專利名稱：使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有熒光分析儀的同時具有氯系藥物注入設(shè)備、活性炭注入設(shè)備、臭氧處理設(shè)備、凝集沉淀設(shè)備、或膜過濾裝置的使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
水處理設(shè)備，例如在凈水場，將地下水和地表水作為原水送入蓄水池，在凝集劑沉淀設(shè)備中添加凝集劑，形成絮凝物，實施沉淀處理。隨后，使上澄清液通過砂濾裝置除去懸濁物，最后實施氯處理消毒，供給使用者。為了更好地獲得氯處理的消毒效果，在凝集劑注入前進行注入氯的前氯處理和在沉淀水中注入氯進行中間氯處理。前氯處理可有效去除原水中的氨性氮和微生物，或者去除鐵和銹的錳的氧化。對于多數(shù)能生成三鹵甲烷的原水，為了降低三鹵甲烷，最好采用中間氯處理。
代替各個氯處理的不是自動控制，而是依賴操作人員的直覺和經(jīng)驗，對原水水質(zhì)進行監(jiān)視。
在原水水質(zhì)已惡化不能用通常處理法處理時，在蓄水池等中投入粉末活性炭，由活性炭吸附溶解性物質(zhì)，隨后在凝集沉淀處理去除溶解性物質(zhì)?；钚蕴康耐斗帕恳膊皇亲詣涌刂疲瑢嶋H情況是操作人員恁著直覺和經(jīng)驗確定投放量，來對原水水質(zhì)進行監(jiān)視。
而且，水處理領(lǐng)域，特別是凈化水處理中，如上所述，為了消毒處理和去除鐵、錳等，廣泛使用氯處理，在原水中混入三鹵甲烷前軀物時，由于氯處理會生成三鹵甲烷。由于三鹵甲烷是致癌物質(zhì)，所以在水處理過程中，必須抑制生成三鹵甲烷。
目前，對于三鹵甲烷和三鹵甲烷前軀物的測定需要時間和費用，因此不可能在線進行監(jiān)控。作為去除三鹵甲烷前軀物的有效處理方法，雖然有臭氧處理和活性炭處理，但有臭氧處理的處理場很少。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是鑒于此點而研制的，其目的是提供一種使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)，在線中利用熒光分析儀測定原水或處理水的相對熒光強度，利用由熒光分析儀的測定值，控制活性炭處理、氯劑注入處理、臭氧注入處理、凝集劑注入處理、或膜處理的處理方法，可降低三鹵甲烷的生成能力。
本發(fā)明是使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)，其特征是包括以下部分，即，向被處理水中注入注入劑的注入機構(gòu)、測定被處理水的相對熒光強度的熒光分析儀、測定被處理水流量的流水流量計、和控制裝置，該裝置根據(jù)熒光分析儀的測定值，求出降低三甲烷生成能力所需要注入劑的注入率，利用該注入劑的注入率和流水流量計的流量控制注入機構(gòu)。
本發(fā)明是使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)，其特征是注入機構(gòu)由向被處理水中注入活性炭的活性炭注入部分構(gòu)成，控制裝置包括根據(jù)熒光分析儀的測定值求出降低三鹵甲烷生成能力所需要的活性炭注入率的活性炭注入率演算裝置，和將活性炭注入率演算裝置演算的活性炭注入率作為目標(biāo)值，使用流水流量計的流量控制活性炭注入部分的活性炭注入量的活性炭注入量控制裝置。
本發(fā)明是使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)，其特征是在活性炭注入部分的上游側(cè)和下游側(cè)設(shè)置一對熒光分析儀，活性炭注入率演算裝置根據(jù)一對熒光分析儀的測定值求出活性炭注入率。
