一種熱像儀可用的非均勻校正裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型屬于光電產(chǎn)品應(yīng)用【技術(shù)領(lǐng)域】【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種熱像儀可用的非均勻校正裝置。本實用新型的熱像儀可用的非均勻校正裝置，包括半導(dǎo)體制冷器和溫度顯示系統(tǒng)：溫度顯示系統(tǒng)用于顯示半導(dǎo)體制冷器的溫度，半導(dǎo)體制冷器能夠通過改變自身輸入電流的大小為熱像儀提供不同的均勻溫度面。本實用新型的非均勻校正裝置能夠在熱像儀進行兩點非均勻性校正時提供不同溫度的兩個均勻溫度面，使熱像儀在復(fù)雜氣象條件下的外場測試時，能夠形成更高的成像質(zhì)量。
【專利說明】一種熱像儀可用的非均勻校正裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于光電產(chǎn)品應(yīng)用【技術(shù)領(lǐng)域】【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種熱像儀可用的非均勻校正裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著紅外成像技術(shù)的發(fā)展，紅外熱像儀的性能得到了顯著的提高，分辨率、熱靈敏度、動態(tài)范圍等諸多指標明顯提高。但是由于紅外成像器件固有的噪聲仍然存在，不可避免地在圖像上表現(xiàn)為空間噪聲或固定圖案噪聲，形成紅外圖像的非均勻性，嚴重影響了紅外熱像的成像質(zhì)量。所以在熱像儀使用過程中必須要做非均勻性校正，用以提高成像質(zhì)量。經(jīng)長時間試驗使用發(fā)現(xiàn)，在測量遠距離弱小目標時，為了提高圖像和數(shù)據(jù)質(zhì)量，最好做兩點非均勻校正，即先用較低溫度的均勻背景遮擋光路，然后再用較高溫度的均勻背景遮擋光路。
[0003]外場環(huán)境下，做非均勻矯正所用的背景均采自自然背景，如采用高仰角天空作為低溫背景。但由于外場試驗時氣象條件的不確定性，因此有時很難獲得適用于矯正的均勻背景，致使非均勻矯正的效果降低，最終將影響熱像儀的成像質(zhì)量。
實用新型內(nèi)容
[0004]本實用新型需要解決的技術(shù)問題為紅外熱像儀在復(fù)雜氣象條件下外場測試時，有時很難獲得適用于矯正的均勻背景，致使非均勻矯正的效果降低，最終將影響熱像儀的成
像質(zhì)量。
[0005]本實用新型的技術(shù)方案如下所述:
[0006]一種熱像儀可用的非均勻校正裝置，包括半導(dǎo)體制冷器和溫度顯示系統(tǒng):溫度顯示系統(tǒng)用于顯示半導(dǎo)體制冷器的溫度，半導(dǎo)體制冷器能夠通過改變自身輸入電流的大小為熱像儀提供不同的均勻溫度面。
[0007]作為優(yōu)選方案:所述半導(dǎo)體制冷器包括基底、半導(dǎo)體制冷模塊和溫度傳感器:所述基底尺寸大于熱像儀鏡頭口面，其面向鏡頭的前表面噴涂有高發(fā)射率涂層，其背對鏡頭的后表面貼由半導(dǎo)體制冷片；基底設(shè)有若干個與溫度顯示系統(tǒng)相連接的溫度傳感器。
[0008]作為優(yōu)選方案:該裝置還設(shè)有主動散熱組件，其連接半導(dǎo)體制冷片實現(xiàn)半導(dǎo)體制冷器長時間穩(wěn)定工作。
[0009]作為優(yōu)選方案:該裝置還設(shè)有溫度控制系統(tǒng)，其與半導(dǎo)體制冷器相連接。
[0010]作為優(yōu)選方案:所述基底后表面貼有多片并聯(lián)工作的半導(dǎo)體制冷片。
[0011]本實用新型的有益效果為:
[0012]本實用新型的熱像儀可用的非均勻校正裝置，能夠在熱像儀進行兩點非均勻性校正時提供不同溫度的兩個均勻溫度面，使熱像儀在復(fù)雜氣象條件下的外場測試時，能夠形成更高的成像質(zhì)量。
