo)電膜 512，由此形成在樹(shù)脂薄片506兩面的中央窗部507上分別形成透明導(dǎo)電膜509和遮光性導(dǎo)電膜516無(wú)位置偏差地層壓的電極圖案510，同時(shí)在襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部508上分別形成透明導(dǎo)電膜509和遮光性導(dǎo)電膜512無(wú)位置偏差地層壓的細(xì)微布線電路圖案511 (參照?qǐng)D 19 (C))。
可是，樹(shù)脂薄片506存在伸展的問(wèn)題。因此，導(dǎo)電性膜6兩面的第一光致抗蝕劑層 516的圖案形成比較適合的是通過(guò)兩面同時(shí)曝光而成的圖案法。理由是，在將第一光致抗蝕劑層516的圖案形成以一面一面地進(jìn)行曝光時(shí)，如果一面的圖案形成結(jié)束后，將導(dǎo)電性薄片的內(nèi)外表面調(diào)換后再安裝在曝光裝置時(shí)襯底薄片發(fā)生伸展，則外表面電路圖案和內(nèi)表面電路圖案的位置會(huì)發(fā)生偏差。如圖19和圖5中所示的例子，由于菱形電極46和菱形電極 47的配置關(guān)系是互補(bǔ)的關(guān)系，因此如果外表面電路圖案和內(nèi)表面電路圖案位置發(fā)生偏差， 則無(wú)法作為靜電容量式觸摸傳感器正常發(fā)揮其功能。
在本發(fā)明中，曝光時(shí)遮光性導(dǎo)電膜512阻斷相反一側(cè)的面的曝光光線532，因此即使同時(shí)用不同的掩模圖案進(jìn)行曝光，也不會(huì)對(duì)相反一側(cè)的第一光致抗蝕劑層516的圖案產(chǎn)生影響。因此，由于能夠同時(shí)對(duì)兩面進(jìn)行曝光，因此第一光致抗蝕劑層516的內(nèi)外表面的位置容易對(duì)準(zhǔn)，可通過(guò)一次工序?qū)擅孢M(jìn)行圖案化，從而提高生產(chǎn)效率。
另外，外表面掩模和內(nèi)表面掩模的定位可以利用兩面曝光裝置的公知的掩模定位方法。例如，該方法是在外表面掩模和內(nèi)表面掩模上分別形成掩模用定位標(biāo)記，并用照相機(jī)等光學(xué)讀取傳感器讀取一對(duì)掩模用定位標(biāo)記的重疊狀態(tài)，由此得到外表面掩模和內(nèi)表面掩模的相對(duì)位置信息。并且，根據(jù)所得到的位置信息，掩模位置調(diào)整裝置使外表面掩模和內(nèi)表面掩模相對(duì)移動(dòng)而使得一對(duì)掩模用定位標(biāo)記的中心重合，由此進(jìn)行外表面掩模和內(nèi)表面掩模的定位。
在前述的蝕刻后，用抗蝕劑剝離液剝離第一光致抗蝕劑層516，然后在形成電極圖案510和細(xì)微布線電路圖案511的面的整個(gè)面形成第二光致抗蝕劑層518(參照?qǐng)D19(d))， 然后放置掩模519，并進(jìn)行曝光(參照?qǐng)D19 (e))和顯像，由此將第二光致抗蝕劑層518進(jìn)行圖案化(參照?qǐng)D19 (f))。另外，圖19 (e)所示的掩模519的位置表示第二光致抗蝕劑層 518為負(fù)型的(如果被曝光則相對(duì)于顯像液的溶解性低，顯像后曝光部分殘留)情況。
接著，用酸性化的過(guò)氧化氫水等特殊蝕刻液進(jìn)行蝕刻，并只去除沒(méi)有層壓被圖案化的第二光致抗蝕劑層518的部分的遮光性導(dǎo)電膜9，由此在襯底薄片兩面的中央窗部507 和外側(cè)邊緣部508內(nèi)的端子部513上使透明導(dǎo)電膜39暴露(參照?qǐng)D19(g))。
另外，如果透明導(dǎo)電膜509為非晶質(zhì)材料，則優(yōu)選的是在進(jìn)行該蝕刻之前通過(guò)熱處理等方法進(jìn)行晶質(zhì)化。通過(guò)晶質(zhì)化耐蝕刻性提高，因此能夠更加容易地只對(duì)遮光性金屬膜12進(jìn)行蝕刻。
接著，用抗蝕劑剝離液剝離第二光致抗蝕劑層518而使遮光性導(dǎo)電膜9暴露(參照?qǐng)D19 (h))，然后以覆蓋所暴露的遮光性導(dǎo)電膜9的方式形成防銹功能膜514 (參照?qǐng)D19 (k))。因此，細(xì)微布線電路圖案511除了端子部513之外透明導(dǎo)電膜509和遮光性導(dǎo)電膜 512的兩層結(jié)構(gòu)被防銹功能膜514覆蓋，因此能夠長(zhǎng)時(shí)間保持低電阻，并且在端子部513中通過(guò)去除遮光性導(dǎo)電膜512可以保持與FPC540的電連接性。