本發(fā)明是使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)，其特征是注入機構(gòu)由向被處理水中注入氯系試劑的多個氯系試劑注入部分構(gòu)成，控制裝置包括根據(jù)熒光分析儀的測定值選擇為控制三鹵甲烷生成能力的最適宜的氯系試劑注入部分、而且求出氯系試劑注入率的氯系試劑注入設(shè)備演算裝置，和將氯系試劑注入設(shè)備演算裝置演算的注入率作為目標(biāo)值，利用流水流量計的流量控制從氯系試劑注入部分的氯系試劑注入量的氯系試劑注入量控制裝置。
本發(fā)明是使用熒光分析儀的水處理控制系系統(tǒng)，其特征是熒光分析儀設(shè)在氯系試劑注入部分的上游側(cè)。
本發(fā)明是使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)，其特征是注入機構(gòu)由具有多個直列并排并各自帶有向被處理水中注入臭氧的臭氧注入部分的臭氧槽的臭氧處理設(shè)備構(gòu)成，控制裝置包括根據(jù)控制熒光分析儀的測定值求出為降低三甲烷生成能力所需要的向各個臭氧槽的臭氧注入率的臭氧注入率演算裝置，和將臭氧注入率演算裝置演算的注入率作為目標(biāo)值，利用流水流量計的流量控制臭氧注入部分的臭氧注入量的臭氧注入量控制裝置。
本發(fā)明是使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)，其特征是熒光分析儀設(shè)在至少一個臭氧槽內(nèi)。
本發(fā)明是使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)，其特征是注入機構(gòu)由向被處理水中注入凝集劑的凝集劑注入部分構(gòu)成，控制裝置包括根據(jù)熒光分析儀的測定值求出為降低三甲烷生成能力的最適宜的凝集劑注入率的凝集劑注入率演算裝置，和將凝集劑注入率演算裝置演算的注入率作為目標(biāo)值，利用流水流量計的流量控制凝集劑注入部分的凝集劑注入量的凝集劑注入量控制裝置。
本發(fā)明是使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)，其特征是在凝集沉淀設(shè)備的上游側(cè)和下游側(cè)設(shè)置一對熒光分析儀，凝集注入率演算裝置根據(jù)一對熒光分析儀的測定值求出凝集注入率。
本發(fā)明是使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)，其特征是包括分離除去被處理水中混濁物成分的膜過濾裝置、測定被處理水相對熒光強度的熒光分析儀、和根據(jù)熒光分析儀的測定值進行控制膜過濾裝置運行的膜過濾運行控制裝置。
本發(fā)明是使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)，其特征是在膜過濾裝置的上游側(cè)和下游側(cè)設(shè)置一對熒光分析儀，膜過濾運行控制裝置根據(jù)一對熒光分析儀的測定值進行控制膜過濾裝置的運行。
依照本發(fā)明，根據(jù)活性炭注入部分的上游側(cè)或下游測任何一方的相對熒光強度，由活性炭注入率演算裝置求出降低三鹵甲烷生成能力所需要的活性炭注入率，將活性炭注入率演算裝置演算的活性炭注入率作為目標(biāo)值，由活性炭注入量控制裝置控制活性炭注入量，將使用的活性炭注入量限制在所需要的最低量，并能有效地實現(xiàn)三鹵甲烷生成能力的降低。
依照本發(fā)明，根據(jù)氯系試劑注入部分上游側(cè)的相對熒光強度，在氯系試劑注入設(shè)備演算裝置中，選擇最適宜的氯系試劑注入點，同時求出氯系試劑注入率，以便發(fā)揮氯系試劑形成的處理效果，抑制三鹵甲烷的生成能力，將氯系試劑注入設(shè)備演算裝置演算的注入率作為目標(biāo)值，由氯系試劑注入量控制裝置控制氯系試劑注入量，將使用的氯系試劑限制在需要的最低限，并能有效地實現(xiàn)三鹵甲烷生成能力的降低。
