專利名稱：一種繞光軸旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差分析方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種繞光軸旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差的分析方法，屬于先進光學(xué)制造與檢測領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
隨著現(xiàn)代工業(yè)技術(shù)的快速發(fā)展，對光學(xué)元件的面形精度要求不斷提高。斐索型相移干涉儀為目前高精度面形檢測的主要手段，而其檢測得到的被測光學(xué)元件面形誤差是相對于參考面的標(biāo)準(zhǔn)面形而言的，檢測精度受限于參考面的面形精度和系統(tǒng)誤差，而絕對檢測技術(shù)則可以通過多次檢測數(shù)據(jù)的相互運算處理去除系統(tǒng)誤差，得到不受參考面面形精度影響的被測光學(xué)元件的絕對面形，是提高面形檢測精度的有效手段。根據(jù)被測光學(xué)元件的面形不同，絕對檢測技術(shù)可分為平面、球面和非球面絕對檢測。平面絕對檢測技術(shù)主要有三面互檢法(G Schulz，J Schwider, CHiller, B Kicker, Establishing an Optical Flatness, Standard Applied Optics. 1971,10(4) 929 934 ；G Schulz, J Schwider.Precise Measurement of Plainness.Applied Optics. 1967,6(6) : 1077 1084)、奇偶函數(shù)法(Chiayu Ai, James C ffyant, "Absolute testing of flats decomposed to even and odd function".SPIE.1992,1776 :73 83) 禾口方寵轉(zhuǎn)平均法(Chris J Evans,Rovert N. Kestner,"Test optics error removal. Applied Optics". 1996,35(7) :1015 1021)。三面互檢法是利用三面兩兩組合測量，計算出每個平面的絕對面形；奇偶函數(shù)法是在傳統(tǒng)三面互檢法的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，除了傳統(tǒng)三面互檢法的三次測量外，還需要將其中一個平面轉(zhuǎn)45度、90度和180度。共六次測量。這種方法將波面分解為偶一奇、奇一偶、偶一偶、奇一奇函數(shù)項，再根據(jù)六次測量的結(jié)果分別求出這四項的值；旋轉(zhuǎn)平均法則是將被測平面做N次360/N度的旋轉(zhuǎn)測量，得到N次測量結(jié)果， 通過計算可以消除系統(tǒng)的非旋轉(zhuǎn)對稱誤差。球面絕對檢測技術(shù)主要有三位置雙球面法(A E Jensen,"Absolute calibration method for laser Twyman-Green wave-front testing interferometers, "J. Opt.Soc. Am. 63 :1313A，1973.)、五位置雙球面法(L A Selberg, "Absolute testing of spherical surfaces,"Optical Fabrication and Testing Workshop,OSA Technical Digest Series 13，181-184，1994.)禾口平移旋轉(zhuǎn)法(Hajime Ichikawa, Takahiro Yamamoto. "Apparatus and method for wavefront absolute calibration and method of synthesizing wavefronts，，，United States Patent，5982490 [P]，1999)。三位置雙球面法的基本原理是利用被測球面在貓眼位置、共焦位置和180度共焦位置的三次測量數(shù)據(jù)進行運算處理得到被測球面的絕對面形；五位置雙球面法則在三位置法的基礎(chǔ)上增加了 90度共焦位置和270 度共焦位置的兩次測量；平移旋轉(zhuǎn)法需要被測光學(xué)元件在共焦位置的多次等角度旋轉(zhuǎn)測量數(shù)據(jù)，外加一次共焦位置的共心平移測量數(shù)據(jù)，運用這些數(shù)據(jù)分別解算出被測光學(xué)元件面形誤差的旋轉(zhuǎn)對稱和非對稱部分，合成這兩部分的計算結(jié)果即可得到被測光學(xué)元件的絕對面形誤差。
