載玻片染色組件以及蓋體部件的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種通常在實(shí)驗(yàn)室儀器中使用載玻片染色組件，以用于促進(jìn)樣本在載玻片上自動染色。本發(fā)明特別地但并非僅涉及一種配置為可釋放地保持蓋體部件以用于與載玻片形成反應(yīng)室的組件，并且涉及一種蓋體部件本身。
【背景技術(shù)】
[0002]免疫組織化學(xué)染色和原位核酸分析是用于組織學(xué)診斷和組織形態(tài)的研宄中的工具。免疫組織化學(xué)染色依賴于抗體與在組織樣本中的表位的特定親合力以及與僅存在于某些類型的病變細(xì)胞組織中的獨(dú)特表位特別結(jié)合的抗體的較大可用性。免疫組織化學(xué)染色涉及在組織樣本(通常是一部分)上進(jìn)行的一系列處理步驟，該組織樣本安裝在玻璃載片上，以通過選擇性染色來突出疾病狀態(tài)的某些形態(tài)指標(biāo)。
[0003]典型的處理步驟包括預(yù)先處理組織樣本，以減少非特異性結(jié)合、抗體處理和孵化、酶標(biāo)記的二次抗體處理和孵化、與酶進(jìn)行底物反應(yīng)以產(chǎn)生使具有與抗體結(jié)合的表位的組織樣本的區(qū)域凸顯的熒光團(tuán)或發(fā)色團(tuán)、對比染色等。在每個處理步驟之間，組織樣本必須被清洗以從前一個步驟中移除未反應(yīng)的殘余試劑。大部分處理步驟涉及通常在大約25°C直到大約40°C的環(huán)境溫度下進(jìn)行的孵化的周期，而細(xì)胞調(diào)節(jié)步驟通常在略微更高的溫度(例如，90°C到100°C )下進(jìn)行。原位DNA分析依賴于探針(DNA結(jié)合蛋白)與在細(xì)胞或組織樣本中的獨(dú)特的核苷酸序列的特定親合力，并且類似地涉及具有各種試劑和工藝溫度要求的一系列處理步驟。一些特定的反應(yīng)涉及高達(dá)120°C到130°C的溫度。
[0004]存在儀器和自動樣本處理系統(tǒng)，以用于上文討論的處理工藝中自動操作一些步驟。然而，涉及使用反應(yīng)室的當(dāng)前系統(tǒng)通常造成在試劑施加之間的組織樣本干燥。為了補(bǔ)償，需要持續(xù)地對組織樣本進(jìn)行水合。水合溶液在組織樣本中的自動施加要求使用儀器的機(jī)器人試劑分配系統(tǒng)。由于自動系統(tǒng)中的樣本脫水，所以需要在工藝中加入額外的處理步驟，該工藝限制了機(jī)器人分配器對在儀器上進(jìn)行其他反應(yīng)所需要的實(shí)質(zhì)性的步驟的可用性。
[0005]一些系統(tǒng)被設(shè)計成通過在引入試劑的載玻片上使用略微封閉的反應(yīng)室來減少樣本脫水。很多這樣的系統(tǒng)依賴于吸水活動，以在組織樣本之上吸入試劑。這些系統(tǒng)需要將試劑精確且準(zhǔn)確地施加于吸水目標(biāo)中，以確保試劑一致地并且均勻地流入反應(yīng)室中。如果系統(tǒng)失去校準(zhǔn)，則試劑的施加失去吸水目標(biāo)。不利的影響可很顯著的，并且其引起樣本退化、試劑浪費(fèi)、染色性差、損失儀器時間并且延遲樣本處理，這可對患者產(chǎn)生嚴(yán)重的影響。為了避免這種問題，需要合格技術(shù)人員進(jìn)行定期儀器校準(zhǔn)，來確保精確的試劑施加、一致的試劑流量以及由此一致的樣本染色。
[0006]本發(fā)明旨在在現(xiàn)有樣本染色系統(tǒng)上改進(jìn)和/或克服或緩解現(xiàn)有技術(shù)的一些問題。
