本發(fā)明涉及晶體微觀結(jié)構(gòu)的表征方法技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種分析掃描式勞厄衍射圖譜，對(duì)掃描式勞厄衍射圖譜中衍射峰進(jìn)行標(biāo)定的同時(shí)獲得掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)掃描區(qū)域的晶/相界分部信息的方法。

背景技術(shù)：

材料的微觀結(jié)構(gòu)對(duì)材料的力學(xué)性能有顯著的影響，從而影響材料的服役使用。因此對(duì)材料的微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行表征對(duì)研究材料的力學(xué)行為、失效機(jī)制從而改進(jìn)相關(guān)材料的材料加工工藝等具有重要意義?，F(xiàn)對(duì)材料微觀結(jié)構(gòu)的常用表征方法有光學(xué)顯微鏡、掃描電子顯微鏡(sem)、透射電子顯微鏡(tem)、電子背散射衍射(ebsd)，傳統(tǒng)的x射線(xiàn)衍射(xrd)、中子衍射等。

金相顯微法使用光學(xué)顯微鏡觀察材料的表面形貌。但由于光學(xué)顯微鏡的分辨率限制，無(wú)法實(shí)現(xiàn)對(duì)材料微觀結(jié)構(gòu)的觀測(cè)。掃描電子顯微鏡(sem)的觀測(cè)通常有兩種信號(hào)源，其分別是二次電子和背散射電子。其中二次電子信號(hào)對(duì)樣品表面形貌敏感、背散射電子對(duì)樣品的元素分布敏感，而對(duì)于小尺度下的結(jié)構(gòu)，如位錯(cuò)、小角晶界等，該方法難以區(qū)分。而傳統(tǒng)的xrd和中子衍射的空間分辨率也不足以分辨晶體取向、缺陷、孿晶等材料微觀結(jié)構(gòu)特征。雖然透射電子顯微鏡(tem)分辨率較高，但其效率較低，樣品的制備復(fù)雜,觀測(cè)區(qū)域較小，難以進(jìn)行統(tǒng)計(jì)觀測(cè)，對(duì)應(yīng)變的分辨能力較弱。

掃描式勞厄衍射技術(shù)(scanninglauediffraction)是將同步輻射光源作為x射線(xiàn)源，具有空間分辨率高(亞微米級(jí)別)(kunz,m.,etal.,adedicatedsuperbendx-raymicrodiffractionbeamlineformaterials,geo-,andenvironmentalsciencesattheadvancedlightsource[j],rev.sci.instrum.,2009)，角分辨率高(～0.01°)(tamura,n.,etal.,highspatialresolutiongrainorientationandstrainmappinginthinfilmsusingpolychromaticsubmicronx-raydiffraction[j],appl.phys.lett.,2002)，穿透力能力強(qiáng)、樣品制備簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn)。而掃描式勞厄衍射技術(shù)的這些優(yōu)點(diǎn)，對(duì)上述各種材料表征技術(shù)的不足是極大的補(bǔ)充，從而體現(xiàn)了該技術(shù)在材料分析表征領(lǐng)域的重要性。

但掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)需要對(duì)樣品實(shí)驗(yàn)區(qū)域進(jìn)行駐點(diǎn)掃描，得到海量(少則幾千張、多則數(shù)十萬(wàn)張)衍射圖譜。現(xiàn)有的對(duì)衍射圖譜的處理技術(shù)，是對(duì)每張圖譜獨(dú)立地進(jìn)行指標(biāo)化計(jì)算。而后再進(jìn)行其他分析。而這個(gè)過(guò)程計(jì)算量巨大、極其耗時(shí)。在集群計(jì)算機(jī)上進(jìn)行計(jì)算，尚需少則數(shù)十小時(shí)、多則數(shù)周時(shí)間。而這一劣勢(shì)嚴(yán)重限制的該技術(shù)的應(yīng)用。