非球面絕對檢測技術(shù)主要是雙計算全息法(St印han Reichelt, "Absolute testing of aspheric surfaces，，· SPIE. 2004,5252 :252 263)，這種方法利用計算全息片分別工作在+1級和-1級衍射級次且分別旋轉(zhuǎn)180度時的檢測數(shù)據(jù)，并結(jié)合貓眼位置的檢測數(shù)據(jù)來去除系統(tǒng)誤差。以上所述這些絕對檢測技術(shù)通常需要將被測光學(xué)元件作多次繞光軸旋轉(zhuǎn)一定角度后的面形檢測，而將被測光學(xué)元件繞光軸旋轉(zhuǎn)一定角度后，被測光學(xué)元件受調(diào)整誤差影響會產(chǎn)生傾斜和偏心，這時就需要調(diào)整被測光學(xué)元件，消除旋轉(zhuǎn)過程中產(chǎn)生的傾斜和偏心誤差?，F(xiàn)有的方法是設(shè)計精密的八維調(diào)整架(Karl Edmund Flssner，R Burow,J Grzanna， et al. "Absolute sphericity measurement，，，Appl Opt. 28，4649-4661，1989)，依靠八維調(diào)整架精密的機械結(jié)構(gòu)來控制旋轉(zhuǎn)過程產(chǎn)生的被測光學(xué)元件傾斜與偏心，這種方法結(jié)構(gòu)裝置復(fù)雜，且隨著被測光學(xué)元件數(shù)值孔徑的增大其調(diào)整難度逐漸加大，不易實現(xiàn)。通常的干涉儀調(diào)整為五維調(diào)整，調(diào)整目標(biāo)是獲得干涉零條紋并使得X和Y方向傾斜(tip/tilt)和離焦 (power)值最小，能夠滿足常規(guī)的單次面形檢測調(diào)整需要。而絕對檢測技術(shù)需要有考慮繞光軸旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差影響，本發(fā)明提供一種旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差分析方法，為絕對檢測中旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差控制提供一種定量分析方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對上述方法的不足，提出了一種在絕對檢測中繞光軸旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差分析方法。在絕對檢測中繞光軸旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差分析方法步驟如下1)調(diào)整被測光學(xué)元件檢測裝置，使被測光學(xué)元件和參考面處于共焦位置，即二者的曲率中心點重合，此時檢測得到被測光學(xué)元件的面形數(shù)據(jù)W1(^y)(單位為波長)；2)將測得的被測光學(xué)元件面形數(shù)據(jù)W1(Xj)進行36項(項數(shù)可選)澤尼克條紋多項式擬合(C-J Kim，Robert Shannon，Catalog of Zernike Polynomials,Applied Optics and Optical Engineering，Vol. X, Academic Press Inc，1987)，得到 W1 (x，y) = B1Z1 (x, y) +a2Z2 (x，y) +a3Z3 (x，y) +..· +a36Z. 36 (x，y)，其中，(a2 a3 …,a36 )為各項擬合系數(shù)，Z1U, y),Z2 (x,y),Z3(x,y), -,Z36(x, y)為各項澤尼克條紋多項式表達式；3)將被測光學(xué)元件繞光軸旋轉(zhuǎn)180度，測得被測光學(xué)元件旋轉(zhuǎn)后的面形數(shù)據(jù) 12&，》(單位為波長)；4)將測得的被測光學(xué)元件面形數(shù)據(jù)W2 (x，y)進行36項澤尼克條紋多項式擬合，得到評2(叉，7)=&' ,I1 (x, y)+a' 2Z2(x, y)+a' 3Z3(x, y)+-+a' 36Z. 36 (x，y)，其中，(a' 1； a' 