專利名稱：檢查方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的示例性實(shí)施例涉及一種檢查方法。更具體而言，本發(fā)明的示例性實(shí)施例涉及一種對(duì)板的檢查方法。
背景技術(shù)：
一般而言，在電子裝置中使用至少一個(gè)印刷電路板(PCB)，在印刷電路板上安裝例如電路圖案、連接焊盤部、電連接到連接焊盤部的驅(qū)動(dòng)芯片等各種電路元件。通常利用形狀測(cè)量設(shè)備檢查各種電路元件是否良好地形成或構(gòu)造在印刷電路板上。在常規(guī)的形狀測(cè)量設(shè)備中，設(shè)定預(yù)定的檢查區(qū)域，以檢查電路元件是否良好地形成在檢查區(qū)域中。在常規(guī)的設(shè)定檢查區(qū)域的方法中，簡(jiǎn)單地將理論上布置有電路元件的區(qū)域設(shè)定為檢查區(qū)域。當(dāng)將檢查區(qū)域設(shè)定在正確位置時(shí)，可以很好地對(duì)所需電路元件進(jìn)行測(cè)量。然而，在例如印刷電路板等測(cè)量目標(biāo)中，基板可能產(chǎn)生例如翹曲、扭曲等變形。因此，在常規(guī)的設(shè)定檢查區(qū)域的方法中，檢查區(qū)域沒(méi)有正確地設(shè)定在所需位置，并且與圖像捕獲部的照相機(jī)所獲取的圖像對(duì)應(yīng)的位置與電路元件實(shí)際存在的位置略有不同。因此，需要設(shè)定檢查區(qū)域，以便補(bǔ)償測(cè)量目標(biāo)的變形。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的示例性實(shí)施例提供一種檢查方法，所述檢查方法能夠設(shè)定測(cè)量目標(biāo)的變形得到補(bǔ)償?shù)臋z查區(qū)域，并且能夠正確地選擇消除了錯(cuò)誤辨識(shí)可能性的特征對(duì)象。在下面的描述中將闡述本發(fā)明的其他特征，可通過(guò)這些描述部分地明顯看出本發(fā)明的其他特征，或者可通過(guò)實(shí)施本發(fā)明來(lái)獲悉本發(fā)明的其他特征。本發(fā)明的示例性實(shí)施例公開(kāi)了一種檢查方法。所述檢查方法包括在板上設(shè)定測(cè)量區(qū)域；獲取所述測(cè)量區(qū)域的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和測(cè)量數(shù)據(jù)；通過(guò)塊單元建立多個(gè)特征塊以便包含所述測(cè)量區(qū)域中的預(yù)定形狀；通過(guò)合并所述特征塊中的重疊的特征塊來(lái)建立合并塊；通過(guò)將與除所述合并塊以外的所述特征塊和/或所述合并塊對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行比較來(lái)獲得變形度；以及補(bǔ)償所述變形度，以便在目標(biāo)測(cè)量區(qū)域中設(shè)定檢查區(qū)域。在示例性實(shí)施例中，在所述測(cè)量區(qū)域中的預(yù)定形狀可包括彎曲圖案和孔圖案中的至少一者。所述通過(guò)塊單元建立多個(gè)特征塊以便包含所述測(cè)量區(qū)域中的預(yù)定形狀的步驟可包括找到與所述預(yù)定形狀對(duì)應(yīng)的彎曲電路圖案的角部的位置；以及建立所述彎曲電路圖案的角部的邊緣區(qū)，并且建立由所建立的所述邊緣區(qū)限定的特征塊。所述通過(guò)合并所述特征塊中的重疊的特征塊來(lái)建立合并塊的步驟可包括合并所述重疊的特征塊的邊緣區(qū)；以及通過(guò)提取所述合并后的邊緣區(qū)的最小四邊形來(lái)建立合并塊。所述通過(guò)將與除所述合并塊以外的特征塊和/或所述合并塊對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行比較來(lái)獲得變形度的步驟可包括從除所述合并塊以外的特征塊和/或所述合并塊中提取比較塊；以及通過(guò)將與所述提取的比較塊對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和測(cè)量數(shù)據(jù)相互比較來(lái)獲得變形度。在示例性實(shí)施例中，所述提取的比較塊可為多個(gè)，并且這些比較塊被提取成在所述測(cè)量區(qū)域中均勻分布。在另一示例性實(shí)施例中，所述提取的比較塊可為多個(gè)，并且在除所述合并塊以外的特征塊和/或所述合并塊中，所述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和所述測(cè)量數(shù)據(jù)之間的形狀差異越小，則賦予所述特征塊或所述合并塊的分?jǐn)?shù)越大?？