依照本發(fā)明，根據(jù)多個臭氧槽中的任何一個、或者整個流水的相對熒光強度，在臭氧注入率演算裝置求出降低三鹵甲烷生成能力所需要的向各個臭氧槽供給量，將供給的臭氧限制在需要的最低限，并能有效地實現(xiàn)三鹵甲烷生成能力的降低。
依照本發(fā)明，根據(jù)凝集劑注入部分的上游側(cè)或下游側(cè)中任一方的相對熒光強度，由凝集劑注入率演算裝置求出降低三鹵甲烷生成能力所需要的絮凝劑注入率，將凝集劑注入率演算裝置演算的凝集劑注入率作為目標(biāo)值，由凝集劑注入量控制裝置控制凝集劑注入量，將使用的凝集劑注入量限制在需要的最低限，并能有效地實現(xiàn)三鹵甲烷生成能力的降低。
依照本發(fā)明，根據(jù)膜過濾裝置的上游側(cè)或下游側(cè)任何一方的相對熒光強度，進行膜過濾裝置的運行控制，并能抑制膜的網(wǎng)眼堵塞、延長藥劑的凈化時間。


圖1A和圖1B是使用本發(fā)明的熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)第1實施例構(gòu)成圖。
圖2是相對熒光強度和三鹵甲烷生成能力的關(guān)系示例圖。
圖3是活性炭注入率和相對熒光強度殘存率(FLr)的關(guān)系示例圖。
圖4是使用本發(fā)明的熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)第2實施例構(gòu)成圖。
圖5是使用本發(fā)明的熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)第3實施例構(gòu)成圖。
圖6是使用本發(fā)明的熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)第4實施例構(gòu)成圖。
圖7是氯系試劑注入率和三甲烷生成能力降低率的關(guān)系示例圖。
具體實施例方式
第1實施例以下參照

本發(fā)明的實施例。圖1～圖3是使用本發(fā)明的熒光分析儀的水處理系統(tǒng)第1實施例示意圖。
第1實施例是對具有活性炭注入設(shè)備的凈化水場(水處理設(shè)施)中，由被處理水的相對熒光強度，計算出作為目標(biāo)的活性炭注入量，實現(xiàn)降低三鹵甲烷生成能力入最低限量活性炭的情況進行說明。
如圖1A所示，本發(fā)明的水處理控制系統(tǒng)包括接收原水(被處理水)的蓄水池1，和在蓄水池1下游側(cè)添加凝集劑的凝集沉淀設(shè)備2，由該凝集沉淀設(shè)備2除去溶解的高分子有機物。在該凝集沉淀設(shè)備2的下游側(cè)設(shè)有除去水中懸濁浮游物的砂濾裝置3。
在原水水質(zhì)惡化，不能以通常處理降低三鹵甲烷前軀物質(zhì)時，設(shè)置由活性炭注入部分4a向蓄水池1中注入活性炭的活性炭注入設(shè)備4。
如圖1A所示，在蓄水池1的輸水前部分分別設(shè)有原水采集口5和流量計(流水流量計)6。流量計6計量原水的注入流量Q[m3/h]。在原水采集口5處連接有測定原水相對熒光強度的熒光分析儀7。與熒光分析儀7連接有按照熒光分析儀7的測定值，求出降低三鹵甲烷生成能力所需要最低限度活性炭注入率的活性炭注入率演算裝置8。與活性炭注入率演算裝置8連接有活性炭注入控制裝置9。
在本實施例中，由熒光分析儀求出激勵波長345nm的熒光光譜、求出熒光波長425nm的激勵光譜、求出熒光光譜425nm的相對熒光強度。
另外，圖1A中，由活性炭注入部分(注入注入劑的注入機構(gòu))4a、和由活性炭注入率演算裝置8和活性炭注入控制裝置9構(gòu)成的控制裝置8、9構(gòu)成活性炭注入設(shè)備4。
以下對由該構(gòu)成形成的本實施例的作用進行說明。原水(被處理水)依次渡過蓄水池1、凝集沉淀設(shè)備2和砂濾裝置3進行處理。這期間，由原水采集口5采取的原水送入熒光分析儀7。