[0007]本發(fā)明的包括在本文中的背景討論(包括文檔、作用、材料、裝置、物品等的引用)旨在解釋本發(fā)明的背景。由于任何暫時的權(quán)利要求的優(yōu)先權(quán)日期，所以這并非被視為許可或者暗示公布、已知所提及的任何材料或者這些材料是公知常識的一部分。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]從一個方面看，本發(fā)明提供了一種用于對基底(substrate，襯底)上的樣本進(jìn)行處理的樣本處理組件，所述組件包括:用于基底的安裝表面；以及閉合主體，該閉合主體被配置為可釋放地保持蓋體部件，該閉合主體可在打開位置與大體上閉合位置之間移動。在基底位于該組件中并且該閉合主體處于大體上閉合位置中同時保持蓋體部件時，形成反應(yīng)室，以用于對樣本進(jìn)行處理。
[0009]在一個優(yōu)選的實(shí)施方式中，組件包括至少一個第一引導(dǎo)件，至少一個第一引導(dǎo)件被配置為在將基底放置在組件中期間，在至少第一方向上限制基底(例如，病理載玻片)的運(yùn)動。理想地，雖然可采用其他形式，但至少一個第一引導(dǎo)件是在安裝表面上的突出部分。優(yōu)選地，還提供了位于安裝表面上的至少一個第二引導(dǎo)件。第二引導(dǎo)件在與第一方向不同的第二方向上限制基底的運(yùn)動。通常，第一方向設(shè)置成與第二方向垂直。理想地，至少一個第二引導(dǎo)件是突出部分，該突出部分成形為與蓋體部件中的相應(yīng)凹口配合。在使用期間，至少一個第二引導(dǎo)件與蓋體部件中的相應(yīng)凹口配合，以用于蓋體部件的最佳對準(zhǔn)，從而用于與基底表面形成反應(yīng)室。反應(yīng)室可由在安裝表面上的基底/載玻片或者在適當(dāng)位置中不具有載玻片的安裝表面形成。在前一種布置中，反應(yīng)室通過分配到反應(yīng)室中的試劑而促進(jìn)載玻片上的樣品的受控處理。在后一種設(shè)置中，反應(yīng)室通過分配到反應(yīng)室中的試劑促進(jìn)清洗蓋體部件。
[0010]優(yōu)選地，該組件包括關(guān)閉偏置裝置，以用于施加偏置力，這樣使得閉合主體在大體上閉合位置中偏置。打開偏置裝置還可被設(shè)置成用于施加打開偏置力。優(yōu)選地，關(guān)閉偏置裝置被配置為施加比打開偏置裝置更大的偏置力。
[0011]在一些實(shí)施方式中，該組件包括具有棘爪的阻止臂，該棘爪被配置為與閉合主體中的凹槽配合，以將閉合主體保留在閉合位置中。在這種布置中，承載表面被設(shè)置為朝著阻止臂的一端，使得在向承載表面施加打開力時，從閉合主體內(nèi)的凹槽中釋放棘爪，并且將閉合主體移動到打開位置。
[0012]能移除殼體可設(shè)置在閉合主體上，以隱藏位于其中的操作部件。理想地，能移除殼體包括輪廓、防護(hù)罩或夾子，能移除殼體被配置為在閉合主體內(nèi)對管道進(jìn)行定向。
[0013]力分布部件可被設(shè)置成用于分布施加于閉合主體中的力，使得大體上均勻地施加該力，以實(shí)現(xiàn)在反應(yīng)室周圍大體上均勾的密封。熱電模塊(thermo module)也可與組件的安裝表面耦接。熱電模塊可被操作成改變反應(yīng)室中的溫度，以加速或影響處理步驟。理想地，熱電模塊處于嵌入包含該組件的儀器中的控制器的控制下?？刂破鬟€可控制:組件的打開和關(guān)閉、在其中放置基底、分配試劑、施加正壓和負(fù)壓等。
[0014]在一個優(yōu)選的實(shí)施方式中，閉合主體包括第一流體流動路徑，第一流體流動路徑被配置為在由閉合主體保持時用于與在蓋體部件中的流體端口流體連通。在組件使用期間，第一流動路徑允許在反應(yīng)室與流體源之間進(jìn)行流體傳輸，該流體源與樣本處理組件相關(guān)聯(lián)。
[0015]理想地，耦接裝置被設(shè)置成用于將蓋體部件可釋放地連接至閉合主體。耦接裝置可包括位于閉合主體和蓋體部件中的一個上的一個或多個突出部分，以用于與位于閉合主體與蓋體部件中的另一個上的表面接合，在閉合主體與蓋體部件之間形成可釋放的耦接件。閉合主體和蓋體部件中的一個還可包括釋放片，以用于釋放耦接件，從而能夠從閉合主體中釋放蓋體部件?？商鎿Q地，耦接裝置可包括軌道或?qū)蛲ǖ阑蚱渌b置，以用于滑動地耦接蓋體部件和閉合主體。