2,a' 3,…，a' 36)為各項擬合系數(shù)；5)將兩次擬合得到的旋轉(zhuǎn)對稱項即第i(i = η2, η = 2,3,4,…)項多項式擬合系數(shù)對應(yīng)相減，即| _a' J ；6)如果各項擬合系數(shù)Iai-Y J差值均小于一定閾值(該閾值需要通過理論仿真確定，對第2步獲得的旋轉(zhuǎn)對稱澤尼克系數(shù)進行平移像素，分析其擬合系數(shù)變化，然后根據(jù)實際控制)，否則返回步驟1)，重新進行調(diào)整測量，直至重新確定的初始位置和旋轉(zhuǎn)180度位置測量數(shù)據(jù)的各旋轉(zhuǎn)對稱項項擬合系數(shù)差值滿足所設(shè)定的閾值條件；7)然后，以180度位置為初始位置，返回步驟幻進行調(diào)整測量，此時被測光學(xué)元件旋轉(zhuǎn)角度為180/2 = 90度，直至重新確定的初始位置和旋轉(zhuǎn)90度位置測量數(shù)據(jù)的各旋轉(zhuǎn)對稱項擬合系數(shù)差值滿足所設(shè)定的閾值條件；8)如此反復(fù)進行N (N根據(jù)光軸對準(zhǔn)精度要求大小可調(diào))次調(diào)整測量(每次調(diào)整測量的旋轉(zhuǎn)角度均為上一次的1/2，，直至所有測量數(shù)據(jù)各旋轉(zhuǎn)對稱項擬合系數(shù)差值均滿足所設(shè)定的閾值條件，說明被測光學(xué)元件的中心旋轉(zhuǎn)軸已和光軸重合較好，繞光軸旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的偏心和傾斜誤差可忽略不計。所述的在各旋轉(zhuǎn)角度位置檢測被測光學(xué)元件的步驟如下1)首先在初始位置對被測光學(xué)元件進行M次重復(fù)測量；2)根據(jù)測得數(shù)據(jù)的PV和RMS值粗大誤差剔除原則萊以特準(zhǔn)則，剔除這M次測量數(shù)據(jù)中的粗大誤差；3)以剔除粗大誤差后的所有測量數(shù)據(jù)(Ml)的平均結(jié)果作為該位置面形測量數(shù)據(jù)，繪制測量數(shù)據(jù)平均結(jié)果(數(shù)據(jù)平均次數(shù)為P，P= 1,2, -,Ml)與測量數(shù)據(jù)(Ml次平均結(jié)果)的殘差圖RMS值隨測量次數(shù)P變化的曲線圖；4)當(dāng)面形殘差圖RMS值隨測量次數(shù)變化的曲線斜率小于一定閾值(閾值可根據(jù)檢測精度大小可調(diào))時，選取該測量次數(shù)(M》作為接下來各旋轉(zhuǎn)角度位置處的總測量次數(shù)， 即M值；5)以剔除粗大誤差后的Ml次測量數(shù)據(jù)的平均結(jié)果作為該位置處的面形測量數(shù)據(jù)；6)如果變化曲線的斜率變化不滿足所要求的閾值，則增加初始測量次數(shù)M，重復(fù)以上測量過程。所述的確定擬合系數(shù)差值閾值大小的理論仿真計算方法如下1)將剔除粗大誤差后的測量數(shù)據(jù)平均結(jié)果(Ml次平均結(jié)果)進行澤尼克條紋多項式擬合系數(shù)，得到旋轉(zhuǎn)對稱項(即澤尼克條紋多項式中θ = 0的項)擬合系數(shù)；2)將測量數(shù)據(jù)平均結(jié)果(Ml次平均結(jié)果)平移s (s可根據(jù)檢測精度設(shè)定)個像素， 將平移后的面形圖進行澤尼克條紋多項式擬合，獲得旋轉(zhuǎn)對稱項(即澤尼克條紋多項式中 θ=0的項)擬合系數(shù)；3)將平移前后的對應(yīng)系數(shù)做差值運算，即可得到所需要的閾值條件；本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比的優(yōu)勢在于1)本發(fā)明的分析將絕對檢測中被測光學(xué)元件的旋轉(zhuǎn)中心軸與光軸的對準(zhǔn)誤差定量化可為絕對檢測中多次繞光軸旋轉(zhuǎn)測量時對準(zhǔn)誤差控制提高目標(biāo)值。2)本發(fā)明通過實時分析被測光學(xué)元件檢測數(shù)據(jù)，可以實現(xiàn)被測光學(xué)元件旋轉(zhuǎn)中心軸與光軸對準(zhǔn)的閉環(huán)控制，提高了對準(zhǔn)精度。3)本發(fā)明無需復(fù)雜的八維精密調(diào)整機構(gòu)，可大大簡化檢測裝置。


