本發(fā)明涉及材料性能測試技術領域，特別是涉及一種材料性能測試裝置及制作方法。

背景技術：

led(light-emittingdiode，發(fā)光二極管)已普遍應用在各行各業(yè)，隨著技術的發(fā)展進步，相繼出現(xiàn)了oled(organiclight-emittingdiode，有機發(fā)光二極管)和woled(whiteorganiclight-emittingdiode，白光有機發(fā)光二極管)，目前l(fā)ed、oled和woled已經(jīng)被廣泛應用到各行各業(yè)，包括作為指示燈或者應用到臺燈、電視機、顯示面板、顯示器中等，因此led的發(fā)光效果尤為重要。

led、oled和woled在制作過程中需要用到一種像素定義材料，該材料的性能好壞直接關系到最終產(chǎn)品led、oled和woled的發(fā)光效果，特別是該材料的含氧量和含水量情況，因此對即將使用在led、oled和woled產(chǎn)品上的像素定義材料都需要檢測。

制作材料檢測裝置的過程中首先在一基板上通過曝光顯影蝕刻形成金屬柵極，然后在基板上通過曝光顯影形成一層彩色濾波層和/或絕緣層，以配合測試像素定義層材料。在彩色濾波層和/或絕緣層形成過程中，需要先在基板和金屬柵極上整面涂覆有機光阻形成一層膜，然后通過曝光顯影將金屬柵極上的有機光阻材料及基板上多余的有機光阻材料去除，留下有用的部分形成彩色濾波片和/或絕緣層。由于有機光阻在金屬上的附著力差，經(jīng)常造成有機光阻膜破，影響有機光阻膜厚的均勻性，從而導致后續(xù)曝光顯影后形成的彩色濾波片和/或絕緣層圖案不理想，對測試裝置的測試效果影響甚大。

技術實現(xiàn)要素：

基于現(xiàn)有的材料檢測裝置存在有機光阻材料在金屬上的附著力差，導致曝光顯影后的彩色濾波片和/或絕緣層圖案不理想的問題，本發(fā)明提供一種材料性能測試裝置及制作方法。

本發(fā)明提供一種材料性能測試裝置，用于測試材料的性能，包括：

基板；

金屬柵極，設置于所述基板一側；

輔助層，設置于所述金屬柵極背對所述基板一側；

功能層，包括有機光阻材料，設置在所述基板的具有所述金屬柵極的一側，所述功能層在形成過程中，所述有機光阻至少有一段時間附著在所述輔助層上，所述功能層用于配合發(fā)光器件檢測材料的性能。

本發(fā)明還提供一種材料性能測試裝置的制作方法，包括：

提供一基板；

在所述基板上沉積一層金屬材料，通過曝光顯影蝕刻得到金屬柵極；

在所述基板及所述金屬柵極上沉淀一層輔助材料，通過曝光顯影蝕刻在所述金屬柵極上得到輔助層；

在所述基板及所述金屬柵極上沉淀一層有機光阻材料，通過曝光顯影在所述基板的具有所述金屬柵極的一側形成功能層。

本發(fā)明的上述材料性能測試裝置及制作方法在金屬柵極表面上形成一輔助層，該輔助層為非金屬材料，因此在制作功能層的過程中，有機光阻沉淀在基板和輔助層上，由于有機光阻在輔助層上的附著力強，因此沉淀的有機光阻膜均勻，進而使得在曝光顯影后得到理想的功能層，進而保證材料性能測試裝置的測試效果。

附圖說明

圖1是本發(fā)明材料性能測試裝置一實施例的結構示意圖；

圖2是本發(fā)明材料性能測試裝置另一實施例的結構示意圖；

圖3是本發(fā)明材料性能測試裝置又一實施例的結構示意圖；

圖4是發(fā)明材料性能測試裝置再一實施例的結構示意圖；

圖5是圖4實施例對應的其他實施例中輔助孔結構示意圖；

圖6是本發(fā)明材料性能測試裝置制作方法一實施例的流程示意圖；

圖7是本發(fā)明材料性能測試裝置制作方法另一實施例的流程示意圖；

圖8是本發(fā)明材料性能測試裝置制作方法又一實施例的流程示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖詳細講解材料性能測試裝置及該裝置的制作方法。

參見圖1，圖1是本發(fā)明的材料性能測試裝置一實施例的結構示意圖，該材料性能測試裝置包括基板100，設置在基板100一側的金屬柵極200，形成在金屬柵極200背對基板100一側的輔助層300，以及通過曝光顯影形成在基板100具有金屬柵極200的一側上的功能層400。