實(shí)際上，由于晶體中同一晶粒內(nèi)個(gè)點(diǎn)的取向差別極小，對(duì)于同一晶粒內(nèi)的點(diǎn)，其掃描式勞厄衍射圖譜有極大的相似性。故對(duì)每個(gè)晶粒只選取其中的某幾個(gè)點(diǎn)進(jìn)行指標(biāo)化計(jì)算，通過(guò)尋找并利用屬于同一晶粒的點(diǎn)對(duì)應(yīng)的衍射圖譜的相似性，即可完成對(duì)這些衍射圖譜的指標(biāo)化處理。這使得實(shí)際進(jìn)行的指標(biāo)化計(jì)算的次數(shù)大幅減小，從而極大地縮短了整個(gè)數(shù)據(jù)處理過(guò)程的耗時(shí)，并且節(jié)省了計(jì)算機(jī)資源。不僅如此，通過(guò)這一方法，在完成各衍射圖譜的指標(biāo)化處理的同時(shí)，還獲得了掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)掃描區(qū)域的晶/相界分布，對(duì)后續(xù)的分析過(guò)程帶來(lái)了方便。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為滿(mǎn)足上述技術(shù)要求，本發(fā)明旨在提供一種基于峰間夾角比對(duì)的掃描式勞厄衍射圖譜分析方法，本方法與當(dāng)前的其他對(duì)掃描式勞厄衍射圖譜的分析方法相比，具有計(jì)算量小，耗時(shí)短的特點(diǎn)。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種基于峰間夾角比對(duì)的掃描式勞厄衍射圖譜分析方法，包括如下步驟：

步驟一：對(duì)掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)(scanninglauediffraction)所得的所有勞厄衍射圖譜進(jìn)行尋峰操作，得到每張勞厄衍射圖譜上所有衍射峰的位置和積分強(qiáng)度；

步驟二：計(jì)算指標(biāo)化點(diǎn)的勞厄衍射圖譜上所有被標(biāo)定衍射峰的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列ds,i，包括如下具體操作步驟：

1)對(duì)指標(biāo)化點(diǎn)對(duì)應(yīng)的勞厄衍射圖譜進(jìn)行指標(biāo)化計(jì)算，得到所有被標(biāo)定衍射峰的位置、積分強(qiáng)度和晶面米勒指數(shù)(millerindices)；取適當(dāng)?shù)挠?jì)算包含峰數(shù)n(一般n取總衍射峰數(shù)的八分之一)，根據(jù)峰的積分強(qiáng)度，計(jì)算所有被標(biāo)定衍射峰中積分強(qiáng)度最高的n個(gè)被標(biāo)定衍射峰在探測(cè)器坐標(biāo)系下的方向向量ks,i(1≤i≤n)；

2)對(duì)方向向量ks,i，計(jì)算其與其他的方向向量的夾角，得到由(n-1)個(gè)夾角組成的標(biāo)準(zhǔn)角度差序列ds,i(1≤i≤n)；有

步驟三：判定掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)區(qū)域內(nèi)兩點(diǎn)是否為同一晶粒，包括如下具體操作步驟：

1)定義標(biāo)準(zhǔn)角度差序列ds,i已知的點(diǎn)為比較原點(diǎn)，標(biāo)準(zhǔn)角度差序列ds,i未知的點(diǎn)為被比較點(diǎn)；

2)取適當(dāng)?shù)臄U(kuò)展包含峰數(shù)δn(δn一般取n的四分之一)，根據(jù)衍射峰的積分強(qiáng)度，計(jì)算被比較點(diǎn)的勞厄衍射圖譜中所有衍射峰中最強(qiáng)的(n+δn)個(gè)衍射峰在探測(cè)器坐標(biāo)系下的方向向量ki(1≤i≤n+δn)；

3)對(duì)方向向量ki，計(jì)算其與其他的方向向量的夾角，得到由(n+δn-1)個(gè)夾角組成的比較角度差序列di(1≤i≤n+δn)；有

4)確定對(duì)于比較原點(diǎn)的每個(gè)標(biāo)準(zhǔn)角度差序列ds,i，是否存在一個(gè)被比較點(diǎn)的比較角度差序列di與之對(duì)應(yīng)；其具體方法如下：

a)定義被比較點(diǎn)的比較角度差序列di中的組元為δi,j。將其與比較原點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)角度差序列ds,i中的組元δs,i,j進(jìn)行比較。若