由熒光分析儀7不斷地測定原水的相對熒光強度，作為測定值FL1不斷地輸出到活性炭注入率演算裝置8中。在活性炭注入率演算裝置8中設(shè)定相對熒光強度和三鹵甲烷生成能力的關(guān)系式、活性炭注入率和相對熒光強度殘存率(FLr)的關(guān)系式、以及用上述關(guān)系式的三鹵甲烷生成能力的控制目標(biāo)值(FLco)，演算出將上述FL1設(shè)定低于Flco以下所需要的活性炭注入率(Drm1)，輸出到活性炭注入控制裝置9中。
圖2是相對熒光強度和三鹵甲烷生成能力的關(guān)系示例圖。圖3是活性炭注入率和相對熒光強度殘存率(FLr)的關(guān)系示例圖。
活性炭注入控制裝置9，將流量計6的計量值和活性炭注入率演算裝置8的活性炭注入率(Drm1)作為輸入，演算出活性炭注入量目標(biāo)值Ps，根據(jù)該Ps對活性炭注入部分4a實施注入活性炭的FF(正饋)控制。
根據(jù)以上方法，由原水的相對熒光強度，在活性熒注入率演算裝置8中算出作為目標(biāo)的活性炭注入率，對注入量進行FF控制，可將在降低三鹵甲烷生成能力中使用的活性炭注入量限制在需要的最低量。
圖1A中，在凝集沉淀設(shè)備2上設(shè)有凝集劑注入部分(注入劑的注入機構(gòu))2a，該凝集注入部2a可以連接有凝集劑注入率演算裝置30a，可以根據(jù)凝集劑注入部2a上游側(cè)的熒光分析儀7和凝集劑注入部分2a下游側(cè)的熒光分析儀11的測定值，求出降低三鹵甲烷生成能力的最適宜凝集劑注入率。來自凝集劑注入率演算裝置30a的信號被送入凝集劑注入控制裝置30b，該凝集劑注入控制裝置30b將凝集劑注入率作為目標(biāo)值，利用流水流量計6的流量控制凝集劑注入部分2a。這時，凝集劑控制裝置30由凝集劑注入率演算裝置30a和凝集劑注入率控制裝置30b構(gòu)成。
在砂濾裝置3的下游側(cè)設(shè)有分離除去被處理水中混濁物質(zhì)的膜濾裝置26，該膜濾裝置26可以連接有膜過濾運行控制裝置27，能根據(jù)熒光分析儀7和膜濾裝置26下游側(cè)的熒光分析儀11b的測定值，控制膜濾裝置26的運行。
這時，膜濾運行控制裝置27自動地、而且定時地控制膜的物性洗滌時間和洗滌方法，也可以代替這些洗滌時間和洗滌方法，控制膜濾時間、膜濾水量、和膜濾方法。
進而如圖1B所示，水處理控制系統(tǒng)也可以具有由設(shè)置各臭氧注入部分20a、21a、22a的多個有列臭氧槽20、21、22構(gòu)成的臭氧處理設(shè)備(臭氧注入機構(gòu))。
圖1B中，各臭氧注入部分20a、21a、22a連接有臭氧控制裝置25。該臭氧控制裝置25包括以下部分，即，根據(jù)配置在臭氧槽20內(nèi)的熒光分析儀7的測定值，求出降低三鹵甲烷生成能力需要向各臭氧槽20、21、22的臭氧注入率的臭氧注入率演算裝置25a；和利用該臭氧注入率和流水流量計6的流量，控制臭氧注入部分20a、21a、22a臭氧注入量的臭氧注入量控制裝置25b。
第2實施例以下根據(jù)圖4說明本發(fā)明第2種實施例。
圖4所示的第2種實施例，在凝集沉淀設(shè)備2的上游側(cè)設(shè)置凝集沉淀原水采集口10，以代替原水采集口5，該原水采集口10連接有測定原水相對熒光強度的熒光分析儀11，其他大致與圖1～圖3所示的第1實施例相同。圖4中與圖1～圖3所示的第1實施例相同部分付與相同的符號，詳細(xì)說明省略。
圖4中，將由凝集沉淀原水采集口采取的流向凝集沉淀設(shè)備2的原水送入熒光分析儀11。由熒光分析儀11不斷地測定原水的相對熒光強度，作為測定值FL2不斷地輸出到活性炭注入率演算裝置8中。在活性炭注入率演算裝置8中設(shè)定相對熒光強度和三鹵甲烷生成能力的關(guān)系式、活性炭注入率和相對熒光強度的殘存率(FLr)的關(guān)系式、以及用上述關(guān)系式的三鹵甲烷生成能力的控制目標(biāo)值(Flco)，演算出使FL2在Flco以下所需要的活性炭注入率(Drm2)后輸出到活性炭注入控制裝置9。