[0016]在一些實(shí)施方式中，該組件的安裝表面包括一個或多個凹槽。理想地，凹槽在由閉合主體保持在大體上閉合位置中時與蓋體部件的至少一部分內(nèi)壁共線地設(shè)置。在蓋體部件的清洗階段使用組件期間，這些凹槽的定位促進(jìn)從至少一部分蓋體部件壁部中清潔試劑。安裝表面還可包括開口，該開口可與第二流體流動路徑耦接，以促進(jìn)在開口與流體源之間進(jìn)行流體傳輸。第二流體流動路徑可用于在安裝表面上保持基底，例如，在使用之后打開組件時，通過安裝表面開口將真空施加到基底的底面中。還可用于在蓋體部件清洗階段之后，從形成在安裝表面與蓋體部件之間的腔室中輸送或取出清洗試劑。
[0017]從另一個方面看，本發(fā)明提供了一種用于在樣本處理組件中使用的蓋體部件，例如，上面提到的類型的蓋體部件。該蓋體部件具有:第一側(cè)；與第一側(cè)相反的第二側(cè)；位于第一側(cè)上的空隙，該孔隙在蓋體部件與基底接觸時形成反應(yīng)室；第一流體流動端口，用于接收進(jìn)入反應(yīng)室內(nèi)的試劑；以及至少一個凹口。該蓋體部件被配置為與樣本處理組件的閉合主體可釋放地接合，并且至少一個凹口成形為與樣本處理組件的安裝表面和樣本處理組件的閉合主體中的一個上的相應(yīng)突出部分配合，使得在使用中，凹口和突出部分將蓋體部件引導(dǎo)進(jìn)入在組件中的位置，以與基底形成反應(yīng)室。
[0018]從又一個方面看，本發(fā)明提供了一種用于在樣本處理組件中使用的蓋體部件，該蓋體部件具有:第一側(cè)；與第一側(cè)相反的第二側(cè)；位于第一側(cè)上的空隙，該空隙在蓋體部件與基底接觸時形成反應(yīng)室；以及位于第一側(cè)上的可壓縮部件，可壓縮部件被配置為在使用中圍繞反應(yīng)室形成密封，可壓縮部件材料進(jìn)一步圍繞蓋體部件中的流體流動端口延伸，并且在蓋體部件的第二側(cè)上圍繞流體流動端口的開口形成密封環(huán)。該蓋體部件被配置為與樣本處理組件的閉合主體可釋放地接合。在一個實(shí)施方式中，空隙由可壓縮部件限定。在另一個實(shí)施方式中，空隙至少部分地由蓋體部件的第一側(cè)中的空隙部分或腔體限定。
[0019]與蓋體部件一起形成反應(yīng)室的基底可為載玻片，例如，組織學(xué)載玻片(例如，用于樣本處理步驟)或者組件的安裝表面(例如，用于蓋體部件的清洗階段)。理想地，蓋體部件具有兩個或更多個凹口。
[0020]蓋體部件優(yōu)選地至少部分地由柔性材料制成。蓋體部件至少部分地由選自包括以下元件的組中的材料制成或者涂覆:聚碳酸酯、聚甲醛(乙縮醛)、聚醚醚酮(PEEK)、包括高密度聚乙烯(HDPE)和超高分子量聚乙烯(UHMW-PE)的聚乙烯、包括鐵氟龍PE的鐵氟龍、包括氟化乙烯丙烯(FEP)的聚丙烯、以及環(huán)烯烴共聚物(COC)。
[0021 ] 在一些實(shí)施方式中，蓋體部件包括至少一個偏置臂。偏置臂被配置為使得在樣本處理組件的使用中時，使偏置臂與在閉合主體上的參考部件鄰接，并且在閉合主體的最終關(guān)閉期間，朝著組件上的突出部分推動蓋體部件。理想地，在閉合的最終階段，兩個偏置臂朝著與在蓋體部件中的兩個相應(yīng)凹口配合的位于安裝表面上的突出部分推動蓋體部件，以用于在使用之前，在組件中最佳地對準(zhǔn)蓋體部件。
[0022]優(yōu)選地，蓋體部件包括耦接裝置，以用于使蓋體部件與樣本處理設(shè)備的閉合主體可釋放地耦接。還可提供用于釋放耦接裝置的翼片。在一個優(yōu)選的實(shí)施方式中，耦接裝置適合于可滑動地耦接蓋體部件和閉合主體。
[0023]在一個或多個實(shí)施方式中，蓋體部件包括位于第一側(cè)上的釋放部件。釋放部件可采用舌片或彈簧釋放部件的形式，其被配置為幫助使蓋體部件與基底分離，這克服了表面張力或靜摩擦力的任何力，在處理階段之后打開組件時，這些力可另外從安裝表面中提起基底。在其他布置中，釋放部件可位于使用蓋體部件的閉合主體上。
[0024]在一個實(shí)施方式中，蓋體部件包括貯存器，貯存器被配置為接收和儲存一些液體，以充分用于多個處理步驟。流體入口被設(shè)置成用于使流