認(rèn)為δi,j與δs,i,j相等。一般t1取0.05；

b)假設(shè)di與ds,i中相等的組元數(shù)為mi，若滿(mǎn)足

mi≥t2·n

認(rèn)為di與ds,i對(duì)應(yīng)，且其對(duì)應(yīng)的峰也相對(duì)應(yīng)；一般取t2取0.8；

5)假設(shè)比較原點(diǎn)和被比較點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的di與ds,i的總數(shù)為s，若滿(mǎn)足

s≥t3·n

認(rèn)為比較原點(diǎn)與被比較點(diǎn)屬于同一晶粒。并將比較原點(diǎn)中被標(biāo)定衍射峰的晶面米勒指數(shù)賦給被比較點(diǎn)中相對(duì)應(yīng)的衍射峰，同時(shí)將被賦予晶面米勒指數(shù)也定義為被標(biāo)定衍射峰；若不滿(mǎn)足，則比較原點(diǎn)和被比較點(diǎn)不屬于同一晶粒。一般t3取0.9；

步驟四：從掃描式遍歷法和輻射式遍歷法中選擇一種作為對(duì)掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)掃描區(qū)域內(nèi)所有點(diǎn)的遍歷方法；在開(kāi)始遍歷之前將整個(gè)區(qū)域的邊界置為晶界；而后依據(jù)選定的遍歷方法完成對(duì)掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)區(qū)域內(nèi)所有點(diǎn)的遍歷，并得到這些點(diǎn)對(duì)應(yīng)衍射圖譜上所有被標(biāo)定衍射峰的晶面米勒指數(shù)。

技術(shù)方案中步驟四中所述的掃描式遍歷法包括如下具體步驟：

步驟1：對(duì)進(jìn)行掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)的整個(gè)實(shí)驗(yàn)區(qū)域按列掃描遍歷；定義在進(jìn)行的列的掃描方向?yàn)榍斑M(jìn)方向，向下一列的換列方向?yàn)榕粤蟹较颍槐闅v過(guò)程從區(qū)域的某一個(gè)角開(kāi)始；

步驟2：遍歷開(kāi)始后進(jìn)行到區(qū)域中某一點(diǎn)后，判斷該點(diǎn)前進(jìn)方向的反方向和旁列方向的反方向的的相鄰點(diǎn)是否被置為晶界，而后區(qū)分以下幾種情況進(jìn)行不同操作：

1)若前進(jìn)方向的反方向和旁列方向的反方向相鄰點(diǎn)都為晶界，認(rèn)為該點(diǎn)為指標(biāo)化點(diǎn)，對(duì)計(jì)算該點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列ds,i；

2)若前進(jìn)方向反方向的相鄰點(diǎn)為晶界，旁列方向反方向的相鄰點(diǎn)不為晶界，認(rèn)為該點(diǎn)和前進(jìn)方向反方向的相鄰點(diǎn)屬于同一晶粒，該點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列ds,i亦與前進(jìn)方向反方向的相鄰點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列相同；

3)若前進(jìn)方向反方向的相鄰點(diǎn)不為晶界，旁列方向反方向的相鄰點(diǎn)為晶界，認(rèn)為該點(diǎn)和旁列方向反方向的相鄰點(diǎn)屬于同一晶粒，該點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列ds,i亦與旁列方向反方向的相鄰點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列相同；

4)若前進(jìn)方向的反方向和旁列方向的反方向相鄰點(diǎn)都不為晶界，認(rèn)為該點(diǎn)和旁列方向反方向的相鄰點(diǎn)屬于同一晶粒，該點(diǎn)標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列ds,i取與旁列方向反方向的相鄰點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列相同；

步驟3：運(yùn)用技術(shù)方案中步驟三所定義的方法分別判斷該點(diǎn)前進(jìn)方向和旁列方向相鄰點(diǎn)與該點(diǎn)是否屬于同一晶粒；若其中存在一點(diǎn)與其不為同一晶粒，則將該點(diǎn)置為晶界；