在此更加詳細(xì)地說(shuō)明上述防銹，若沒(méi)有被防銹功能膜514覆蓋，則存在如下問(wèn)題 產(chǎn)品完成后從外部侵入腐蝕性液體，例如汗液或者鹽水等液體，或者在高溫高濕的環(huán)境條件下細(xì)微布線電路圖案511的遮光性導(dǎo)電膜512會(huì)發(fā)生腐蝕而電學(xué)特性變差。對(duì)此，像本發(fā)明一樣，如果被防銹功能膜514覆蓋，則即使產(chǎn)品完成后從外部侵入腐蝕性液體，或者處在高溫高濕等環(huán)境條件下，但布線電路上也不會(huì)發(fā)生腐蝕，能夠保持電學(xué)特性。因此，如靜電容量式觸摸傳感器等的觸摸輸入薄片一樣，也充分適用于布線電路必須是細(xì)線且要長(zhǎng)時(shí)間保持低電阻的用途。另外，關(guān)于端子部513，如果被防銹功能膜514覆蓋，則無(wú)法與FPC540 導(dǎo)通，因此無(wú)法用防銹功能膜514覆蓋，因此沒(méi)有覆蓋的狀態(tài)下端子部513的遮光性導(dǎo)電膜被腐蝕(參照?qǐng)D20)。因此，需要從與FPC540連接的上面設(shè)置敷形涂層560(參照?qǐng)D21)，這些部分就要花費(fèi)工夫和需要材料，因此制造成本上升。但是，本發(fā)明的情況，利用去除電極圖案的遮光性導(dǎo)電膜512的工序的蝕刻來(lái)去除端子部513的遮光性導(dǎo)電膜512，暴露耐腐蝕的透明導(dǎo)電膜509，因此不僅制造成本不上升，而且還能夠起到端子部513的防銹。
另外，作為防銹功能膜514的形成方法，可以采用通過(guò)光學(xué)處理的形成方法。即， 用抗蝕劑剝離液剝離第二光致抗蝕劑層518，暴露遮光性導(dǎo)電膜9 (參照?qǐng)D19 (h))，然后在形成電極圖案510和細(xì)微布線電路圖案511的面的整個(gè)面上形成第三光致抗蝕劑層528 (參照?qǐng)D19 (i))，然后放置掩模529，并進(jìn)行曝光(參照?qǐng)D19 (j))和顯像，由此將第三光致抗蝕劑層528按照覆蓋遮光性導(dǎo)電膜9的方式進(jìn)行圖案化，并將其作為防銹功能膜514(參照?qǐng)D19 (k))。另外，圖19 (j)所示的掩模529的位置表示第三光致抗蝕劑層528為負(fù)型的(如果被曝光則相對(duì)于顯像液的溶解性低，顯像后曝光部分殘留)情況。
另外，作為防銹功能膜514的形成方法還可以用印刷法。即，用抗蝕劑剝離液剝離第二光致抗蝕劑層518，曝光遮光性導(dǎo)電膜9 (參照?qǐng)D19 (h))，然后按照覆蓋所暴露的遮光性導(dǎo)電膜9的方式印刷防銹功能膜514 (參照?qǐng)D19 (k))。
在通過(guò)以上方法得到的觸摸輸入薄片501的兩面上形成的細(xì)微布線電路圖案511 的端部分別與FPC540在端子部513連接時(shí)，可以制造出夾住樹(shù)脂薄片506而在其兩面上形成由透明導(dǎo)電膜509構(gòu)成的電極圖案510的靜電容量式觸摸傳感器20。
接著，詳細(xì)說(shuō)明形成上述觸摸輸入薄片501的各層。
首先，襯底薄片由厚度為3(Γ2000μπι程度的透明的薄片構(gòu)成，作為材質(zhì)可以舉出聚酯類樹(shù)脂、聚苯乙烯類樹(shù)脂、烯烴類樹(shù)脂、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯類樹(shù)脂、聚碳酸酯類樹(shù)脂、丙烯酸類樹(shù)脂等樹(shù)脂薄片506。
透明導(dǎo)電膜509可以舉出由銦錫氧化物、鋅氧化物等金屬氧化物等構(gòu)成的層，并且可以通過(guò)真空沉積法、濺射法、離子電鍍法、鍍金法等方法形成。必要的是，形成厚度為數(shù)十nm至數(shù)百nm程度，而且在氯化鐵等溶液中同遮光性導(dǎo)電膜512 —起容易被蝕刻，但是在酸性環(huán)境中的過(guò)氧化氫水等遮光性導(dǎo)電膜512的蝕刻液中難以被蝕刻。而且，優(yōu)選的是光透射率為80%以上、表面電阻值為幾πιΩ至幾百Ω的。另外，作為透明導(dǎo)電膜509，還可以使用噻吩等導(dǎo)電性聚合物膜或者包含金屬納米線或碳納米管等的導(dǎo)電纖維膜，這種情況下，可以通過(guò)各種印刷法或涂飾等方法形成。
作為遮光性導(dǎo)電膜512，可以舉出由導(dǎo)電率高且遮光性優(yōu)良的單一的金屬膜或那些金屬合金或化合物等構(gòu)成的層，并且可以通過(guò)真空沉積法、濺射法、離子電鍍法、鍍金法等方法形成。而且，必要的是存在一種蝕刻劑，它不會(huì)蝕刻透明導(dǎo)電膜509，但會(huì)蝕刻遮光性24導(dǎo)電膜512。作為優(yōu)選的金屬例子，可以舉出鋁、鎳、銅、銀、錫等。特別是由銅箔構(gòu)成的厚度為20nnTl000nm的金屬膜更優(yōu)選，因?yàn)槠涑藢?dǎo)電性和遮光性優(yōu)良、容易在透明導(dǎo)電膜509 不被蝕刻的酸性環(huán)境中的過(guò)氧化氫水中蝕刻之外，還具有與FPC540容易連接的優(yōu)點(diǎn)。更優(yōu)選的是厚度為30nm以上的。再更優(yōu)選的是厚度為100nnT500nm的。通過(guò)將厚度設(shè)定為 IOOnm以上，由此可以得到具有高導(dǎo)電性的遮光性金屬膜512，并通過(guò)將厚度設(shè)定為500nm 以下，由此可以得到便于操作且加工性優(yōu)良的遮光性金屬膜512。
作為第一光致抗蝕劑層516，由通過(guò)高壓水銀燈、超高壓水銀燈、激光光線或者金屬鹵化物燈等曝光且能夠用堿性溶液等顯像的厚度為1(Γ20μπι的丙烯酸類光致抗蝕劑材料等構(gòu)成。通過(guò)光致抗蝕劑材料的曝光和顯像，能夠可靠地形成線寬度細(xì)的細(xì)微布線電路圖案511，并能夠制造邊框更窄的窄邊框觸摸輸入薄片501。第一光致抗蝕劑層516的形成方法除了使用凹版印刷、絲網(wǎng)印刷、平版印刷等通用的印刷方法之外，還可以通過(guò)基于各種涂布機(jī)的方法、涂飾、浸潰等方法、干膜抗蝕劑法等各種方法整個(gè)面形成后，通過(guò)曝光和顯像形成圖案，其中更加優(yōu)選的是干膜抗蝕劑法。