苫谒龇?jǐn)?shù)提取所述比較塊。所述獲取的變形度可作為與所述比較塊對(duì)應(yīng)的所述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和所述測(cè)量數(shù)據(jù)之間的量化變換公式，并且可通過(guò)利用位置變化、斜度變化、尺寸變化和轉(zhuǎn)換程度中的至少一者來(lái)確定所述量化變換公式，所述位置變化、斜度變化、尺寸變化和轉(zhuǎn)換程度是通過(guò)將與所述比較塊對(duì)應(yīng)的所述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和所述測(cè)量數(shù)據(jù)相互比較而獲得的。如果所述合并的特征塊的數(shù)量大于或等于預(yù)定的基準(zhǔn)數(shù)，則在提取比較塊時(shí)可排除通過(guò)合并特征塊而獲得的合并塊。每個(gè)所述特征塊的所述預(yù)定形狀可具有二維標(biāo)識(shí)符，從而消除了因周圍形狀而導(dǎo)致錯(cuò)誤辨識(shí)的可能性。根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)塊單元建立特征塊以便包含設(shè)置在板上的測(cè)量區(qū)域FOV中的預(yù)定形狀，并且通過(guò)合并特征塊中的重疊的特征塊來(lái)建立合并塊，從而通過(guò)將基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI和測(cè)量數(shù)據(jù)PI進(jìn)行比較來(lái)獲得變形度并且補(bǔ)償變形度。因此，可更正確地設(shè)定檢查區(qū)域。此外，將重疊的特征塊合并以消除相似形狀之間錯(cuò)誤辨識(shí)的可能性。因此，可更有效地選擇特征對(duì)象。此外，在特征塊均勻地分布在板上之后，獲取并且補(bǔ)償變形度，從而更正確地設(shè)定檢查區(qū)域。此外，可基于如上所述設(shè)定的測(cè)量區(qū)域FOV來(lái)進(jìn)行檢查部件等工作，從而更正確地判斷板的好壞。應(yīng)當(dāng)理解，前面的概括說(shuō)明和后面的詳細(xì)說(shuō)明都是示例性和解釋性的，旨在進(jìn)一步說(shuō)明要求保護(hù)的本發(fā)明。


附圖用于幫助進(jìn)一步理解本發(fā)明并且構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分。這些附圖示出了本發(fā)明的實(shí)施例，并且與后面的描述一起解釋本發(fā)明的原理。圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的檢查方法的流程圖。圖2是示出圖1中所示的檢查方法中的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的俯視圖。圖3是示出圖1中所示的檢查方法中的測(cè)量數(shù)據(jù)的俯視圖。
具體實(shí)施例方式下面基準(zhǔn)附圖更全面地描述本發(fā)明，在附圖中示出了本發(fā)明的示例性實(shí)施例。然而，本發(fā)明可以用很多不同的形式來(lái)實(shí)現(xiàn)，而不局限于本文所述的示例性實(shí)施例。提供了這些示例性實(shí)施例是為了使公開(kāi)充分和完整，以使本領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠全面地理解本發(fā)明的范圍。為清晰起見(jiàn)，在附圖中可能夸大層和區(qū)域的尺寸和相對(duì)尺寸。應(yīng)該理解，當(dāng)提到部件或?qū)印拔挥诹硪徊考驅(qū)由稀?、“與另一部件或?qū)舆B接”或“與另一部件或?qū)酉噙B”時(shí)，該部件或?qū)涌梢灾苯游挥诹硪徊考驅(qū)由?、與另一部件或?qū)又苯舆B接或與另一部件或?qū)又苯酉噙B，或者在該部件或?qū)优c另一部件或?qū)又g可以存在介入的部件或?qū)?。相比之下，?dāng)提到部件“直接位于另一部件或?qū)由稀?、“與另一部件或?qū)又苯舆B接” 或“與另一部件或?qū)又苯酉噙B”時(shí)，不存在介入的部件或?qū)?。在全文中，相同的附圖標(biāo)記表示相同的部件。本文所使用的短語(yǔ)“和/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)列舉項(xiàng)的任意組合和全部組合。應(yīng)該理解，盡管文中可以使用短語(yǔ)第一、第二和第三等來(lái)描述各種元件、部件、區(qū)域、層和/或部分，但這些元件、部件、區(qū)域、層和/或部分不受這些短語(yǔ)限制。