具體的，金屬柵極200位于基板100與輔助層300之間，金屬柵極200用于與其他部件電連接。功能層400由有機光阻材料制成，用于配合發(fā)光器件檢測材料的性能，功能層400在形成過程中，有機光阻至少有一段時間附著在輔助層300上。更具體的，功能層400在形成在基板100上的過程為：有機光阻正面涂覆在基板100和輔助層300上，然后通過不同的曝光量，將金屬柵極300上的有機光阻材料及基板100上多余的有機光阻材料去除，留下有用的圖案形成功能層400，如圖1所示。以上方案中，功能層400在形成過程中，位于金屬柵極200所在位置，有機光阻涂覆在輔助層300上，沒有直接與金屬柵極200接觸，由于有機光阻在輔助層300上的附著力強，因此沉淀的有機光阻膜均勻，進而使得在曝光顯影后得到理想圖案的功能層400，進而保證材料性能測試裝置的測試效果。

優(yōu)選地，金屬柵極200位于基板100上靠近邊緣的位置，功能層400位于基板100的中間位置。

優(yōu)選地，基板100可以是透明的玻璃基板或者石英基板。

可以理解的，輔助層300為非金屬層。優(yōu)選地，輔助層300可以是單層的sinx或者siox，也可以是sinx和siox的混合物，還可以是一層sinx和一層siox。

參見圖2，一實施例中，輔助層300包括第一本體301和第二本體302，第一本體301設置于金屬柵極200背對基板100一側上，第二本體302設置于基板100的具有金屬柵極200的一側上，第二本體302位于功能層400和基板100之間。由于有機光阻在輔助層300上的附著力強，因此在基板100上設置第二本體302能夠保證在形成功能層的過程中有機光阻能夠整面非常均勻地涂覆，進而保證最終形成理想圖案的功能層400，確保材料性能測試裝置的測試效果。

材料性能測試裝置在對材料測試的原理是：將被測試材料形成在材料性能測試裝置中，并與發(fā)光器件連接，發(fā)光器件發(fā)光打到基板100上，如果發(fā)光效果理想(主要考慮發(fā)光的色彩、亮度和清晰度)說明被測材料的性能好。

參見圖3，優(yōu)選地，功能層400包括彩色濾波層401。彩色濾波層401主要起到濾光的作用，如果發(fā)光器件所發(fā)的光為白光，比如woled，則需要與彩色濾波層401進行配合，通過彩色濾波層401是白光分解成彩色光，進而觀察發(fā)光效果。具體的，彩色濾波層401由丙烯酸樹脂和/或壓克力樹脂制成。

另一實施例中，功能層400還包括絕緣層402，彩色濾波層401位于基板100與絕緣層402之間。絕緣層402起到絕緣和隔離的作用，一般情況下，如果彩色濾波層401接觸到與金屬柵極200連接的部件會影響彩色濾波層402的濾波效果，同時也會影響與金屬柵極200連接的部件的工作過程，因此在彩色濾波層401上設置一層絕緣層402能夠保證與金屬柵極200連接的部件及彩色濾波層401各自的工作性能。優(yōu)選地，絕緣層402由聚酰亞胺和/或丙烯酸材料制成。

參見圖4，一實施例中，本發(fā)明的材料性能測試裝置還包括依次形成在輔助層300及功能層400上的陽極層500、被測材料層700、發(fā)光材料層600及陰極層800，其中陽極層500與金屬柵極200電連接，被測材料層700位于陽極層500和陰極層800之間，并與陽極層500和陰極層800之間構成空腔900，供以設置發(fā)光材料層600，發(fā)光材料層600容置在空腔900中并與被測材料層700抵接。以下進一步闡述本實施例中材料性能測試裝置的工作原理：金屬柵:200與外部電源(圖未示)連接，然后傳遞給陽極層500，使陽極層500及陰極層800之間形成電壓差作用在發(fā)光材料層600上，使發(fā)光材料層600發(fā)光，光線打在基板100上，以觀察發(fā)光效果。由于被測材料層700與發(fā)光材料層600抵接，進而直接影響發(fā)光材料層600的發(fā)光效果，因此可以從發(fā)光材料層600的發(fā)光效果檢測出被測材料層700性能的好壞。

