一種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型涉及一種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)，以滿足用戶對(duì)蒸發(fā)殘?jiān)焖僭囼?yàn)的檢測(cè)需求，其主要構(gòu)件包括內(nèi)腔體，旋轉(zhuǎn)升降裝置，天平稱(chēng)重裝置以及冷阱等，所述內(nèi)腔體可以通過(guò)底部的加熱板對(duì)位于其內(nèi)部的蒸發(fā)皿進(jìn)行加熱，所述真空裝置可以對(duì)內(nèi)腔體進(jìn)行抽真空，蒸發(fā)皿內(nèi)的試劑在真空狀態(tài)下迅速氣化，氣化后的試劑通過(guò)管路進(jìn)入冷阱進(jìn)行冷卻，冷卻后的試劑可通過(guò)廢液排出口排空。試劑蒸發(fā)完畢后可通過(guò)與內(nèi)腔相連的進(jìn)氣口補(bǔ)入干燥氮?dú)?，使?nèi)腔體處于干燥狀態(tài)，蒸發(fā)皿可以快速恒重。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
一種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型公開(kāi)了一種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]測(cè)試效率，試劑回收，安全防護(hù)等問(wèn)題是困擾蒸發(fā)殘?jiān)鼫y(cè)試儀的三個(gè)重要技術(shù)指標(biāo)，其中試劑蒸發(fā)階段是最影響測(cè)試效率的，傳統(tǒng)水浴蒸發(fā)的蒸發(fā)速度非常慢，且蒸發(fā)的試劑直接排放在大氣中，客戶需要采購(gòu)單獨(dú)的排風(fēng)系統(tǒng)，且排出的蒸氣直接排放在大氣環(huán)境中，污染環(huán)境，一些危險(xiǎn)試劑還會(huì)造成安全事故。
[0003]另外，因試驗(yàn)需求不同，蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)的測(cè)試腔中氣體也不同。若測(cè)試腔中存在有毒、易燃易爆等氣體，試驗(yàn)時(shí)，整個(gè)測(cè)試腔沒(méi)有阻隔、密封措施，易造成氣體外泄，污染環(huán)境、危害人身安全。而目前的快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)的測(cè)試腔無(wú)密封、阻隔措施。因此，設(shè)備精度不穩(wěn)定，設(shè)備的安全系數(shù)較低，甚至給外界環(huán)境、試驗(yàn)人員造成不可估量的危害。
[0004]針對(duì)以上問(wèn)題，開(kāi)發(fā)一種快速試劑蒸發(fā)且安全可靠的蒸發(fā)殘?jiān)鼫y(cè)試儀迫在眉睫。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型公開(kāi)了一種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)及方法。
[0006]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下:
[0007]—種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)，包括測(cè)試腔，所述的測(cè)試腔與使試劑在負(fù)壓狀態(tài)下蒸發(fā)的真空裝置相連，且測(cè)試腔通過(guò)管路與對(duì)試劑進(jìn)行冷卻回收的回收裝置相連。
[0008]進(jìn)一步的，所述的回收裝置為一個(gè)冷阱，所述的冷阱通過(guò)管路II與測(cè)試腔連通，同時(shí)冷阱通過(guò)管路III與真空裝置相連;所述冷阱對(duì)測(cè)試腔內(nèi)的試劑進(jìn)行冷卻回收。