在干膜抗蝕劑法中使用的干膜抗蝕劑(DFR)是作為第一光致抗蝕劑層516的感光層被基膜和覆蓋膜夾在中間而形成的膜。上述的印刷法、涂布法、涂飾法等只能涂布一面存在效率低的問(wèn)題，但相比這些方法干膜抗蝕劑法是剝離覆蓋膜后將感光層用加熱滾輪粘結(jié)的方法，因此生產(chǎn)效率高，能夠滿足各種要求，因此成主流。另外，曝光是通常從基膜的上面配置掩模而進(jìn)行(未圖示)，剝離基膜后進(jìn)行顯像。作為干膜抗蝕劑法的基膜可以使用由聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯等構(gòu)成的膜。另外，作為干膜抗蝕劑法的覆蓋膜可以使用由聚乙烯等構(gòu)成的膜。
第二光致抗蝕劑層518的材料和形成方法可以與第一光致抗蝕劑層516的材料和形成方法相同。
當(dāng)防銹功能膜514通過(guò)光學(xué)處理時(shí)，在與第一光致抗蝕劑層516相同的光致抗蝕劑材料中添加防銹劑的材料作為第三光致抗蝕劑層528使用，或者可以將前述的光致抗蝕劑材料中防銹性優(yōu)良的材料作為第三光致抗蝕劑層528使用。另外，第三光致抗蝕劑層528 的形成方法可以與第一光致抗蝕劑層516相同的形成方法。另外，當(dāng)防銹功能膜514通過(guò)印刷法形成時(shí)，可以使用包含防銹劑的油墨來(lái)形成。作為防銹劑可以使用已經(jīng)作為防銹劑公知的材料，具體而言，可以舉出，如咪唑、三唑、苯并三唑、苯并咪唑、苯并噻唑、吡唑等。另外，可以舉出這些鹵化物、烷基、苯基置換體等的單環(huán)或者多環(huán)式的唑類、苯胺等的芳香族胺類、烷基胺等的脂肪族胺、這些鹽等，并不局限于本發(fā)明記載的材料。
以上，說(shuō)明了觸摸輸入薄片的一個(gè)實(shí)施例，但本發(fā)明并不局限于此。例如，襯底薄片并不局限于由如圖所示的單層樹(shù)脂薄片506構(gòu)成，還可以將多張樹(shù)脂薄片506重疊而將層壓體作為襯底薄片。此時(shí)，作為樹(shù)脂薄片506的層壓方法可以舉出熱壓或者通過(guò)粘結(jié)劑層的干式層壓方法等。通過(guò)粘結(jié)劑層來(lái)層壓樹(shù)脂薄片506時(shí)，可以利用具有芯材的粘結(jié)劑層來(lái)調(diào)整層壓體整體厚度。另外，樹(shù)脂薄片506的層壓還可以在于樹(shù)脂薄片506上形成透明導(dǎo)電膜509后，或者遮光性導(dǎo)電膜512的層壓后，或者第一光致抗蝕劑層516的層壓后進(jìn)行。
《實(shí)施例I》
作為襯底薄片使用厚度為100 μ m的無(wú)色透明聚酯膜，并在其內(nèi)外表面上作為透明導(dǎo)電膜通過(guò)濺射法形成厚度為200nm的銦錫氧化物，然后在其上面作為遮光性導(dǎo)電膜通過(guò)濺射法形成厚度為300nm的銅膜，然后在其上面作為第一抗蝕劑層通過(guò)凹版涂布法形成酹醒清漆樹(shù)脂，并在外表面一側(cè)上放置由X方向電極圖案構(gòu)成的掩模，在內(nèi)表面一側(cè)上放置由Y方向電極圖案構(gòu)成的掩模，并通過(guò)金屬鹵化物燈將內(nèi)外表面同時(shí)曝光，并將其浸泡在堿性溶液中進(jìn)行了顯像。
接著，用氯化鐵蝕刻液同時(shí)對(duì)銦錫氧化物膜和銅膜進(jìn)行了蝕刻，此時(shí)在中央窗部的外表面上暴露形成X方向電極圖案、內(nèi)表面上暴露形成Y方向的電極圖案，在圍繞該中央窗部的外側(cè)邊緣部的內(nèi)外表面兩面上暴露形成平均線寬度為20μπι的細(xì)微布線圖案。然后，作為第二抗蝕劑層以覆蓋這些細(xì)微布線圖案的方式通過(guò)絲網(wǎng)印刷法形成厚度為IOym 的熱固化型丙烯酸樹(shù)脂層。然后，將其浸泡在酸性環(huán)境中的過(guò)氧化氫水中時(shí)，暴露的中央窗部的暴露的銅膜被蝕刻去除掉，僅剩下形成在該銅膜下面的銦錫氧化物膜。
接著，作為防銹層以覆蓋形成在兩面上的中央窗部的透明電極圖案及外側(cè)邊緣部的熱固化型丙烯酸樹(shù)脂層的方式通過(guò)絲網(wǎng)印刷法形成厚度為IOym的熱固化丙烯酸樹(shù)脂層。通過(guò)以上方法得到了如下的窄邊框觸摸輸入薄片在中央窗部?jī)H形成襯底薄片兩面上分別形成X方向的電極圖案、Y方向的電極圖案的銦錫氧化物膜，在各個(gè)外側(cè)邊緣部上形成在銦錫氧化物膜上形成相同圖案銅膜的細(xì)微布線電路，并以覆蓋細(xì)微布線電路的方式覆蓋有熱固化型丙烯酸樹(shù)脂層，并以覆蓋各個(gè)透明電極圖案及熱固化型丙烯酸樹(shù)脂層的方式覆蓋透光性防銹層。
將在所得到的窄邊框觸摸輸入薄片上形成的細(xì)微布線電路圖案的端部與搭載有 IC芯片的外部電路連接而對(duì)其進(jìn)行了評(píng)價(jià)，評(píng)價(jià)是否長(zhǎng)時(shí)間作為靜電容量式觸摸傳感器工作，此時(shí)得到了能夠保持穩(wěn)定的電學(xué)特性的結(jié)果。