步驟4：根據(jù)步驟1確定的掃描方向，計(jì)算下一個(gè)點(diǎn)，重復(fù)步驟2和步驟3，直到完成對(duì)掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)區(qū)域內(nèi)所有點(diǎn)的遍歷。

技術(shù)方案中步驟四中所述的輻射式遍歷法包括如下具體步驟：

步驟1：在進(jìn)行掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)的整個(gè)實(shí)驗(yàn)區(qū)域中未被判斷的點(diǎn)中隨機(jī)選取一個(gè)點(diǎn)作為指標(biāo)化點(diǎn)，計(jì)算該點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列ds,i；

步驟2：對(duì)本晶粒邊界上的各點(diǎn)，若與之相鄰的點(diǎn)不都為晶界，定義該點(diǎn)為可擴(kuò)展點(diǎn)，而后運(yùn)用技術(shù)要求中步驟二和步驟三所定義的方法判斷該點(diǎn)和與之相鄰的非晶界的點(diǎn)是否屬于同一晶粒。若屬于同一晶粒則，將該相鄰點(diǎn)記錄為本晶粒中的點(diǎn)，且此相鄰點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列ds,i與可擴(kuò)展點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列ds,i相同；若不屬于則將該相鄰點(diǎn)置為晶界。反復(fù)進(jìn)行上述定義可擴(kuò)建點(diǎn)與判斷其是否為晶粒的操作，直到本晶粒邊界上不存在可擴(kuò)展點(diǎn)；

步驟3：反復(fù)進(jìn)行步驟1和步驟2的操作，直到完成對(duì)掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)區(qū)域內(nèi)所有點(diǎn)的遍歷。

和現(xiàn)有技術(shù)相比較，本發(fā)明具備如下優(yōu)點(diǎn)：

本發(fā)明方法可快速獲得對(duì)掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的可視化分析，且處理過(guò)程的計(jì)算量?。槐痉椒ㄝ^現(xiàn)有處理掃描式勞厄衍射的方法，整個(gè)數(shù)據(jù)處理過(guò)程耗時(shí)更短、消耗計(jì)算機(jī)資源少，使原需要在集群計(jì)算機(jī)上進(jìn)行的集群計(jì)算在個(gè)人電腦上更進(jìn)行普通計(jì)算即可完成。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明方法的流程圖。

圖2為實(shí)施例樣品的[001]方向與樣品表面法向的夾角。

圖3為實(shí)施例中實(shí)驗(yàn)區(qū)域上a點(diǎn)對(duì)應(yīng)衍射圖譜與其上峰的標(biāo)定。

圖4為實(shí)施例中實(shí)驗(yàn)區(qū)域上b點(diǎn)對(duì)應(yīng)衍射圖譜與其上峰的標(biāo)定。

圖5為實(shí)施例中實(shí)驗(yàn)區(qū)域上c點(diǎn)對(duì)應(yīng)衍射圖譜與其上峰的標(biāo)定。

圖6為實(shí)施例通過(guò)本發(fā)明得到的晶界分布結(jié)果。

具體實(shí)施方法

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)更加明顯易懂，下面結(jié)合圖2所示的實(shí)施例樣品對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方法做詳細(xì)說(shuō)明。

圖2所示的實(shí)施例樣品為304不銹鋼，在圖2中可以看到該樣品中各點(diǎn)的晶體取向信息，明顯可見(jiàn)晶界的分布情況。

如圖1所示，本實(shí)施例基于峰間夾角比對(duì)的掃描式勞厄衍射圖譜分析方法，包括如下步驟：

步驟一：運(yùn)用公知的方法，對(duì)掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)所得的所有勞厄衍射圖譜進(jìn)行尋峰操作，得到每張勞厄衍射圖譜上所有衍射峰的位置和積分強(qiáng)度。

步驟二：計(jì)算指標(biāo)化點(diǎn)的勞厄衍射圖譜上所有被標(biāo)定衍射峰的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列ds,i，包括如下具體操作步驟：