在活性炭注入控制裝置9中，輸入流量計6的計量值和活性炭注入率演算裝置8的活性炭注入率(Drm2)，演算出活性炭入量目標(biāo)值Ps，根據(jù)該Ps對活性炭注入部分4a實施注入活性炭的FB(反饋)控制。
根據(jù)如上方法，由活性炭注入率演算裝置8依照原水的相對熒光強度，算出作為目標(biāo)的活性炭注入率，對注入量進行FB控制，能將降低三鹵甲烷生成能力所使用的活性炭注入量限制在需要的最低限。
第3種實施例以下根據(jù)圖5說明本發(fā)明第3實施例。
圖5所示的第3實施例設(shè)置有原水采集口5和凝集沉淀原水采集口10，在原水采集口5和凝集沉淀原水采集口10連接有測定各個相對熒光強度的熒光分析儀7、11。其他大致與圖1～圖3所示的第1實施例相同。圖5中，與圖1～圖3所示的第1實施例相同的部分付與相同的符號，詳細(xì)說明省略。
圖5中，由原水采集口5和凝集沉淀原水采集口10采集的原水(被處理水)被送入熒光分析儀7和熒光分析儀11。由熒光分析儀7不斷地測定原水的相對熒光強度，作為測定值FL1不斷地輸出到活性炭注入率演算裝置8中。由熒光分析儀11不斷地測定向凝集沉淀設(shè)備2的原水相對熒光強度，作為測定值FL2不斷地輸出到活性炭注入率演算裝置8中。
在活性炭注入率演算裝置8中，設(shè)定相對熒光強度和三鹵甲烷生成能力的關(guān)系式、活性炭注入率和相對熒光強度殘存率(FLr)的關(guān)系式、及使用上述關(guān)系式的三鹵甲烷生成能力的控制目標(biāo)值(Flco)，演算使FL1和Flco以下所需要的活性炭注入率(Drm2)后輸出到活性炭注入控制裝置9中。
在活性炭注入控制裝置9中，輸入流量計6的計量值和活性炭注入率演算裝置8的Drm1和Drm2，演算出活性炭注入量目標(biāo)值Ps、根據(jù)Ps對活性炭注入部分4a實施注入活性炭的FF(正饋)控制和FB(反饋)控制。
這時，活性炭注入控制裝置9可采用Drm1和Drm2中安全性高的一方，即，高注入率，也可采用兩個注入率的平均值。
根據(jù)以上方法，活性炭注入率演算裝置8依照原水的相對熒光強度算出作為目標(biāo)的活性炭注入率，對注入量進行FF控制，可將降低三鹵甲烷生成能力使用的活性炭注入量限制在需要量的最低限。
第4實施例以下根據(jù)圖6說明本發(fā)明的第4實施例。圖6所示的第4實施例對在具有多個氯系試劑注入部分的凈化水場，依照流水的相對熒光強度選定最適宜的氯系試劑注入部分，算出作為目標(biāo)的氯系試劑注入量，對實現(xiàn)降低三鹵甲烷生成能力所需要注入最低限氯系試劑的情況進行說明。
如圖6所示，水處理控制系統(tǒng)包括蓄水池1、凝集沉淀設(shè)備2和砂濾裝置3，進而在蓄水池1的上游側(cè)設(shè)置原水采集口5和流量計6，原水采集口5連接有熒光分析儀7。
為了或除去原水(被處理水)中的氨性氮或氧化除去鐵、錳并進行消毒處理，設(shè)置氯系試劑注入設(shè)備14，該氯系試劑注入設(shè)備14具有位于蓄水1的前氯注入部分11d、位于凝集沉淀設(shè)備2的中氯注入部分12、和位于砂濾裝置3出口的后氯注入部分13的3種類型氯系試劑注入部分(注入劑的注入機構(gòu))。
熒光分析儀7與氯系試劑注入設(shè)備演算裝置14a連接，根據(jù)原水的相對熒光強度，由氯系試劑注入設(shè)備演算裝置14a選定降低三甲烷生成能力的最適宜注入點，同時算出需要最低的氯系試劑注入量。與各個氯注入部分11d、15b、15c相對應(yīng)，使氯系統(tǒng)注入控制裝置15a、15b、15c與氯系試劑注入設(shè)備演算裝置14a連接。
圖6中，由前氯注入部分11d、中氯注入部分12、后氯注入部分13、和氯系試劑注入設(shè)備演算裝置14a與氯系試劑注入控制裝置15a、15b、15c構(gòu)成的控制裝置14a、15a、15b、15c構(gòu)成氯系試劑注入設(shè)備14。