《實(shí)施例2》
除了下述不同點(diǎn)外，通過(guò)與實(shí)施例I相同的方法得到了窄邊框觸摸輸入薄片。該不同點(diǎn)是，作為襯底薄片使用厚度為100 μ m的兩張無(wú)色透明的聚酯膜，并在各襯底薄片上分別依次形成透明導(dǎo)電膜、遮光性導(dǎo)電膜、第一抗蝕劑層，并通過(guò)將該兩張襯底薄片的沒(méi)有形成前述各層的面以相對(duì)而置的方式進(jìn)行層壓，由此在被層壓而成的襯底薄片兩面上分別形成透明導(dǎo)電膜、遮光性導(dǎo)電膜、第一抗蝕劑層。將在該窄邊框觸摸輸入薄片上形成的細(xì)微布線電路圖案的端部與搭載有IC芯片的外部電路連接而長(zhǎng)時(shí)間地針對(duì)是否作為靜電容量式觸摸傳感器工作進(jìn)行了評(píng)價(jià)，此時(shí)得到了能夠保持穩(wěn)定的電學(xué)特性的結(jié)果。
《實(shí)施例3》
除了防銹層以只覆蓋外側(cè)邊緣部的熱固化丙烯酸樹(shù)脂層的方式形成之外，通過(guò)與實(shí)施例I相同的方法得到了窄邊框觸摸輸入薄片。將在該窄邊框觸摸輸入薄片上形成的細(xì)微布線電路圖案的端部與搭載有IC芯片的外部電路連接而長(zhǎng)時(shí)間地針對(duì)是否作為靜電容量式觸摸傳感器工作進(jìn)行了評(píng)價(jià)，此時(shí)得到了與實(shí)施例I相比略微差但能夠保持穩(wěn)定的電學(xué)特性的結(jié)果。
《實(shí)施例4》
作為襯底薄片使用一張厚度為400 μ m的無(wú)色聚酯膜，并在其內(nèi)外表面上作為透明導(dǎo)電膜通過(guò)濺射法形成厚度為200nm的銦錫氧化物，然后在其上面作為遮光性導(dǎo)電膜通過(guò)濺射法形成厚度為500nm的銅膜，然后利用包括能夠用1%氫氧化鈉液進(jìn)行顯像的負(fù)型的丙烯酸類感光層的干膜抗蝕劑在整個(gè)面上形成厚度為IOnm的第一抗蝕劑層，并在外表面?zhèn)壬戏胖镁哂蠿方向電極圖案的掩模，在內(nèi)表面?zhèn)壬戏胖镁哂衁方向電極圖案的掩模，并通過(guò)金屬鹵化物燈將內(nèi)外表面同時(shí)曝光，并將其浸泡在1%氫氧化鈉液中進(jìn)行了顯像。
接著，用氯化鐵蝕刻液同時(shí)對(duì)沒(méi)有層壓被圖案化的第一抗蝕劑層的部分的銦錫氧化物膜和銅膜進(jìn)行了蝕刻，此時(shí)在襯底薄片的中央窗部的外表面上暴露形成X方向電極圖案、內(nèi)表面上暴露形成Y方向的電極圖案，在圍繞該中央窗部的外側(cè)邊緣部的內(nèi)外表面兩面上暴露形成平均線寬度為20 μ m的細(xì)微布線圖案。
接著，剝離第一抗蝕劑層后，利用包括能夠用1%氫氧化鈉液進(jìn)行顯像且作為防銹劑添加了苯并咪唑的負(fù)型的丙烯酸類感光層的干膜抗蝕劑在整個(gè)面上形成厚度為IOnm的第二抗蝕劑層，并在除了外表面?zhèn)群蛢?nèi)表面?zhèn)榷俗硬客獾耐鈧?cè)邊緣部上放置掩模，并通過(guò)金屬鹵化物燈同時(shí)曝光內(nèi)外表面兩個(gè)面，并將其浸泡在1%氫氧化鈉液中進(jìn)行了顯像。
接著，如果將其浸泡在酸性環(huán)境中的過(guò)氧化氫水中，暴露的中央窗部的暴露的銅膜被蝕刻去除掉，僅剩下形成在該銅膜下面的銦錫氧化物膜。之后第二抗蝕劑層也不被剝離而作為防銹層殘留。
《實(shí)施例5》
除了下述不同點(diǎn)外，通過(guò)與實(shí)施例4相同的方法得到了窄邊框觸摸輸入薄片。該不同點(diǎn)是作為襯底薄片使用將兩張厚度為200 μ m的無(wú)色聚酯膜層壓而成的層壓體，在各聚酯膜層壓之前事先在一面上形成透明導(dǎo)電膜、遮光性導(dǎo)電膜，在層壓聚酯膜后在兩面上分別形成第一抗蝕劑層。
《實(shí)施例6》
除了下述不同點(diǎn)外，通過(guò)與實(shí)施例4相同的方法得到了窄邊框觸摸輸入薄片。該不同點(diǎn)是作為襯底薄片使用將兩張厚度為200 μ m的無(wú)色聚酯膜層壓而成的層壓體，在各聚酯膜層壓之前事先在一面上僅形成透明導(dǎo)電膜，在層壓聚酯膜后兩面上分別形成遮光性導(dǎo)電膜和第一抗蝕劑層。
《實(shí)施例7》
除了下述不同點(diǎn)外，通過(guò)與實(shí)施例4相同的方法得到了窄邊框觸摸輸入薄片。
該不同點(diǎn)是，向第二抗蝕劑層添加的防銹劑用苯并三唑代替實(shí)施例4的苯并咪唑。
通過(guò)實(shí)施例4 7的方法得到了如下的窄邊框觸摸輸入薄片在中央窗部?jī)H形成襯底薄片兩面上分別形成X方向的電極圖案、Y方向的電極圖案的銦錫氧化物膜，在各個(gè)外側(cè)邊緣部上形成在銦錫氧化物膜上除了端子部之外形成銅膜的細(xì)微布線電路，并將該細(xì)微布線電路除了端子部之外用包含防銹劑的第二抗蝕劑層覆蓋。將窄邊框觸摸輸入薄片上形成的細(xì)微布線電路圖案的端部與搭載有IC芯片的外部電路連接而對(duì)其進(jìn)行了評(píng)價(jià)，評(píng)價(jià)是否作為靜電容量式觸摸傳感器工作，此時(shí)實(shí)施例1 4的任何一種情況都得到了良好的結(jié)果，而且產(chǎn)品完成后即使從外部侵入腐蝕性液體或者在高溫高濕等環(huán)境條件下，布線電路也不會(huì)發(fā)生腐蝕，能夠保持電學(xué)特性。