圖1為被測光學(xué)元件中心旋轉(zhuǎn)軸與系統(tǒng)光軸偏離時的檢測示意圖；圖中1為標(biāo)準(zhǔn)鏡，2為參考面，3為被測光學(xué)元件，4為系統(tǒng)光軸，5為被測光學(xué)元件中心旋轉(zhuǎn)軸；圖2為本發(fā)明實施例中面形殘差圖RMS值隨檢測次數(shù)變化的曲線圖；圖3為本發(fā)明實施例中被測光學(xué)元件在初始位置檢測得到的面形誤差數(shù)據(jù)圖；圖4為本發(fā)明實施例中將被測光學(xué)元件繞光軸旋轉(zhuǎn)180度后檢測得到的面形誤差數(shù)據(jù)圖；圖5為本發(fā)明數(shù)據(jù)處理流程示意圖。
具體實施例方式具體實施方式
結(jié)合附圖2-4來說明。在絕對檢測中繞光軸旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差分析的過程1)調(diào)整被測光學(xué)元件檢測裝置，使被測光學(xué)元件和參考面處于共焦位置，即二者的曲率中心點重合。此時對被測光學(xué)元件進行M次(M可取50)重復(fù)測量；根據(jù)測得數(shù)據(jù)的 PV和RMS值，PV是指面形數(shù)據(jù)中的最大值和最小值之差，RMS則是指面形數(shù)據(jù)的均方根值， 粗大誤差剔除原則萊以特準(zhǔn)則，剔除這M次測量數(shù)據(jù)中的粗大誤差，以剔除粗大誤差后的所有測量數(shù)據(jù)(Ml次)的平均結(jié)果作為該位置面形測量數(shù)據(jù)，繪制測量數(shù)據(jù)平均結(jié)果(數(shù)據(jù)平均次數(shù)為P，P = 1,2,…，M1，相當(dāng)于每做完一次測量，就對之前已得到的所有的測量數(shù)據(jù)做一次平均)與測量數(shù)據(jù)(Ml次平均結(jié)果)的殘差圖RMS值隨測量次數(shù)P變化的曲線圖，如圖4所示；當(dāng)面形殘差圖RMS值隨測量次數(shù)變化的曲線斜率滿足一定閾值(閾值根據(jù)檢測精度可調(diào))時，選取該測量次數(shù)(如圖4所示的似)作為接下來各旋轉(zhuǎn)角度位置處的總測量次數(shù)，即M值，以剔除粗大誤差后的Ml次測量數(shù)據(jù)的平均結(jié)果作為該位置處的面形測量數(shù)據(jù)即W1 (X，y)(單位為波長)，如圖2所示;2)將測得的被測光學(xué)元件面形數(shù)據(jù)W1 (x, y)進行36項(項數(shù)可選)澤尼克條紋多項式擬合，得到 W1 (X，y) = B1Z^x, y) +a2Z2 (X' y) +a3Z3(X' y)+···+ει36Ζ· 36 (x，y)，其中，(a1 a2，a3,…，a36)為各項擬合系數(shù)，Z1 (χ, y), Ζ2(χ, y), Ζ3(χ, y)，…，Z36 (χ, y)為各項澤尼克條紋多項式表達式；3)將被測光學(xué)元件繞光軸旋轉(zhuǎn)180度，在該位置進行M次重復(fù)測量，以剔除粗大誤差后測量數(shù)據(jù)的平均結(jié)果作為測得被測光學(xué)元件在該位置處的面形數(shù)據(jù)，即W2(x，y)(單位為波長)，如圖3所示；4)將測得的被測光學(xué)元件面形數(shù)據(jù)W2 (x，y)進行36項澤尼克條紋多項式擬合，得到評2(叉，7)=&' ,Z1 (x, y)+a' 2Z2(x, y)+a' 3Z3(x, y)+-+a' 36Z. 36 (x，y)，其中，(a' 1； a' 2,a' 3,…，a' 36)為各項擬合系數(shù)；5)將兩次擬合得到的旋轉(zhuǎn)對稱項即第i(i = η2, η = 2,3,4,…)項多項式擬合系數(shù)對應(yīng)相減，即| _a' J ；6)如果各項擬合系數(shù)Iai-Y J差值均小于一定閾值(該閾值需要通過理論仿真確定，對第2步獲得的旋轉(zhuǎn)對稱澤尼克系數(shù)進行平移像素，分析其擬合系數(shù)變化，然后根據(jù)實際控制)，否則返回步驟1)，重新進行調(diào)整測量，直至重新確定的初始位置和旋轉(zhuǎn)180度位置測量數(shù)據(jù)的各旋轉(zhuǎn)對稱項項擬合系數(shù)差值滿足所設(shè)定的閾值條件；7)然后，以180度位置為初始位置，返回步驟幻進行調(diào)整測量(此時被測光學(xué)元件旋轉(zhuǎn)角度為180/2 = 90度)，直至重新確定的初始位置和旋轉(zhuǎn)90度位置測量數(shù)據(jù)的各旋轉(zhuǎn)對稱項擬合系數(shù)差值滿足所設(shè)定的閾值條件；8)如此反復(fù)進行N (N根據(jù)光軸對準(zhǔn)精度要求大小可調(diào))次調(diào)整測量(每次調(diào)整測量的旋轉(zhuǎn)角度均為上一次的1/2)，直至所有測量數(shù)據(jù)各旋轉(zhuǎn)對稱項擬合系數(shù)差值均滿足所設(shè)定的閾值條件，說明被測光學(xué)元件的中心旋轉(zhuǎn)軸已和光軸重合較好，繞光軸旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的偏心和傾斜誤差可忽略不計。 以上所述，僅為本發(fā)明中的具體實施方式