[0009]進(jìn)一步的，所述的冷阱上設(shè)有排出廢液的管路IV。
[0010]進(jìn)一步的，所述測(cè)試腔還外接可通干氣的管路I。
[0011]進(jìn)一步的，還包括稱(chēng)重元件，所述的測(cè)試腔與稱(chēng)重元件連通的位置設(shè)有在試驗(yàn)時(shí)阻隔測(cè)試腔氣體進(jìn)入稱(chēng)重元件所在腔的阻隔件。
[0012]進(jìn)一步的，所述的阻隔件安裝在測(cè)試腔的托架上，所述的阻隔件的下方是稱(chēng)重元件。
[0013]進(jìn)一步的，所述的阻隔件安裝在測(cè)試腔的托架上，所述的托架在驅(qū)動(dòng)裝置I的驅(qū)動(dòng)下旋轉(zhuǎn)上下運(yùn)動(dòng)，阻隔件隨著托架旋轉(zhuǎn)上下運(yùn)動(dòng)。
[0014]進(jìn)一步的，所述的阻隔件為密封蓋，所述的密封蓋與一個(gè)密封圈配合實(shí)現(xiàn)阻隔。
[0015]進(jìn)一步的，所述密封圈安裝在密封圈槽內(nèi)，所述密封圈槽位于密封蓋上，在托架下落時(shí)，密封圈與測(cè)試腔機(jī)殼接觸密封。
[0016]進(jìn)一步的，所述密封圈安裝在密封圈槽內(nèi)，所述密封圈槽位于測(cè)試腔的機(jī)殼上，在托架下落時(shí)，密封圈與密封蓋接觸密封。
[0017]進(jìn)一步的，所述的密封蓋在驅(qū)動(dòng)裝置II的驅(qū)動(dòng)下實(shí)現(xiàn)下壓。
[0018]進(jìn)一步的，所述的阻隔件設(shè)置在測(cè)試腔和稱(chēng)重元件連通的位置的測(cè)試腔的機(jī)殼上，且阻隔件為可移動(dòng)件。
[0019]進(jìn)一步的，所述的阻隔件為對(duì)稱(chēng)重元件密封的元件，使稱(chēng)重元件與測(cè)試腔隔離。
[0020]進(jìn)一步的，還包括加熱元件，所述的加熱元件為一個(gè)設(shè)置測(cè)試腔機(jī)殼底部的環(huán)形加熱板，對(duì)測(cè)試腔均勻加熱。
[0021]進(jìn)一步的，所述管路1、管路I1、管路II1、管路IV上設(shè)有單向閥。
[0022]—種快速蒸發(fā)殘?jiān)姆椒?，利用真空裝置對(duì)測(cè)試腔進(jìn)行抽真空，測(cè)試杯內(nèi)的試劑快速蒸發(fā);蒸發(fā)試劑通過(guò)管路II進(jìn)入冷阱冷凝。
[0023]本實(shí)用新型的有益效果如下:
[0024]1、蒸發(fā)皿內(nèi)的試劑在負(fù)壓狀態(tài)下加熱，加熱溫度低，試劑不易氧化，且試劑可以在低于沸點(diǎn)溫度下迅速蒸發(fā)。
[0025]2、整個(gè)蒸發(fā)過(guò)程在密閉環(huán)境中，試劑不外泄，可對(duì)危險(xiǎn)試劑進(jìn)行試驗(yàn)。
[0026]3、揮發(fā)后的試劑通過(guò)冷阱冷凝回收，外排氣體量幾乎為零，保護(hù)環(huán)境；
[0027]4、試驗(yàn)過(guò)程可充入干燥氮?dú)猓杆僦脫Q內(nèi)腔濕氣，且氮?dú)饪梢猿洚?dāng)保護(hù)氣；
[0028]5.阻隔件將稱(chēng)重環(huán)境與測(cè)試環(huán)境分開(kāi)，可保護(hù)稱(chēng)重元件精度不受溫度影響；
[0029]6.試驗(yàn)時(shí)，密封蓋阻斷稱(chēng)重元件與測(cè)試環(huán)境，保護(hù)稱(chēng)重元件不受濕氣損壞，保證稱(chēng)重精度，進(jìn)一步提尚設(shè)備精度。
【附圖說(shuō)明】

[0030]圖1本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)圖；
[0031]圖中:1.下腔;2、上腔;3、測(cè)試杯;4、托架;5、支撐桿;6、螺釘;7、密封墊;8、旋轉(zhuǎn)升降裝置;9、密封蓋；10、密封圈；11、稱(chēng)重托盤(pán);12、天平；13、管路I; 14、管路II; 15、閥；16、管路III; 17、真空裝置;18、冷阱；19、管路IV;20、內(nèi)腔殼;21、環(huán)形加熱板;22、外殼。