《實(shí)施例8》
作為襯底薄片使用一張厚度為400 μ m的無(wú)色聚酯膜，并在其內(nèi)外表面上作為透明導(dǎo)電膜通過(guò)濺射法形成厚度為200nm的銦錫氧化物，然后在其上面作為遮光性導(dǎo)電膜通過(guò)濺射法形成厚度為500nm的銅膜，然后利用包括能夠用1%氫氧化鈉液進(jìn)行顯像的負(fù)型的丙烯酸類感光層的干膜抗蝕劑在整個(gè)面上形成厚度為IOnm的第一抗蝕劑層，并在外表面?zhèn)壬戏胖镁哂蠿方向電極圖案的掩模，在內(nèi)表面?zhèn)壬戏胖镁哂衁方向電極圖案的掩模，并通過(guò)金屬鹵化物燈將內(nèi)外表面同時(shí)曝光，并將其浸泡在1%氫氧化鈉液中進(jìn)行了顯像。
接著，用氯化鐵蝕刻液同時(shí)對(duì)沒(méi)有層壓被圖案化的第一抗蝕劑層的部分的銦錫氧化物膜和銅膜進(jìn)行了蝕刻，此時(shí)在襯底薄片的中央窗部的外表面上暴露形成X方向電極圖案、內(nèi)表面上暴露形成Y方向的電極圖案，在圍繞該中央窗部的外側(cè)邊緣部的內(nèi)外表面兩面上暴露形成平均線寬度為20 μ m的細(xì)微布線圖案。
接著，剝離第一抗蝕劑層，然后利用包括能夠用1%氫氧化鈉液進(jìn)行顯像且作為防銹劑添加了苯并咪唑的負(fù)型的丙烯酸類感光層的干膜抗蝕劑在整個(gè)面上形成厚度為IOnm 的第二抗蝕劑層，并在除了外表面一側(cè)和內(nèi)表面一側(cè)的端子部的外側(cè)邊緣部上放置掩模， 并通過(guò)金屬鹵化物燈同時(shí)曝光內(nèi)外表面兩個(gè)面，并將其浸泡在1%氫氧化鈉液中進(jìn)行了顯像。
接著，在將其浸泡在酸性環(huán)境中的過(guò)氧化氫水中時(shí)，暴露的中央窗部的暴露的銅膜被蝕刻而去除掉，僅剩下形成在該銅膜下面的銦錫氧化物膜。在進(jìn)一步進(jìn)行蝕刻時(shí)，在中央窗部和端子部的境界中遮光性導(dǎo)電膜暴露的端面被側(cè)面蝕刻，從而第二抗蝕劑層呈房檐結(jié)構(gòu)。
最后，通過(guò)熱處理軟化房檐結(jié)構(gòu)的第二抗蝕劑層，由此覆蓋所殘留的遮光性導(dǎo)電膜的暴露的端面，并以該狀態(tài)不剝離第二抗蝕劑層而作為防銹層殘留。
《實(shí)施例9》
除了下述不同點(diǎn)外，通過(guò)與實(shí)施例8相同的方法得到了窄邊框觸摸輸入薄片。該不同點(diǎn)是，作為襯底薄片使用將兩張厚度為200 μ m的無(wú)色聚酯膜層壓而成的層壓體，在各聚酯膜層壓之前事先在一面上形成透明導(dǎo)電膜、遮光性導(dǎo)電膜，在層壓聚酯膜后在兩面上分別形成第一抗蝕劑層。
《實(shí)施例10》
除了下述不同點(diǎn)外，通過(guò)與實(shí)施例8相同的方法得到了窄邊框觸摸輸入薄片。該不同點(diǎn)是，作為襯底薄片使用將兩張厚度為200 μ m的無(wú)色聚酯膜層壓而成的層壓體，在各聚酯膜層壓之前事先在一面上僅形成透明導(dǎo)電膜，在層壓聚酯膜后兩面上分別形成遮光性導(dǎo)電膜和第一抗蝕劑層。
《實(shí)施例11》
除了將向第二抗蝕劑層添加的防銹劑用苯并三唑代替實(shí)施例8的苯并咪唑之外， 與實(shí)施例8相同的方法得到了窄邊框觸摸輸入薄片。
通過(guò)實(shí)施例8 11的方法得到了如下的窄邊框觸摸輸入薄片在中央窗部上僅形成襯底薄片兩面上分別形成X方向的電極圖案、Y方向的電極圖案的銦錫氧化物膜，在各個(gè)外側(cè)邊緣部上形成在銦錫氧化物膜上除了端子部和側(cè)面蝕刻部分之外形成銅膜的細(xì)微布線電路，并對(duì)該細(xì)微布線電路除了端子部之外用包含防銹劑的第二抗蝕劑層覆蓋。將該窄邊框觸摸輸入薄片上形成的細(xì)微布線電路圖案的端部與搭載有IC芯片的外部電路連接而對(duì)其進(jìn)行了評(píng)價(jià)，評(píng)價(jià)是否作為靜電容量式觸摸傳感器工作，此時(shí)實(shí)施例Γ4的任何一種情況都得到了良好的結(jié)果，而且產(chǎn)品完成后即使從外部侵入腐蝕性液體或者在高溫高濕等環(huán)境條件下，布線電路也不會(huì)發(fā)生腐蝕，能夠保持電學(xué)特性。
《實(shí)施例12》
將從滾輪卷繞排出的厚度為200 μ m的無(wú)色聚酯膜作為襯底薄片，并在該襯底薄片的一面上作為透明導(dǎo)電膜通過(guò)濺射法形成厚度為200nm的銦錫氧化物，然后在其上面作為遮光性導(dǎo)電膜通過(guò)濺射法形成厚度為500nm的銅膜，由此形成導(dǎo)電性薄膜。然后用透明粘合劑將一組導(dǎo)電性薄膜層壓，從而得到在其兩面上分別層壓透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜的層壓體，然后利用包括能夠用1%氫氧化鈉液進(jìn)行顯像的負(fù)型的丙烯酸類感光層的干膜抗蝕劑在前述層壓體的兩面上的整個(gè)面上分別形成厚度為IOnm的第一光致抗蝕劑層，并在外表面一側(cè)上放置具有X方向電極圖案的掩模，在內(nèi)表面一側(cè)上放置具有Y方向電極圖案的掩模，并通過(guò)金屬齒化物燈將內(nèi)外表面同時(shí)曝光，并將其浸泡在1%氫氧化鈉液中進(jìn)行了顯像。
