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薄型化觸控面板的制作方法

文檔序號:6435631閱讀:134來源:國知局
專利名稱:薄型化觸控面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及觸控面板技術(shù)領(lǐng)域,更具體的說是涉及具有一黏著層的薄型化觸控面 板。
背景技術(shù)
現(xiàn)行觸控面板在使用上已相當(dāng)普及,使用者僅需利用手指或觸控筆等物體,依照 所述屏幕上顯示的圖像及文字進行點選,進而透過觸壓所述觸控面板,以進行輸入或操作, 在使用上十分方便。
然而,觸控面板與顯示面板(或是液晶顯示器模塊)之間的多重配置,在制造時會 重復(fù)耗費較多的生產(chǎn)材料,且觸控面板各層結(jié)構(gòu)在傳統(tǒng)上都是先各自生產(chǎn)完成,再依序?qū)?疊放置貼合成一體,故其裝配程序較為繁復(fù),且浪費工時,容易產(chǎn)出不合格產(chǎn)品,而且白白 增加因?qū)盈B放置而形成階狀厚度的問題,不利于電子產(chǎn)品的薄形化設(shè)計,故亟待加以改善。發(fā)明內(nèi)容
有鑒于現(xiàn)有技術(shù)的問題,本發(fā)明目的之一就是在于提供一種薄型化觸控面板以解 決習(xí)知問題。
根據(jù)本發(fā)明所述的目的,提出一種薄型化觸控面板,其包含一基板、若干個第一 氧化銦錫層(ITO)及若干個第二氧化銦錫層、一黏著層及一液晶顯示器模塊(LCM)。其中, 所述基板具有一頂面及一底面,且所述些第一氧化銦錫層及第二氧化銦錫層分別形成于基 板的底面,所述些第一氧化銦錫層與所述些第二氧化銦錫層呈現(xiàn)一交錯排列的狀態(tài),也就 是說,每一個第一氧化銦錫層與第二氧化銦錫層是彼此相鄰的。
要言之,上述的第一氧化銦錫層及第二氧化銦錫層底部填充著所述黏著層,使得 所述液晶顯示器模塊得以通過所述黏著層與所述些第一氧化銦錫層及所述些第二氧化銦 錫層膠合。是以,所述的黏著層是由無機材料的光學(xué)膠或液態(tài)光學(xué)膠所組成,且可為亞克力 膠系或硅膠系的光學(xué)膠。另外,在此定義所述黏著層的較佳厚度是介于50至300微米間。 再者,本發(fā)明所述的基板是一塑料基板,其厚度是介于50至250微米間。因此,塑料基板再 加上黏著層的總厚度是介于100至550微米間,與現(xiàn)有的其他終端產(chǎn)品的厚度比較,本發(fā)明 的整體厚度更顯輕薄,且材料與制程費用亦較為低廉。換言之,本發(fā)明所述的薄型化觸控面 板利用光學(xué)黏著層以取代習(xí)知的黏著層,由于習(xí)知的黏著層無法直接與氧化銦錫層直接貼 合,因此必須在氧化銦錫層與黏著層之間充填一由二氧化硅或二氧化鈦所組成的感應(yīng)電路 層,整體厚度勢必增加。惟,本發(fā)明所述的光學(xué)黏著層可直接與氧化銦錫層膠合,因此不需 所述感應(yīng)電路層,整體厚度亦較為輕薄。
綜合所述,所述些第一氧化銦錫層及第二氧化銦錫層以金屬鍍膜的制程方式形成 于所述基板的底面,且各第一氧化銦錫層及第二氧化銦錫層都是通過網(wǎng)印制程方式以形成 其菱形格的電路圖樣。另外補充說明,第一氧化銦錫層與鄰近的各第二氧化銦錫層間以印 刷制程方式形成一絕緣層以絕緣的,換句話說,每一個交錯排列的第一氧化銦錫層與第二氧化銦錫層之間,都是受到絕緣層隔離而彼此絕緣的。且,每個第二氧化銦錫層間是以印刷 制程方式形成一金屬導(dǎo)線以電性連接的。也就是說,每個第二氧化銦錫層雖與第一氧化銦 錫層隔離絕緣,但是每個第二氧化銦錫層彼此之間卻利用金屬導(dǎo)線以電性相連。


圖1為本發(fā)明所述的薄型化觸控面板的剖面示意圖。
圖2為本發(fā)明所述的薄型化觸控面板的制作方法流程圖。
附圖標(biāo)記說明