以下對如此構(gòu)成的本實施例的作用進行說明。由原水采集口5采集的原水(被處理水)被送入熒光分析儀7。由熒光分析儀7不斷地測定原水的相對熒光強度，作為測定值FL1不斷地輸出到氯系試劑注入設(shè)備演算裝置14a中。
在氯系試劑注入設(shè)備演算裝置14a中，設(shè)定相對熒光強度和三鹵甲烷生成能力的關(guān)系式、氯系試劑注入率的目標(biāo)值和三鹵甲烷生成能力(Cth)的關(guān)系式、和用上述關(guān)系式的三鹵甲烷生成能力的控制目標(biāo)值(Cthsv)。氯系試劑注入設(shè)備演算裝置14a選定使Cth在Cthsv以下的最適宜的氯系試劑注入部分11d、12、13，同時演算出氯系試劑注入率(Drm3、Drm4、Drm5)，輸出到氯系試劑注入控制裝置15a、15b、15c中。圖7是氯系試劑注入率和三鹵甲烷生成能力降低率的關(guān)系式示例圖。
在與由氯系試劑注入設(shè)備演算裝置14a選擇的與氯系試劑注入部分11d、12、13相對應(yīng)的氯系試劑注入控制裝置15a、15b、15c中，輸入來自流量計6和氯系試劑注入設(shè)備演算裝置14a的Drm3、Drm4、Drm5，演算出氯系試劑注入量目標(biāo)值Psc1，根據(jù)Psc1對氯系試劑注入部分11d、12、13實施注入氯系試劑的FF(正饋)控制。
根據(jù)以上方法，依照原水的相對熒光強度，由氯系試劑注入設(shè)備演算裝置14a選定使用的氯系試劑注入點，算出作為目標(biāo)的氯系試劑注入率，通過對注入量進行FF控制，將氯系試劑使用量取為需要的最低限，可有效實施氨性氮去除、鐵、錳去除和消毒處理，實現(xiàn)三鹵甲烷生成能力的降低。
如上，根據(jù)本發(fā)明，在使用熒光分析儀的水處理系統(tǒng)中，在線測量被處理水的相對熒光強度，實施活性炭、氯系試劑、臭氧、或凝集劑注入量的控制，或者膜濾裝置的運行控制，據(jù)此可降低三鹵甲烷的生成能力，實現(xiàn)過量注入的控制和最佳運行控制。
權(quán)利要求
1.一種使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)，其特征是具有分離去除被處理水中混濁物成分的膜濾裝置、測定被處理水相對熒光強度的熒光分析儀、和根據(jù)熒光分析儀的測定值進行控制膜裝置運行的膜濾運行控制裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1記載的使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)，其特征是在膜濾裝置的上游側(cè)和下游側(cè)設(shè)置一對熒光分析儀，膜濾運行控制裝置根據(jù)一對熒光分析儀的測定值，進行膜濾裝置的運行控制。
全文摘要
使用熒光分析儀的水處理控制系統(tǒng)包括具有活性炭注入部分(4a)的活性炭注入設(shè)備，和在活性炭注入部分(4a)的上游側(cè)設(shè)置的熒光分析儀(7)和流水流量計(6)。根據(jù)熒光分析儀(7)的測定值，活性炭注入率演算裝置(8)求出降低三鹵甲烷生成能力需要的活性炭注入率。根據(jù)該活性炭注入率和流水流量計(6)的測定值，由活性炭注入量控制裝置(9)對活性炭注入部分(4a)控制活性炭注入量。
文檔編號G06Q50/00GK1495130SQ0312493
公開日2004年5月12日 申請日期2001年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2000年11月30日
發(fā)明者村山清一, 雄, 黑川太, 太郎, 金子政雄, 二, 居安巨太郎, 惠, 田口健二, 久保貴惠, 郎, 好, 環(huán)省二郎, 平本昭, 林巧, 海賀信好 申請人:株式會社東芝