接著，用氯化鐵蝕刻液同時(shí)對(duì)沒(méi)有層壓被圖案化的第一光致抗蝕劑層的部分的銦錫氧化物膜和銅膜進(jìn)行蝕刻而去除掉，此時(shí)在襯底薄片的中央窗部的外表面上暴露形成X 方向電極圖案、內(nèi)表面上暴露形成Y方向的電極圖案，在圍繞該中央窗部的外側(cè)邊緣部的內(nèi)外表面兩面上暴露形成平均線寬度為20 μ m的細(xì)微布線圖案。
接著，剝離第一光致抗蝕劑層，然后利用包括能夠用1%氫氧化鈉液進(jìn)行顯像的負(fù)型的丙烯酸類感光層的干膜抗蝕劑在兩面上的整個(gè)面上分別形成厚度為IOnm的第二光致抗蝕劑層，并在其上面除了外表面一側(cè)和內(nèi)表面一側(cè)的端子部的外側(cè)邊緣部上放置掩模， 并通過(guò)金屬鹵化物燈同時(shí)曝光內(nèi)外表面兩個(gè)面，并將其浸泡在1%氫氧化鈉液中進(jìn)行了顯像。
接著，在將其浸泡在酸性環(huán)境中的過(guò)氧化氫水中時(shí)，暴露的中央窗部的暴露的銅膜被蝕刻而去除掉，僅剩下形成在該銅膜下面的銦錫氧化物膜。
接著，剝離第二光致抗蝕劑層，然后利用包括能夠用1%氫氧化鈉液進(jìn)行顯像且作為防銹劑添加了苯并咪唑的負(fù)型的丙烯酸類感光層的干膜抗蝕劑在兩面上的整個(gè)面上分別形成厚度為IOnm的第三光致抗蝕劑層，并在其上面除了端子部的外側(cè)邊緣部上放置掩模，并通過(guò)金屬鹵化物燈同時(shí)曝光內(nèi)外表面兩個(gè)面，并將其浸泡在1%氫氧化鈉液中進(jìn)行了顯像，并將殘留的第三光致抗蝕劑層作為防銹功能層。
《實(shí)施例13》
除了將防銹功能層不通過(guò)光學(xué)處理而是通過(guò)利用防銹油墨的絲網(wǎng)印刷直接圖案化而形成之外，通過(guò)與實(shí)施例12相同的方法得到了觸摸輸入薄片。
通過(guò)實(shí)施例12或?qū)嵤├?3的方法得到了如下的觸摸輸入薄片在中央窗部上襯底薄片的兩面上分別僅形成X方向的電極圖案、Y方向的電極圖案的銦錫氧化物膜，在各個(gè)外側(cè)邊緣部上形成在銦錫氧化物膜上除了端子部之外形成銅膜的細(xì)微布線電路，并將該細(xì)微布線電路除了端子部之外用防銹功能膜覆蓋。將該觸摸輸入薄片上形成的細(xì)微布線電路圖案的端部與FPC連接而對(duì)其進(jìn)行了評(píng)價(jià)，評(píng)價(jià)是否作為靜電容量式觸摸傳感器工作，此時(shí)實(shí)施例I、實(shí)施例2的任何一種情況都得到了良好的結(jié)果，而且產(chǎn)品完成后即使從外部侵入腐蝕性液體或者在高溫高濕等環(huán)境測(cè)試條件下，布線電路也不會(huì)發(fā)生腐蝕，能夠保持電學(xué)特性。
本發(fā)明是參照附圖對(duì)優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行了充分的說(shuō)明，但是對(duì)于熟知該技術(shù)的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，能夠進(jìn)行各種各樣的變形或變更是顯而易見(jiàn)的。這樣的變形或變更在沒(méi)有超出本發(fā)明的范圍之內(nèi)，應(yīng)理解為包含在本發(fā)明中。
(產(chǎn)業(yè)上的應(yīng)用可能性)
本發(fā)明為可適用于設(shè)置有液晶面板等圖像畫面的手機(jī)或PDA、小型PC等輸入裝置的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法的發(fā)明。
權(quán)利要求
1.一種防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片，其特征在于，在透明的襯底薄片兩面的中央窗部上分別形成有透明導(dǎo)電膜的電極圖案，在所述襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別形成有用于所述電極圖案的細(xì)微布線電路圖案，并且該兩面的電極圖案和細(xì)微布線電路圖案不相同，其中，在一面或者兩面上至少在細(xì)微布線電路圖案上除端子部之外覆蓋形成有透光性防銹層。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片，其特征在于，在所述細(xì)微布線電路圖案中依次層壓有透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片，其特征在于，在所述電極圖案上也覆蓋形成有所述透光性防銹層。
4.根據(jù)權(quán)利要求I至3任一項(xiàng)所述的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片，其特征在于， 所述透光性防銹層由熱固化樹(shù)脂或光固化樹(shù)脂構(gòu)成。