，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉該技術(shù)的人在本發(fā)明所揭露的技術(shù)范圍內(nèi)的局部修改或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的包含范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種繞光軸旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差分析方法，其特征在于包含以下步驟1)調(diào)整被測光學(xué)元件檢測裝置，使被測光學(xué)元件和參考面處于共焦位置，即二者的曲率中心點重合，此時檢測得到被測光學(xué)元件的面形數(shù)據(jù)W1 (x, y)，所述面形數(shù)據(jù)就是很多數(shù)據(jù)點的集合，每個數(shù)據(jù)點對應(yīng)著被測光學(xué)元件上相應(yīng)點相對于標(biāo)準(zhǔn)參考面形的誤差，單位為波長；2)將測得的被測光學(xué)元件面形數(shù)據(jù)W1U,y)進行36項澤尼克條紋多項式擬合，得到 W1 (x, y) = B1Z1 (χ, y)+￡i24(x, y)+￡i3A(x, y)+...+ει36Ζ· 36(x, y),其中，(a1 a2, a3, ···, a36)為各項擬合系數(shù),Z1(^y)，Z2 (x，y)，Z3(x，y)，-,Z36(x,y)為各項澤尼克條紋多項式表達式；3)將被測光學(xué)元件繞光軸旋轉(zhuǎn)180度，測得被測光學(xué)元件旋轉(zhuǎn)后的面形數(shù)據(jù)W2(x，y)， 其單位為波長；4)將測得的被測光學(xué)元件面形數(shù)據(jù)W2(X，y)進行36項澤尼克條紋多項式擬合，得到 W2 (x, y) = a' ^1(X7Y) +a' 2Z2 (x,y) +a' 3Z3 (χ, y)+...+a' 36Ζ· 36 (χ, y),其中,(a' ”a' 2, a' 3，-,a' 36)為各項擬合系數(shù)；5)將兩次擬合得到的旋轉(zhuǎn)對稱項即第i項多項式擬合系數(shù)對應(yīng)相減，即Iai-Y」，其中 i = η2，η = 2,3,4,...；6)如果各項擬合系數(shù)Iai-Yi I差值均小于一定閾值，該閾值需要通過理論仿真確定， 將第2步獲得的面形數(shù)據(jù)平移幾個像素，分析其擬合系數(shù)變化，然后根據(jù)實際精度要求控制，否則返回步驟1)，重新進行調(diào)整測量，直至重新確定的初始位置和旋轉(zhuǎn)180度位置測量數(shù)據(jù)的各旋轉(zhuǎn)對稱項項擬合系數(shù)差值滿足所設(shè)定的閾值條件；7)然后，以180度位置為初始位置，返回步驟幻進行調(diào)整測量，此時被測光學(xué)元件旋轉(zhuǎn)角度為180/2 = 90度，直至重新確定的初始位置和旋轉(zhuǎn)90度位置測量數(shù)據(jù)的各旋轉(zhuǎn)對稱項擬合系數(shù)差值滿足所設(shè)定的閾值條件；8)按步驟(7)重復(fù)進行N次調(diào)整測量，每次調(diào)整測量的旋轉(zhuǎn)角度均為上一次的1/2，直至所有測量數(shù)據(jù)各旋轉(zhuǎn)對稱項擬合系數(shù)差值均滿足所設(shè)定的閾值條件，說明被測光學(xué)元件的中心旋轉(zhuǎn)軸已和光軸重合較好，繞光軸旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的偏心和傾斜誤差可忽略不計。