本實施例中金屬柵極200包括兩塊，位于基板100上靠近邊緣的位置，將基板劃分為金屬區(qū)101、中央?yún)^(qū)102及外圍區(qū)103。功能層400也形成在基板100上，位于兩塊金屬柵極200之間的中央?yún)^(qū)102，陽極層500位于金屬區(qū)101和中央?yún)^(qū)102，同時覆蓋在輔助層300和中央?yún)^(qū)102的部分基板100和功能層400之上。發(fā)光材料600層于中央?yún)^(qū)102，形成在陽極層500上。陰極層800位于金屬區(qū)101、中央?yún)^(qū)102及外圍區(qū)103，發(fā)光材料層600位于陽極層500和陰極層800之間。被測材料層700位于外圍區(qū)103、金屬區(qū)101及部分中央?yún)^(qū)102，在外圍區(qū)103，被測材料層700位于基板100與陰極800之間，在金屬區(qū)101及部分中央?yún)^(qū)102，被測材料層700位于陽極500與陰極800之間。以上結構保證了產(chǎn)品的整體外觀結構整潔，簡化了加工工藝?？梢岳斫獾模谄渌麑嵤├?，陰極層800至少形成在中央?yún)^(qū)102即可，只要能保證陽極層500和陰極層800之間能形成電壓差供給發(fā)光材料層600即可。在其他實施例中，被測材料層700至少有一部分形成在陰極層800與陽極層500之間，并與發(fā)光材料層600抵接即可。

具體的，陽極層500上設有一與金屬柵極200電連接的延伸體501，本實施例中，延伸體501與金屬柵極200的側面連接，此時輔助層300僅包括位于金屬柵極200上方的第一本體301，或者第二本體302與第一本體301斷開，以在金屬柵極200的側面位置空出間隙，用于容置陽極層500的延伸體501，實現(xiàn)陽極層500與金屬柵極200電連接。

參見圖5，另一實施例中，第一本體301上開設一與金屬柵極200連通的輔助孔303，延伸體501通過輔助孔303與金屬柵極200抵接，進而實現(xiàn)陽極層500與金屬柵極200電連接。

本發(fā)明的材料性能測試裝置通過在金屬柵極200上形成一輔助層300，后續(xù)功能層400在形成過程中，位于金屬柵極200所在位置，有機光阻涂覆在輔助層300上，沒有直接與金屬柵極200接觸。由于有機光阻在輔助層300上的附著力強，因此沉淀的有機光阻膜均勻，進而使得在曝光顯影后得到理想圖案的功能層400，進而保證材料性能測試裝置的測試效果。

本發(fā)明還提供一種材料性能測試裝置的制作方法。

參見圖6和圖1，為本發(fā)明材料性能測試裝置的制作方法一實施例的流程示意圖，該方法包括：

s101：提供一基板100。

優(yōu)選地，該基板100可以是透明的玻璃基板或者石英基板。

s102：在基板100上沉積一層金屬材料，通過曝光顯影蝕刻得到金屬柵極200。

其中，在基板100上沉淀一層金屬材料，一般采用物理沉淀或者化學氣相沉淀的方法，然后在金屬材料層上涂覆一層光蝕刻膠，然后根據(jù)不同的曝光量，經(jīng)過曝光顯影得到想要得到的金屬柵極大小的光蝕刻膠附在金屬材料上，其他即將去除的金屬材料表面裸露，再然后通過蝕刻工藝將表面裸露的金屬蝕刻掉，留下光蝕刻膠保護下的金屬材料形成金屬柵極200。

s103：在基板100及金屬柵極200上沉積一層輔助材料，通過曝光顯影蝕刻在金屬柵極200上得到輔助層300。

沉積曝光顯影蝕刻的過程與形成金屬柵極200的過程一樣，此不贅述。其中，輔助層300可以是僅僅形成在金屬柵極200上，也可以還包括形成基板100上，位于金屬柵極200側面的部分。

s104：在基板100及金屬柵極200上涂覆一層有機光阻材料，通過曝光顯影在基板100的一表面形成功能層400。

其中，有機光阻材料類似于步驟s101中所用到的光蝕刻膠，有機光阻正面涂覆在基板100及金屬柵極200上，然后根據(jù)想要得到的功能層的圖案設定不同的曝光量，然后通過曝光顯影將位于金屬柵極200上的及其他不需要的部分有機光阻去除掉，最終得到特定圖案的功能層400。具體的，功能層400為彩色濾波層，主要用于配合其他發(fā)光器件檢測被測材料的性能，或者包括彩色濾波層和絕緣層。