100-基板;210-第一氧化銦錫層;220_第二氧化銦錫層;230_絕緣層;240_金屬 導(dǎo)線;300_黏著層;400_液晶顯示器模塊;500_遮蔽層;600_軟性印刷電路板;S1_S13_制 作方法的步驟。
具體實施方式
以下將參照相關(guān)附圖,說明本發(fā)明所述的薄型化觸控面板的實施例,為便于理解, 下述實施例中相同組件是以相同的符號標(biāo)示來說明。
首先,請參閱圖1,其為本發(fā)明所述的薄型化觸控面板的剖面示意圖。如圖1所示, 此薄型化觸控面板是包含一基板100、若干個第一氧化銦錫層210及若干個第二氧化銦錫 層220、一黏著層300及一液晶顯示器模塊400。其中,所述基板100具有一頂面及一底面, 且所述些第一氧化銦錫層210及第二氧化銦錫層220分別形成于基板100的底面。換言 之,各第一氧化銦錫層210及第二氧化銦錫層220皆以金屬鍍膜的制程方式形成于所述基 板100的底面,且所述些第一氧化銦錫層210與所述些第二氧化銦錫層220呈現(xiàn)一交錯排 列的狀態(tài)。也就是說,每一個第一氧化銦錫層210及第二氧化銦錫層220是彼此相鄰的。
詳言之,上述的第一氧化銦錫層210及第二氧化銦錫層220底部填充著所述黏著 層300,使得所述液晶顯示器模塊400得以通過所述黏著層300與所述些第一氧化銦錫層 210及所述些第二氧化銦錫層220膠合。是以,所述的黏著層300即為本發(fā)明的主要技術(shù)特 征,其是由無機材料的光學(xué)膠或液態(tài)光學(xué)膠所組成,且可為亞克力膠系或硅膠系的光學(xué)膠。 另外,因為此具光學(xué)膠的黏著層300,而使得本發(fā)明的觸控面板厚度得以輕薄化,在此定義 所述黏著層300的較佳厚度是介于50至300微米間。再者,本發(fā)明所述的基板100是一塑 料基板,其厚度是介于50至250微米間。因此,塑料基板100再加上黏著層300的總厚度是 介于100至550微米間,與現(xiàn)有的其他終端產(chǎn)品的厚度比較,本發(fā)明的整體厚度更顯輕薄。
承前所述,所述些第一氧化銦錫層210及第二氧化銦錫層220以金屬鍍膜的制程 方式形成于所述基板100的底面上,且各第一氧化銦錫層210及第二氧化銦錫層220都是 通過網(wǎng)印制程方式以形成其菱形格的電路圖樣。根據(jù)本發(fā)明,所述些第一氧化銦錫層210 可定義X方向的電路圖樣,而所述些第二氧化銦錫層220可定義Y方向的電路圖樣。另外 補充說明,第一氧化銦錫層210與鄰近的各第二氧化銦錫層220間以印刷制程方式形成一 絕緣層230以絕緣的,換句話說,每一個交錯排列的第一氧化銦錫層210與第二氧化銦錫層 220之間,都是受到絕緣層230隔離而彼此絕緣的。且,第二氧化銦錫層220間是以印刷制 程方式形成一金屬導(dǎo)線240以電性連接彼此。也就是說,每個第二氧化銦錫層220雖與第 一氧化銦錫層210隔離絕緣,但是第二氧化銦錫層220彼此之間卻利用金屬導(dǎo)線240以電性相連。上述的絕緣層230是由亞克力膠系或硅膠系的膠體所構(gòu)成,且金屬導(dǎo)線240是由 銀膠所組成。
接續(xù),請同時參閱圖1及圖2,圖2為本發(fā)明所述的薄型化觸控面板的制作方法流 程圖。如圖2所示,此制作方法包含下列各步驟
步驟S1:首先,在一塑料基板100形成一金屬鍍膜。
步驟S2 :接下來,在所述塑料基板100上印刷一遮蔽層500。
步驟S3 :蝕刻所述金屬鍍膜。
步驟S4 以金屬鍍膜的制程方式,形成若干個第一氧化銦錫層210及第二氧化銦 錫層220。
步驟S5 :以網(wǎng)印制程方式,形成所述些第一氧化銦錫層210及第二氧化銦錫層220 的菱形格的電路圖樣。
步驟S6 :實施水洗制程,以凈化制程。
步驟S7 :以印刷的制程方式,形成絕緣層230以隔離絕緣第一氧化銦錫層210與 鄰近的第二氧化銦錫層220。