【具體實(shí)施方式】
[0032]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明:
[0033]如圖1所示，本實(shí)用新型公開(kāi)的快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)，包括測(cè)試腔(即圖中的上腔2)，在所述的測(cè)試腔內(nèi)設(shè)有多個(gè)測(cè)試杯3，且所述的測(cè)試杯3安裝在托架4上，托架4與一個(gè)支撐桿5通過(guò)螺釘6相連，支撐桿5與測(cè)試腔的接觸部分通過(guò)密封墊7密封，所述的支撐桿5在旋轉(zhuǎn)升降裝置8的驅(qū)動(dòng)下帶動(dòng)托架4旋轉(zhuǎn)升降；測(cè)試杯3下方設(shè)有加熱元件和對(duì)測(cè)試杯進(jìn)行稱(chēng)重的稱(chēng)重元件;所述的測(cè)試腔與真空裝置相連，且測(cè)試腔通過(guò)管路與對(duì)試劑進(jìn)行冷卻回收的回收裝置相連;各個(gè)裝置的具體結(jié)構(gòu)如下:
[0034]回收裝置為一個(gè)冷阱18，所述的冷阱18通過(guò)管路II14與測(cè)試腔連通，管路II 14安裝有閥15同時(shí)冷阱通過(guò)管路III 16與真空裝置17相連;所述冷阱可以對(duì)測(cè)試腔內(nèi)的試劑進(jìn)行冷卻回收;蒸發(fā)的試劑進(jìn)入冷阱，因冷阱溫度低于蒸汽露點(diǎn)，蒸汽在此冷凝形成液態(tài)試劑;且在冷阱上還有廢液排出口，液態(tài)試劑可以從廢液排出口排出。
[0035]冷阱上設(shè)有排出廢液的管路IV19，在管路IV19上設(shè)有單向閥。
[0036]測(cè)試腔還外接可接通干氣的管路I13，在管路I 13也設(shè)有單向閥，試驗(yàn)過(guò)程可通過(guò)充氣管路充入干燥氮?dú)?，迅速置換內(nèi)腔濕氣，且氮?dú)饪梢猿洚?dāng)保護(hù)氣。
[0037]托架位于上腔2內(nèi)，稱(chēng)重元件位于下腔I，在下腔I還安裝有稱(chēng)重元件，稱(chēng)重元件的稱(chēng)重托盤(pán)位于上腔2，在托架4與所述稱(chēng)重托盤(pán)對(duì)應(yīng)的位置上設(shè)有在稱(chēng)重時(shí)阻隔上、下腔相通的阻隔件。試驗(yàn)時(shí)，托架4落下，托架4上的阻隔件壓到上腔外殼22上，實(shí)現(xiàn)阻隔上、下腔的作用。
[0038]稱(chēng)重元件為天平12，阻隔件為一個(gè)安裝在托架上的密封蓋9，所述的密封蓋的下方是稱(chēng)重托盤(pán)11，在試驗(yàn)時(shí)，密封蓋占去了托架的一個(gè)測(cè)試杯的位置，實(shí)現(xiàn)密封;所述阻隔件可以將天平腔與測(cè)試腔隔離，防止蒸氣進(jìn)入天平腔。
[0039]密封蓋與上腔的接觸面上設(shè)有密封圈10，稱(chēng)重托盤(pán)11下落時(shí)，密封蓋正好壓在密封圈上，將上下腔完全隔離，使得稱(chēng)重元件不受上腔環(huán)境的的影響，同時(shí)還可以防止試驗(yàn)時(shí)，測(cè)試腔的氣體外泄。
[0040]進(jìn)一步的，密封圈安裝在密封圈槽內(nèi)，所述密封圈槽位于密封蓋上，在托架下落時(shí)，密封圈與測(cè)試腔機(jī)殼接觸密封。
[0041]進(jìn)一步的，密封圈安裝在密封圈槽內(nèi)，所述密封圈槽位于測(cè)試腔的機(jī)殼上，在托架下落時(shí)，密封圈與密封蓋接觸密封。
[0042]進(jìn)一步的，密封蓋在驅(qū)動(dòng)裝置II的驅(qū)動(dòng)下實(shí)現(xiàn)下壓。
[0043]進(jìn)一步的，阻隔件設(shè)置在測(cè)試腔和稱(chēng)重元件連通的位置的測(cè)試腔的機(jī)殼上，且阻隔件為可移動(dòng)件。