區(qū)別于現(xiàn)有技術，本實施的制作方法得到的材料性能測試裝置在制作過程中，先在金屬柵極200上形成一輔助層300，在步驟s104中功能層400的形成過程中，位于金屬柵極200所在位置的有機光阻涂覆在輔助層300上，沒有直接與金屬柵極200接觸，由于有機光阻在輔助層300上的附著力強，因此沉淀的有機光阻膜均勻，進而使得在曝光顯影后得到理想圖案的功能層400，進而保證材料性能測試裝置的測試效果。

參見圖7和圖4，為本發(fā)明材料性能測試裝置的制作方法另一實施例的流程示意圖，該方法包括：

s201：提供一基板100。

s202：在基板100上沉積一層金屬材料，通過曝光顯影蝕刻得到金屬柵極200。

s203：在基板100及金屬柵極200上沉積一層輔助材料，通過曝光顯影蝕刻在金屬柵極200上得到輔助層300。

s204：在基板及金屬柵極200上涂覆一層有機光阻材料，通過曝光顯影在基板100的一表面形成功能層400。

s205：在輔助層300和功能層400背對一面形成陽極層500，陽極層500與金屬柵極200連接。

其中陽極層500形成的工藝與形成金屬柵極200的過程一樣，此不贅述。

s206：在陽極層500背對基板100一側依次形成被測材料層700和發(fā)光材料層600，被測材料層700與發(fā)光材料層600抵接。

其中，被測材料層700通過沉淀、曝光顯影、蝕刻工藝形成，具體的，先在陽極層500上沉淀被測材料，通過曝光顯影后將陽極層500上的至少一部分被測材料蝕刻掉，以裸露出陽極層500，供以蒸鍍發(fā)光材料層600?；蛘呦葘l(fā)光材料層600蒸鍍在陽極層500上，然后再將被測材料沉淀在陽極層500和發(fā)光材料層600上，然后將發(fā)光材料層600上對應的被測材料蝕刻掉，為步驟s207做好準備。

s207：至少在發(fā)光材料層600背對陽極層500一側形成陰極層800。

通過蒸鍍的方式將陰極層800蒸鍍在發(fā)光材料層600上。在其他實施例中，陰極層800也可以蒸鍍延伸至發(fā)光材料層700對應的以外區(qū)域，例如延伸至被測材料層700上，以使整個裝置外觀更加平整。

參見圖8、圖4和圖5，為本發(fā)明材料性能測試裝置的制作方法又一實施例的流程示意圖，該方法包括：

s301：提供一基板100。

s302：在基板100上沉積一層金屬材料，通過曝光顯影蝕刻得到金屬柵極200。

s303：在基板100及金屬柵極200上沉積一層輔助材料，通過曝光顯影蝕刻在金屬柵極200上得到輔助層300。

s304：在輔助層300上蝕刻一與金屬柵極200連通的輔助孔303，供陽極層500通過輔助孔303與金屬柵極200連接。

在其他實施例中，在輔助層300上蝕刻一與金屬柵極200連通的輔助孔303的步驟也可以在形成功能層400的步驟之后，只要在s306步驟形成陽極層500之前完成即可?？梢岳斫獾模谄渌麑嵤├?，也可以不蝕刻所述的輔助孔303，而是在金屬柵極200的側面留一空隙，以供形成陽極層500的過程中沉淀陽極材料時填充，進而實現(xiàn)陽極層500與金屬柵極200電連接。具體的，上述間隙可以形成在金屬柵極200的側面與功能層400之間，或者是當輔助層400包括覆蓋在基板上的第二本體302時，輔助孔303蝕刻在第二本體302上位于金屬柵極200的側面位置，輔助孔303蝕刻形成之后剛好把金屬柵極200的側面裸露出來，即金屬柵極200的一側面作為輔助孔303的內(nèi)壁。

s305：在基板100及金屬柵極200上涂覆一層有機光阻材料，通過曝光顯影在基板100的具有金屬柵極200的一側形成功能層400。

s306：在輔助層300和功能層400上形成陽極層500，陽極層500與金屬柵極200電連接。

本實施例中，制作陽極層500的材料在沉淀的時候填充輔助孔303，以實現(xiàn)陽極層500與金屬柵極200電連接。

s307：在陽極層500背對基板100一側形成被測材料層700和發(fā)光材料層600，被測材料層700與發(fā)光材料層600抵接。

s308：至少在發(fā)光材料層600背對陽極層500一側形成陰極層800。

以上所述僅為本發(fā)明的實施方式，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。