專利名稱：雙光路全反射x熒光分析儀的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種雙光路全反射X熒光分析儀。
背景技術(shù)：
全反射x熒光分析技術(shù)，是一種在x熒光分析技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展起來的全新技術(shù)，其主要特征是通過反射技術(shù)去掉在通常X熒光分析中高能散射本底的影響，提高了分析靈 敏度。x熒光分析的特點(diǎn)是不同激發(fā)源對不同的元素具有不同的靈敏度，所以為了能測 量自然界中存在的大部分元素(一般是指Na U)，就需要使用不同的激發(fā)裝置。通常 辦法是更換不同類型的激發(fā)裝置(如X光管或放射源)，來辨別不同元素，用以保證測 量精度。但是這種方法在使用中經(jīng)常需要再次調(diào)整光路，需要多次切斷電源等，在使用 上有諸多不便。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種雙光路全反射X熒光分析儀，可以使用于測試不同的元素。本發(fā)明所述的雙光路全反射x熒光分析儀，包括至少兩只不同的激發(fā)源(x光管)、上反射體、下反射體、載樣片、樣品壓環(huán)，所述的兩只不同的激發(fā)源共用同一電源并可 自動(dòng)切換。兩只激發(fā)源與載樣片和樣品壓環(huán)之間，各設(shè)有上反射體和下反射體，所述的上反射體和下反射體之間有很小間距，X射線以非常小的掠射角射入該間隙，并在上反射體和/或下反射體的反射面上產(chǎn)生全反射，最終到達(dá)被測樣品處。當(dāng)本分析儀處于工作 狀態(tài)時(shí)，所述載樣片上表面與下反射體上表面重合，樣品壓環(huán)下表面也與下反射體上表面重合。本發(fā)明所述雙光路全反射X熒光分析儀的優(yōu)點(diǎn)在于可以使用于測試不同的元素，使用中不需要多次更換激發(fā)源，多次切斷電源、調(diào)整光路等，可以明顯提高測試效率。 并使得在分析靈敏度上由于使用不同激發(fā)源而得到互補(bǔ)提高，可操作性和方便性明顯， 能更好地滿足使用者要求。 下面結(jié)合附圖對本發(fā)明溫度控制電路的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步說明。


圖l是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2是圖1的A-A剖視圖具體實(shí)施方式
實(shí)施例一本實(shí)施例所述的雙光路全反射X熒光分析儀如附圖1、 2所示，其中主要包括兩支不同的X光管(Mo靶和W靶)1、 6作為激發(fā)源，兩束X射線成一定角度0 ，e可以為o 180。，本實(shí)施例中e為60。。上述兩支不同的x光管i、 6共用同一電源并可自動(dòng)切換。同時(shí)本實(shí)施例所述的雙光路全反射X熒光分析儀還包括上反射體3、下反 射體2、載樣片5、樣品壓環(huán)4。上反射體3和下反射體2之間有很小間距，X射線以非 常小的掠射角(一般不會(huì)超過20' 30')射入，滿足產(chǎn)生全反射X射線的必要條件。 當(dāng)結(jié)構(gòu)處于工作狀態(tài)時(shí)，載樣片5上表面與下反射體2上表面重合，樣品壓環(huán)4下表面 也與下反射體2上表面重合。本實(shí)施例中，下反射體2為整體式結(jié)構(gòu)，參見附圖l，該下反射體2近似扇形，沿其 兩側(cè)邊緣邊緣處各設(shè)一反射面，分別對應(yīng)兩支不同的X光管(Mo靶和W靶)1、 6，同 時(shí)，在上述兩個(gè)反射面對應(yīng)的位置處分別設(shè)有一個(gè)上反射體3，并且上、下反射體之間 形成均勻的狹縫，這時(shí)從兩支不同的X光管(Mo靶和W靶)1、 6方向射入的滿足全反 射條件的X射線均能照射到待測樣品上，本實(shí)施例中，兩支X射線管對從Na到U的元 素測量具有良好互補(bǔ)性，從而能滿足多元素測量的要求。
權(quán)利要求
1.一種雙光路全反射X熒光分析儀，其特征在于包括至少兩只不同的X光管、上反射體、下反射體、載樣片、樣品壓環(huán)，所述的兩只不同的激發(fā)源共用同一電源并可自動(dòng)切換，兩只激發(fā)源與載樣片和樣品壓環(huán)之間，各設(shè)有上反射體和下反射體，所述的上反射體和下反射體之間有很小間距。當(dāng)本分析儀處于工作狀態(tài)時(shí)。
2. 如權(quán)利要求1所述的雙光路全反射X熒光分析儀，其特征在于所述載樣片上 表面與下反射體上表面重合，樣品壓環(huán)下表面也與下反射體上表面重合。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種雙光路全反射X熒光分析儀，包括至少兩只不同的激發(fā)源(X光管)、上反射體、下反射體、載樣片、樣品壓環(huán)，所述的兩只不同的激發(fā)源共用同一電源并可自動(dòng)切換。兩只激發(fā)源與載樣片和樣品壓環(huán)之間，各設(shè)有上反射體和下反射體，所述的上反射體和下反射體之間有很小間距，X射線以非常小的掠射角射入該間隙，并在上反射體和/或下反射體的反射面上產(chǎn)生全反射，最終到達(dá)被測樣品處。本發(fā)明所述雙光路全反射X熒光分析儀的優(yōu)點(diǎn)在于可以使用于測試不同的元素，使用中不需要多次更換激發(fā)源，多次切斷電源、調(diào)整光路等，可以明顯提高測試效率。并使得在分析靈敏度上由于使用不同激發(fā)源而得到互補(bǔ)提高，可操作性和方便性明顯，能更好地滿足使用者要求。
文檔編號(hào)G01N23/22GK101131370SQ200610111339
公開日2008年2月27日 申請日期2006年8月23日 優(yōu)先權(quán)日2006年8月23日
發(fā)明者田宇纮 申請人:北京普析通用儀器有限責(zé)任公司