[0044]進(jìn)一步的，阻隔件為帶有磁性的元件，其吸附在測(cè)試腔與所述稱(chēng)重元件連通的位置。
[0045]進(jìn)一步的，阻隔件為對(duì)稱(chēng)重元件密封的元件，使稱(chēng)重元件與測(cè)試腔隔離。
[0046]進(jìn)一步的，上腔外設(shè)有內(nèi)腔殼20，內(nèi)腔殼外側(cè)還設(shè)有外殼22。
[0047]進(jìn)一步的，加熱元件為一個(gè)設(shè)置內(nèi)腔殼底部的環(huán)形加熱板21，可對(duì)內(nèi)腔體均勻加熱。
[0048]進(jìn)一步的，旋轉(zhuǎn)升降裝置8，其可以帶動(dòng)旋托架上下升降及旋轉(zhuǎn)，具體的旋轉(zhuǎn)升降機(jī)構(gòu)包括升降裝置和旋轉(zhuǎn)裝置；
[0049]升降裝置包括氣缸式自動(dòng)升降裝置或機(jī)械式自動(dòng)升降裝置。
[0050]氣缸式自動(dòng)升降裝置包括氣缸體，活塞，活塞連桿，活塞連桿與安裝在導(dǎo)向套內(nèi)的連接機(jī)構(gòu)相連接，連接機(jī)構(gòu)與透濕杯托架連接。
[0051 ]機(jī)械式自動(dòng)升降裝置包括底座，底座上設(shè)有機(jī)械傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，機(jī)械傳動(dòng)機(jī)構(gòu)與安裝在導(dǎo)向套內(nèi)的連接機(jī)構(gòu)相配合，連接機(jī)構(gòu)與透濕杯托架連接，所述機(jī)械傳動(dòng)機(jī)構(gòu)為偏心機(jī)構(gòu)或齒輪齒條機(jī)構(gòu)或曲柄滑塊機(jī)構(gòu)或絲杠機(jī)構(gòu)。
[0052]旋轉(zhuǎn)裝置為自動(dòng)旋轉(zhuǎn)裝置，包括齒輪傳動(dòng)裝置、帶輪傳動(dòng)裝置、鏈輪傳動(dòng)裝置，所述自動(dòng)旋轉(zhuǎn)裝置由電機(jī)驅(qū)動(dòng)。
[0053]本實(shí)用新型的試驗(yàn)方法如下:
[0054]步驟1:真空裝置17對(duì)上腔2進(jìn)行抽真空(加熱與抽真空是并列進(jìn)行，兩者無(wú)先后順序，操作人員可根據(jù)需求選擇)，測(cè)試杯內(nèi)的試劑快速蒸發(fā)；
[0055]步驟2:達(dá)到真空測(cè)量元件設(shè)定的真空值時(shí)，管路III16的單向閥關(guān)閉，停止對(duì)測(cè)試腔抽真空，系統(tǒng)保壓；
[0056]步驟3:加熱元件開(kāi)始對(duì)上腔體進(jìn)行加熱，同時(shí)在負(fù)壓作用下，試劑快速蒸發(fā)；
[0057]步驟4:蒸發(fā)的試劑進(jìn)入冷阱，因冷阱溫度低于蒸汽露點(diǎn)，蒸汽在此冷凝；
[0058]步驟5:氣體冷凝導(dǎo)致冷阱處氣壓降低，測(cè)試腔的試劑不斷蒸發(fā)，通過(guò)管路進(jìn)入冷阱冷凝，循環(huán)此過(guò)程；
[0059]步驟6:最后，測(cè)試腔內(nèi)接近100%的試劑被蒸發(fā)到冷阱內(nèi)冷凝回收。
[0060]步驟7:達(dá)到蒸發(fā)結(jié)束條件，管路I13的單向閥打開(kāi)，干氣通過(guò)管路I 13進(jìn)入測(cè)試腔，平衡腔內(nèi)氣壓，方便稱(chēng)重；同時(shí)干氣進(jìn)入測(cè)試腔，腔內(nèi)殘余濕氣通過(guò)管路II 14進(jìn)入冷阱冷凝，達(dá)到置換濕氣的作用。
[0061]步驟8:整個(gè)測(cè)試結(jié)束，冷阱18內(nèi)收集的試劑可用過(guò)管路IV19排出冷阱，經(jīng)專(zhuān)業(yè)處理，防止污染外界環(huán)境。