1)對(duì)指標(biāo)化點(diǎn)對(duì)應(yīng)的勞厄衍射圖譜用公知的方法進(jìn)行指標(biāo)化計(jì)算，得到所有被標(biāo)定衍射峰的位置、積分強(qiáng)度和晶面迷勒指數(shù)。取適當(dāng)?shù)挠?jì)算包含峰數(shù)n＝6，根據(jù)峰的積分強(qiáng)度，計(jì)算所有被標(biāo)定衍射峰中積分強(qiáng)度最高的6個(gè)被標(biāo)定衍射峰在探測(cè)器坐標(biāo)系下的方向向量ks,i(1≤i≤6)。

ks,i的計(jì)算方法為：讀取探測(cè)器的空間轉(zhuǎn)角α(pitch)、β(roll)、γ(yaw)。有

得到矩陣a后，讀取該點(diǎn)樣品上照射點(diǎn)到探測(cè)器平面的距離d，利用公式可得

2)對(duì)方向向量ks,i，計(jì)算其與其他的方向向量的夾角，得到由5個(gè)夾角組成的標(biāo)準(zhǔn)角度差序列ds,i(1≤i≤6)。有

步驟三：定義判定掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)區(qū)域內(nèi)兩點(diǎn)是否為同一晶粒的方法，包括如下具體操作步驟：

1)定義標(biāo)準(zhǔn)角度差序列ds,i已知的點(diǎn)為比較原點(diǎn)，標(biāo)準(zhǔn)角度差序列ds,i未知的點(diǎn)為被比較點(diǎn)。

2)取擴(kuò)展包含峰數(shù)δn＝4，根據(jù)衍射峰的積分強(qiáng)度，計(jì)算被比較點(diǎn)的勞厄衍射圖譜中所有衍射峰中最強(qiáng)的10個(gè)衍射峰在探測(cè)器坐標(biāo)系下的方向向量ki(1≤i≤10)。其計(jì)算方法與步驟二中所述方法相同。

3)對(duì)方向向量ki，計(jì)算其與其他的方向向量的夾角，得到由9個(gè)夾角組成的比較角度差序列di(1≤i≤9)。有

4)確定對(duì)于比較原點(diǎn)的每個(gè)標(biāo)準(zhǔn)角度差序列ds,i，是否存在一個(gè)被比較點(diǎn)的比較角度差序列di與之對(duì)應(yīng)。其具體方法如下：

a)定義被比較點(diǎn)的比較角度差序列di中的組元為δi,j。將其與比較原點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)角度差序列ds,i中的組元δs,i,j進(jìn)行比較。若

認(rèn)為δi,j與δs,i,j相等。

b)假設(shè)di與ds,i中相等的組元數(shù)為mi，若滿(mǎn)足

mi≥0.8·n

認(rèn)為di與ds,i對(duì)應(yīng)，且其對(duì)應(yīng)的峰也相對(duì)應(yīng)。

5)假設(shè)比較原點(diǎn)和被比較點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的di與ds,i的總數(shù)為s，若滿(mǎn)足

s≥0.9·n

認(rèn)為比較原點(diǎn)與被比較點(diǎn)屬于同一晶粒。并將比較原點(diǎn)中被標(biāo)定衍射峰的晶面米勒指數(shù)賦給被比較點(diǎn)中相對(duì)應(yīng)的衍射峰，同時(shí)將被賦予晶面米勒指數(shù)也定義為被標(biāo)定衍射峰。

步驟四：對(duì)于本實(shí)施例，若選擇掃描式遍歷法對(duì)掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)掃描區(qū)域內(nèi)所有點(diǎn)進(jìn)行遍歷。遍歷開(kāi)始前，將整個(gè)實(shí)驗(yàn)區(qū)域的邊界置為晶界。

1)定義掃描按由下至上，由左至右的方向進(jìn)行。即由下至上為前進(jìn)方向，由左至右為旁列方向。遍歷過(guò)程從區(qū)域的左下角(a點(diǎn))開(kāi)始，a點(diǎn)的勞厄衍射圖譜與標(biāo)定的衍射峰如圖3所示。