步驟S8 :以印刷的制程方式,形成金屬導(dǎo)線240以電性連接第二氧化銦錫層220。
步驟S9 :膠合一黏著層300于所述些第一氧化銦錫層210及第二氧化銦錫層220 底部。
步驟SlO :外接一軟性印刷電路板600于所述黏著層300。
步驟Sll :以紫外線補強所述軟性印刷電路板(FPC)600。
步驟S12 :短路及斷路功能測試。
步驟S13 :膠合一液晶顯示器模塊400于所述黏著層300底部,以完成本發(fā)明所述 的薄型化觸控面板。
其中,步驟SI及步驟S3所提及的金屬鍍膜,是一額外添加的制程,且步驟Sll及 步驟S12是針對質(zhì)量管控而施以的制程。因此,步驟S1、步驟S3、步驟Sll及步驟S12并非 為本發(fā)明制作方法的必要步驟。是以,上所述僅為最佳實施例的揭示,而非用以限定本發(fā) 明。任何未脫離本發(fā)明的精神與范疇,而進行的等效修改或變更,均應(yīng)包含于本申請的權(quán)利 要求范圍中。
權(quán)利要求
1.一種薄型化觸控面板,其特征在于,包含一基板,具有一頂面及一底面;若干個第一氧化銦錫層及若干個第二氧化銦錫層,分別形成于所述基板的所述底面;及一液晶顯示器模塊,通過一黏著層與所述些第一氧化銦錫層及所述些第二氧化銦錫層膠合,其中所述黏著層通過無機材料的光學(xué)膠或液態(tài)光學(xué)膠所組成。
2.如權(quán)利要求1所述的薄型化觸控面板,其特征在于,所述黏著層是亞克力膠系或硅膠系。
3.如權(quán)利要求1所述的薄型化觸控面板,其特征在于,所述黏著層的厚度介于50至 300微米間。
4.如權(quán)利要求1所述的薄型化觸控面板,其特征在于,所述些第一氧化銦錫層及所述些第二氧化銦錫層以金屬鍍膜的制程方式形成于所述基板的所述底面。
5.如權(quán)利要求4所述的薄型化觸控面板,其特征在于,所述些第一氧化銦錫層及所述些第二氧化銦錫層通過網(wǎng)印制程方式以形成圖樣。
6.如權(quán)利要求5所述的薄型化觸控面板,其特征在于,所述些第一氧化銦錫層及所述些第二氧化銦錫層的圖樣是若干個菱形格。
7.如權(quán)利要求1所述的薄型化觸控面板,其特征在于,所述些第一氧化銦錫層與所述些第二氧化銦錫層是交錯排列。
8.如權(quán)利要求7所述的薄型化觸控面板,其特征在于,各所述第一氧化銦錫層與鄰近的各所述第二氧化銦錫層間以印刷制程方式形成一絕緣層以絕緣。
9.如權(quán)利要求7所述的薄型化觸控面板,其特征在于,各所述第二氧化銦錫層間以印刷制程方式形成一金屬導(dǎo)線以電性連接。
10.如權(quán)利要求1所述的薄型化觸控面板,其特征在于,所述基板是一塑料基板,其厚度介于50至250微米間。
全文摘要
本發(fā)明是公開了一種薄型化觸控面板,其包含一基板、若干個第一氧化銦錫層及第二氧化銦錫層、一黏著層及一液晶顯示器模塊。其中,第一氧化銦錫層及第二氧化銦錫層分別形成于基板的底面,且第一氧化銦錫層與第二氧化銦錫層呈現(xiàn)一交錯排列的狀態(tài)。另外,第一氧化銦錫層及第二氧化銦錫層底部填充著黏著層,使得液晶顯示器模塊通過得以通過黏著層與第一氧化銦錫層及第二氧化銦錫層膠合。所述的黏著層是由無機材料的光學(xué)膠或液態(tài)光學(xué)膠所組成,且可為亞克力膠系或硅膠系的光學(xué)膠。更因黏著層的存在,而使得本發(fā)明所述的觸控面板厚度得以輕薄化。
文檔編號G06F3/041GK102999202SQ20111031433
公開日2013年3月27日 申請日期2011年10月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月15日
發(fā)明者李淑禎, 林文奇 申請人:瀚宇彩晶股份有限公司
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