5.根據(jù)權(quán)利要求I至4任一項(xiàng)所述的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片，其特征在于， 所述襯底薄片具有兩層結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求I至5任一項(xiàng)所述的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片，其特征在于， 通過(guò)進(jìn)一步包括與所述細(xì)微布線電路圖案的端子部連接的搭載IC芯片的外部電路，由此作為靜電容量式觸摸傳感器工作。
7.一種防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，包括以下步驟在透明的襯底薄片兩面上分別依次形成透明導(dǎo)電膜、遮光性導(dǎo)電膜、第一抗蝕劑層； 通過(guò)兩面同時(shí)曝光和顯像所述第一抗蝕劑層的一部分，由此進(jìn)行圖案化；通過(guò)同時(shí)蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第一抗蝕劑層的部分的所述透明導(dǎo)電膜和所述遮光性導(dǎo)電膜，由此在襯底薄片兩面的中央窗部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的電極圖案，同時(shí)在襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的細(xì)微布線電路圖案；剝離第一抗蝕劑層后，在暴露的遮光性導(dǎo)電膜上層壓形成被圖案化的第二抗蝕劑層； 通過(guò)僅蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第二抗蝕劑層的部分的所述遮光性導(dǎo)電膜，由此在襯底薄片兩面的所述中央窗部和端子部中分別暴露所述透明導(dǎo)電膜；剝離第二抗蝕劑層后，在一面或兩面中至少在細(xì)微布線電路圖案上除端子部之外覆蓋形成透光性的防銹層。
8.一種防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，包括以下步驟在透明的襯底薄片兩面上分別依次形成透明導(dǎo)電膜、遮光性導(dǎo)電膜、第一抗蝕劑層； 通過(guò)兩面同時(shí)曝光和顯像所述第一抗蝕劑層的一部分，由此進(jìn)行圖案化；通過(guò)同時(shí)蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第一抗蝕劑層的部分的所述透明導(dǎo)電膜和所述遮光性導(dǎo)電膜，由此在襯底薄片兩面的中央窗部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的電極圖案，同時(shí)在襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的細(xì)微布線電路圖案；剝離所述第一抗蝕劑層后，在暴露的遮光性導(dǎo)電膜上層壓形成添加了防銹劑且被圖案化的第二抗蝕劑層；通過(guò)僅蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第二抗蝕劑層的部分的所述遮光性導(dǎo)電膜，由此在襯底薄片兩面的所述中央窗部和端子部中分別暴露所述透明導(dǎo)電膜，并以該狀態(tài)不剝離第二抗蝕劑層而作為防銹層殘留。
9.一種防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，包括以下步驟在透明的襯底薄片兩面上分別依次形成透明導(dǎo)電膜、遮光性導(dǎo)電膜、第一抗蝕劑層； 通過(guò)兩面同時(shí)曝光和顯像所述第一抗蝕劑層的一部分，由此進(jìn)行圖案化；通過(guò)同時(shí)蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第一抗蝕劑層的部分的所述透明導(dǎo)電膜和所述遮光性導(dǎo)電膜，在襯底薄片兩面的中央窗部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的電極圖案，同時(shí)在襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的細(xì)微布線電路圖案；剝離所述第一抗蝕劑層后，在暴露的遮光性導(dǎo)電膜上層壓形成添加了防銹劑且被圖案化的第二抗蝕劑層；通過(guò)僅蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第二抗蝕劑層的部分的所述遮光性導(dǎo)電膜，由此在襯底薄片兩面的所述中央窗部和端子部中分別暴露所述透明導(dǎo)電膜，進(jìn)一步在所述中央窗部和所述端子部的境界中，側(cè)面蝕刻所述遮光性導(dǎo)電膜的暴露的端面，由此使所述第二抗蝕劑層呈房檐結(jié)構(gòu)；通過(guò)熱處理軟化所述房檐結(jié)構(gòu)的第二抗蝕劑層，由此覆蓋所述殘留的遮光性導(dǎo)電膜的暴露的端面，并以該狀態(tài)不剝離第二抗蝕劑層而作為防銹層殘留。