[0062]上述雖然結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行了描述，但并非對(duì)本實(shí)用新型保護(hù)范圍的限制，所屬領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明白，在本實(shí)用新型的技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本領(lǐng)域技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性勞動(dòng)即可做出的各種修改或變形仍在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍以內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)，包括測(cè)試腔，其特征在于，所述的測(cè)試腔與使試劑在負(fù)壓狀態(tài)下蒸發(fā)的真空裝置相連，且測(cè)試腔通過(guò)管路與對(duì)試劑進(jìn)行冷卻回收的回收裝置相連。2.如權(quán)利要求1所述的一種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)，其特征是，所述的回收裝置為一個(gè)冷阱，所述的冷阱通過(guò)管路II與測(cè)試腔連通，同時(shí)冷阱通過(guò)管路III與真空裝置相連;所述冷阱對(duì)測(cè)試腔內(nèi)的試劑進(jìn)行冷卻回收。3.如權(quán)利要求2所述的一種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)，其特征是，所述的冷阱上設(shè)有排出廢液的管路IV。4.如權(quán)利要求3所述的一種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)，其特征是，所述測(cè)試腔還外接可通干氣的管路I。5.如權(quán)利要求4所述的一種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)，其特征是，所述管路I上、管路I1、管路II1、管路IV上均設(shè)有單向閥。6.如權(quán)利要求1所述的一種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)，其特征是，還包括稱(chēng)重元件，所述的測(cè)試腔與稱(chēng)重元件連通的位置設(shè)有在試驗(yàn)時(shí)阻隔測(cè)試腔氣體進(jìn)入稱(chēng)重元件所在腔的阻隔件。7.如權(quán)利要求5所述的一種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)，其特征是，所述的阻隔件安裝在測(cè)試腔的托架上，所述的阻隔件的下方是稱(chēng)重元件。8.如權(quán)利要求5所述的一種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)，其特征是，所述的阻隔件設(shè)置在測(cè)試腔和稱(chēng)重元件連通的位置的測(cè)試腔的機(jī)殼上，且阻隔件為可移動(dòng)件。9.如權(quán)利要求1所述的一種快速蒸發(fā)殘?jiān)到y(tǒng)，其特征是，還包括加熱元件，所述的加熱元件為一個(gè)設(shè)置測(cè)試腔機(jī)殼底部的環(huán)形加熱板，對(duì)測(cè)試腔均勻加熱。
【文檔編號(hào)】G01N5/04GK205691452SQ201620590505
【公開(kāi)日】2016年11月16日
【申請(qǐng)日】2016年6月15日 公開(kāi)號(hào)201620590505.2, CN 201620590505, CN 205691452 U, CN 205691452U, CN-U-205691452, CN201620590505, CN201620590505.2, CN205691452 U, CN205691452U
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