2)從左下角開(kāi)始，其下方和左側(cè)都為晶界。該點(diǎn)即為指標(biāo)化點(diǎn)，計(jì)算該點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列ds,i。運(yùn)用步驟三定義的方法判斷它和它右側(cè)(b點(diǎn))的點(diǎn)為同一晶粒，b點(diǎn)的勞厄衍射圖譜與標(biāo)定的衍射峰如圖4所示，但與其上方(c點(diǎn))的點(diǎn)不為同一晶粒，c點(diǎn)的勞厄衍射圖譜與標(biāo)定的衍射峰如圖5所示。該點(diǎn)即被置為晶界，其右側(cè)點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列ds,i與之相同。

3)以2)中所述的操作方法，按1)中的順序，完成對(duì)實(shí)驗(yàn)區(qū)域內(nèi)所有點(diǎn)的遍歷。

對(duì)本實(shí)施例，若選擇掃描式遍歷法對(duì)掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)掃描區(qū)域內(nèi)所有點(diǎn)進(jìn)行遍歷。遍歷開(kāi)始前，將整個(gè)實(shí)驗(yàn)區(qū)域的邊界置為晶界。

1)在區(qū)域中未被判斷的點(diǎn)中隨機(jī)選取一個(gè)點(diǎn)作為指標(biāo)化點(diǎn)。這里選擇區(qū)域中的f點(diǎn)為指標(biāo)化點(diǎn)。計(jì)算該點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列ds,i。

2)本晶粒的首個(gè)點(diǎn)其自身即為本晶粒邊界上的點(diǎn)，且其不為晶界，運(yùn)用步驟二和步驟三定義的方法判斷其上下左右四個(gè)相鄰點(diǎn)與其是否屬于同一晶粒。發(fā)現(xiàn)其中左右下三個(gè)方向的相鄰點(diǎn)與其為同一晶粒。則這三個(gè)點(diǎn)的標(biāo)準(zhǔn)峰角度差序列ds,i都與該點(diǎn)相同，為本晶粒中的點(diǎn)。之后以這三個(gè)相鄰點(diǎn)為該晶粒的邊界，而f點(diǎn)被置為晶界。再次比較本晶粒邊界點(diǎn)的相鄰的未被判斷的點(diǎn)與其知否為同一晶粒，從而擴(kuò)展該晶粒，直到該晶粒的邊界都為晶界。

3)以1)和2)中所述的操作為例，反復(fù)進(jìn)行，直到完成對(duì)掃描式勞厄衍射實(shí)驗(yàn)區(qū)域內(nèi)所有點(diǎn)的遍歷。

使用本發(fā)明方法得到的圖2所示區(qū)域的晶界分布情況如圖6所示，從圖中可以看出，使用本方法得到的晶界分布與圖2中所示的晶體取向分布相對(duì)應(yīng)，說(shuō)明本方法得到的結(jié)果正確。而對(duì)區(qū)域內(nèi)的2550張勞厄衍射圖譜，僅對(duì)其中的108張進(jìn)行的指標(biāo)化計(jì)算，占4.23％，計(jì)算量遠(yuǎn)小于現(xiàn)有的方法。

綜上，本發(fā)明能夠自動(dòng)處理掃描式勞厄衍射圖譜，降低了對(duì)降低了對(duì)掃描式勞厄衍射圖譜進(jìn)行分析計(jì)算所需的時(shí)間。是一種簡(jiǎn)單可行的方法。

至此，應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本發(fā)明的晶體掃描式勞厄衍射圖譜的角度比較式分析方法的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說(shuō)明僅用于幫助理解本發(fā)明的方法及核心思想；同時(shí)，對(duì)于本領(lǐng)域的一般技術(shù)操作人員，在使用本發(fā)明時(shí)依據(jù)本發(fā)明的思想，在具體使用方式及范圍上均存在改變之處。因此，本發(fā)明說(shuō)明書(shū)不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明的應(yīng)用方式及應(yīng)用范圍等的限制，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求書(shū)為準(zhǔn)。