10.根據(jù)權(quán)利要求7至9任一項(xiàng)所述的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法， 其特征在于，所述透明的襯底薄片是由多張樹(shù)脂薄片的層壓體構(gòu)成的襯底薄片，其中，最外表面和最內(nèi)表面的樹(shù)脂薄片上在該樹(shù)脂薄片層壓之前事先形成有所述透明導(dǎo)電膜和所述遮光性導(dǎo)電膜，在所述樹(shù)脂薄片層壓后形成所述第一抗蝕劑層。
11.根據(jù)權(quán)利要求7至9任一項(xiàng)所述的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法， 其特征在于，所述透明的襯底薄片是由多張樹(shù)脂薄片的層壓體構(gòu)成的襯底薄片，其中，最外表面和最內(nèi)表面的樹(shù)脂薄片上在該樹(shù)脂薄片層壓之前事先形成有所述透明導(dǎo)電膜，在所述樹(shù)脂薄片層壓后形成所述遮光性導(dǎo)電膜和所述第一抗蝕劑層。
12.根據(jù)權(quán)利要求7至11任一項(xiàng)所述的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，其特征在于，向所述第二抗蝕劑層添加的防銹劑為咪唑、三唑、苯并三唑、苯并咪唑、苯并噻唑、吡唑中的任意一種。
13.一種防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，包括以下步驟在透明的襯底薄片兩面上分別獲得在其整個(gè)面上分別依次形成透明導(dǎo)電膜、遮光性導(dǎo)電膜、第一光致抗蝕劑層的導(dǎo)電性薄膜；通過(guò)兩面同時(shí)曝光和顯像所述第一光致抗蝕劑層的一部分，由此進(jìn)行圖案化；通過(guò)同時(shí)蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第一光致抗蝕劑層的部分的所述透明導(dǎo)電膜和所述遮光性導(dǎo)電膜，由此在襯底薄片兩面的中央窗部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的電極圖案，同時(shí)在襯底薄片兩面的外側(cè)邊緣部上分別形成透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜無(wú)位置偏差地層壓的細(xì)微布線電路圖案；剝離所述第一光致抗蝕劑層后，在形成電極圖案和細(xì)微布線電路圖案的面的整個(gè)面上形成第二光致抗蝕劑層；通過(guò)兩面同時(shí)曝光和顯像所述第二光致抗蝕劑層的一部分，由此進(jìn)行圖案化；通過(guò)僅蝕刻去除沒(méi)有層壓該被圖案化的第二光致抗蝕劑層的部分的所述遮光性導(dǎo)電膜，由此在襯底薄片兩面的所述中央窗部和端子部中分別暴露所述透明導(dǎo)電膜；剝離所述第二光致抗蝕劑層后，用防銹功能膜覆蓋暴露的遮光性導(dǎo)電膜。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，其特征在于，通過(guò)印刷法形成所述防銹功能膜。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，其特征在于，通過(guò)光學(xué)處理形成所述防銹功能膜。
16.根據(jù)權(quán)利要求13至15任一項(xiàng)所述的防銹性優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，其特征在于，所述透明導(dǎo)電膜為ITO膜，所述遮光性導(dǎo)電膜為銅箔。
全文摘要
本發(fā)明提供一種適用于窄邊框且透明導(dǎo)電膜圖案為兩層的靜電容量式觸摸傳感器且防銹性也非常優(yōu)良的窄邊框觸摸輸入薄片的制造方法，本發(fā)明使用在透明襯底薄片兩面上分別依次層壓形成透明導(dǎo)電膜、遮光性導(dǎo)電膜、第一抗蝕劑層的導(dǎo)電性薄片，對(duì)兩面同時(shí)曝光和顯像第一抗蝕劑層，然后同時(shí)蝕刻透明導(dǎo)電膜和遮光性導(dǎo)電膜，剝離第一抗蝕劑層后在暴露的遮光性導(dǎo)電膜上層壓形成添加防銹劑且被圖案化的第二抗蝕劑層，通過(guò)僅蝕刻去除中央窗部和端子部的遮光性導(dǎo)電膜，使透明導(dǎo)電膜暴露，進(jìn)一步在中央窗部和端子部的境界中側(cè)面蝕刻遮光性導(dǎo)電膜的暴露的端面，由此使第二抗蝕劑層呈房檐結(jié)構(gòu)，最后通過(guò)熱處理軟化房檐結(jié)構(gòu)的第二抗蝕劑層，由此覆蓋所殘留的遮光性導(dǎo)電膜的暴露的端面，并以該狀態(tài)不剝離第二抗蝕劑層而將其作為防銹層殘留。
文檔編號(hào)G06F3/041GK102947781SQ20118003069
公開(kāi)日2013年2月27日 申請(qǐng)日期2011年6月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月22日
發(fā)明者橋本孝夫, 滋野博譽(yù), 寺脅孝明, 寺谷和臣, 奧村秀三, 坂田喜博, 鈴木貴博 申請(qǐng)人:日本寫真印刷株式會(huì)社