【專利附圖】

【附圖說明】[0013]圖1為本實用新型的熱像儀可用的非均勻校正裝置的組成示意圖；
[0014]圖2為本實用新型的熱像儀可用的非均勻校正裝置的半導(dǎo)體制冷器結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]圖中，1-基底，2-半導(dǎo)體制冷片，3-溫度傳感器。
【具體實施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型的一種熱像儀可用的非均勻校正裝置進行詳細說明。
[0017]實施例1
[0018]如圖1所示，本實施例中的熱像儀可用的非均勻校正裝置包括溫度顯示系統(tǒng)和半導(dǎo)體制冷器，溫度顯示系統(tǒng)用于顯示半導(dǎo)體制冷器的溫度，半導(dǎo)體制冷器能夠通過改變自身輸入電流的大小為熱像儀提供不同的均勻溫度面。
[0019]如圖2所示，所述半導(dǎo)體制冷器包括基底1、半導(dǎo)體制冷片2和溫度傳感器3。所述基底I尺寸大于熱像儀鏡頭口面，其面向鏡頭的前表面噴涂有高發(fā)射率涂層，以使基底I表面溫度均勻，其背對鏡頭的后表面貼由半導(dǎo)體制冷片2 ;基底I設(shè)有若干個與溫度顯示系統(tǒng)相連接的溫度傳感器3，以監(jiān)測基底I表面溫度。
[0020]實施例2
[0021]本實施例與實施例1的區(qū)別在于:
[0022]本實施例的熱像儀可用的非均勻校正裝置還包括溫度控制系統(tǒng)，其與半導(dǎo)體制冷器相連接，用于控制基底I溫度。
[0023]實施例3
[0024]本實施例與上述兩個實施例的區(qū)別在于:
[0025]本實施例的熱像儀可用的非均勻校正裝置中，所述基底I后表面貼有多片并聯(lián)工作的半導(dǎo)體制冷片2。
[0026]實施例4
[0027]本實施例與上述三個實施例的區(qū)別在于:
[0028]本實施例的熱像儀可用的非均勻校正裝置還包括散熱組件，其連接半導(dǎo)體制冷片2實現(xiàn)散熱，保證設(shè)備的長時間穩(wěn)定運行。
[0029]實施例5
[0030]本實施例與上述四個實施例的區(qū)別在于:
[0031]本實施例的熱像儀可用的非均勻校正裝置中，所述基底I材質(zhì)為導(dǎo)熱性能好的黃銅或招制材料。
【權(quán)利要求】
1.一種熱像儀可用的非均勻校正裝置，包括半導(dǎo)體制冷器和溫度顯示系統(tǒng)，其特征在于:溫度顯示系統(tǒng)用于顯示半導(dǎo)體制冷器的溫度，半導(dǎo)體制冷器能夠通過改變自身輸入電流的大小為熱像儀提供不同的均勻溫度面；其中，半導(dǎo)體制冷器包括基底(I)、半導(dǎo)體制冷片(2)和溫度傳感器(3)，所述基底(I)尺寸大于熱像儀鏡頭口面，其面向鏡頭的前表面噴涂有高發(fā)射率涂層，其背對鏡頭的后表面貼由半導(dǎo)體制冷片(2);基底(I)設(shè)有若干個與溫度顯示系統(tǒng)相連接的溫度傳感器(3)。
2.如權(quán)利要求1所述的熱像儀可用的非均勻校正裝置，其特征在于:該裝置還設(shè)有散熱組件，其連接半導(dǎo)體制冷片(2)實現(xiàn)散熱。
3.如權(quán)利要求1或2所述的熱像儀可用的非均勻校正裝置，其特征在于:所述基底(I)后表面貼有多片并聯(lián)工作的半導(dǎo)體制冷片(2)。
4.如權(quán)利要求1或2所述的熱像儀可用的非均勻校正裝置，其特征在于:所述基底(I)材質(zhì)為導(dǎo)熱性能好的黃銅或鋁制材料。
【文檔編號】G01J5/06GK203732159SQ201320707960
【公開日】2014年7月23日 申請日期:2013年11月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月11日
【發(fā)明者】萬繼敏, 王云強, 李學(xué)智, 周健 申請人:北京環(huán)境特性研究所