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種繞光軸旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差分析方法，其特征在于所述的在各旋轉(zhuǎn)角度位置檢測被測光學(xué)元件的步驟如下1)首先在初始位置對被測光學(xué)元件進行M次重復(fù)測量；2)根據(jù)測得數(shù)據(jù)的PV和RMS值粗大誤差剔除原則萊以特準(zhǔn)則，剔除這M次測量數(shù)據(jù)中的粗大誤差；3)以剔除粗大誤差后的所有測量數(shù)據(jù)(Ml)的平均結(jié)果作為該位置面形測量數(shù)據(jù)，繪制測量數(shù)據(jù)平均結(jié)果(數(shù)據(jù)平均次數(shù)為P，P= 1,2,…，Ml)與測量數(shù)據(jù)(Ml次平均結(jié)果) 的殘差圖RMS值隨測量次數(shù)P變化的曲線圖；4)當(dāng)面形殘差圖RMS值隨測量次數(shù)變化的曲線斜率小于一定閾值(閾值可根據(jù)檢測精度大小可調(diào))時，選取該測量次數(shù)(M》作為接下來各旋轉(zhuǎn)角度位置處的總測量次數(shù)，即 M值；5)以剔除粗大誤差后的Ml次測量數(shù)據(jù)的平均結(jié)果作為該位置處的面形測量數(shù)據(jù)；6)如果變化曲線的斜率變化不滿足所要求的閾值，則增加初始測量次數(shù)M，重復(fù)以上測量過程。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種繞光軸旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差分析方法，其特征在于所述的確定擬合系數(shù)差值閾值大小的理論仿真計算方法如下1)將剔除粗大誤差后的測量數(shù)據(jù)平均結(jié)果(Ml次平均結(jié)果)進行澤尼克條紋多項式擬合系數(shù)，得到旋轉(zhuǎn)對稱項擬合系數(shù)；2)將測量數(shù)據(jù)平均結(jié)果(Ml次平均結(jié)果)平移s(s可根據(jù)檢測精度設(shè)定)個像素，將平移后的面形圖進行澤尼克條紋多項式擬合，獲得旋轉(zhuǎn)對稱項(即澤尼克條紋多項式中θ =0的項)擬合系數(shù)；3)將平移前后的對應(yīng)系數(shù)做差值運算，即可得到所需要的閾值條件；
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種繞光軸旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差分析方法，其特征在于所述的被測光學(xué)元件繞光軸的旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差是由澤尼克條紋多項式的旋轉(zhuǎn)對稱項擬合系數(shù)來定量表征的，即第i項多項式擬合系數(shù)，i = η2,η = 2,3,4,…該第i項即澤尼克條紋多項式中θ =0的項。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種繞光軸旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差分析方法。首先對初始位置處測得的面形數(shù)據(jù)進行澤尼克條紋多項式擬合，提取旋轉(zhuǎn)對稱項的擬合系數(shù)；然后將被測光學(xué)元件繞光軸旋轉(zhuǎn)一定角度，對測得的面形數(shù)據(jù)同樣進行多項式擬合并提取旋轉(zhuǎn)對稱項的系數(shù)，然后與旋轉(zhuǎn)前的對應(yīng)多項式擬合系數(shù)做差值運算并與擬合得到的閾值作對比，即可獲得繞光軸旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差信息。如此反復(fù)進行多次不同旋轉(zhuǎn)角度位置的對準(zhǔn)。本發(fā)明提供了一種旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差分析方法，為絕對檢測中旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差控制提供了一種定量分析方法，對減小旋轉(zhuǎn)對準(zhǔn)誤差進而提高面形絕對檢測精度具有較大的應(yīng)用價值。
文檔編號G01B11/24GK102494631SQ20111038333
公開日2012年6月13日 申請日期2011年11月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月26日
發(fā)明者萬勇建, 伍凡, 侯溪, 吳永前, 宋偉紅 申請人:中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所