這些短語(yǔ)僅僅用來(lái)將一個(gè)元件、部件、區(qū)域、層或部分與另一個(gè)元件、部件、區(qū)域、層或部分區(qū)分開(kāi)。從而，在不偏離本發(fā)明的教導(dǎo)的情況下，可以將下文所述的第一元件、第一部件、第一區(qū)域、第一層或第一部分稱為第二元件、第二部件、第二區(qū)域、第二層或第二部分。在本文中，為了便于描述，可能使用諸如“之下”、“下方”、“下面”、“上方”和“上面” 等空間相對(duì)短語(yǔ)來(lái)描述附圖中所示的一個(gè)部件或特征與另一個(gè)(些)部件或特征的關(guān)系。 應(yīng)該理解，除了圖中示出的方位外，空間相對(duì)短語(yǔ)還意圖涵蓋裝置在使用或操作中的不同方位。例如，如果裝置在圖中翻轉(zhuǎn)，則描述為在其它部件或特征“下方”或“之下”的部件的方位將變?yōu)樵谄渌考蛱卣鳌吧戏健?。從而，示例性短語(yǔ)“下方”可以涵蓋上方和下方兩個(gè)方位。該裝置可以以其它方式定方位(旋轉(zhuǎn)90度或處于其它方位)，并且對(duì)本文所使用的空間相對(duì)描述語(yǔ)應(yīng)做相應(yīng)理解。本文所使用的術(shù)語(yǔ)僅僅為了描述具體的示例性實(shí)施例，而不是為了限制本發(fā)明。 除文中明確地另有說(shuō)明以外，本文所使用的單數(shù)形式“一”、“一個(gè)”和“這個(gè)”、“該”意圖也涵蓋復(fù)數(shù)形式。還應(yīng)該理解，本說(shuō)明書(shū)中使用的短語(yǔ)“包括”和/或“包含”表示存在所提及的特征、整體、步驟、操作、元件和/或部件，但不排除存在或添加一個(gè)或多個(gè)其它特征、整體、 步驟、操作、元件、部件和/或它們的組合。在本文中基準(zhǔn)剖視圖來(lái)描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例，其中剖視圖是本發(fā)明的理想示例性實(shí)施例(和中間結(jié)構(gòu))的示意圖。因此，可以預(yù)料到會(huì)因例如制造技術(shù)和/或制造公差而與所示的形狀存在差異。從而，本發(fā)明的示例性實(shí)施例不限于本文所示區(qū)域的具體形狀，而應(yīng)該包括由例如制造導(dǎo)致的形狀偏差。例如，示出為矩形的注入?yún)^(qū)域在其邊緣處通常具有圓整的或弧形的特征和/或注入濃度梯度，而不是從注入?yún)^(qū)域至非注入?yún)^(qū)域呈現(xiàn)二元變化。同樣，由離子注入形成的埋入?yún)^(qū)域可能造成一些離子注入發(fā)生在埋入?yún)^(qū)域與進(jìn)行離子注入時(shí)所穿透的表面之間的區(qū)域中。從而，圖中所示的區(qū)域本質(zhì)上是示意性的，所示區(qū)域的形狀并非意圖示出裝置的區(qū)域的實(shí)際形狀，并且并非意圖限制本發(fā)明的范圍。除另外限定以外，本文所使用的所有短語(yǔ)(包括技術(shù)短語(yǔ)和科學(xué)短語(yǔ))的含義與本發(fā)明所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員通常理解的含義相同。還應(yīng)該理解，常用詞典中所定義的短語(yǔ)應(yīng)該解釋為具有與其在相關(guān)技術(shù)背景中的含義一致的含義，并且除本文明確定義以外，不應(yīng)該用理想化的或過(guò)于刻板的意義來(lái)解釋這些短語(yǔ)。下面將基準(zhǔn)附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的示例性實(shí)施例。圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的檢查方法的流程圖。圖2是示出圖1中所示的檢查方法中的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)的俯視圖。圖3是示出圖1中所示的檢查方法中的測(cè)量數(shù)據(jù)的俯視圖?；鶞?zhǔn)圖1至圖3，根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例，為了設(shè)定補(bǔ)償了變形的檢查區(qū)域， 首先，在步驟SllO中，在板上設(shè)定測(cè)量區(qū)域F0V。測(cè)量區(qū)域FOV表示在板上設(shè)定的預(yù)定區(qū)域，以便檢查板是好還是壞，并且例如可基于安裝在檢查設(shè)備(例如三維形狀測(cè)量設(shè)備)中的照相機(jī)的“視場(chǎng)”來(lái)限定測(cè)量區(qū)域。然后，在步驟S120中，獲取測(cè)量區(qū)域FOV的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI和測(cè)量數(shù)據(jù)PI?；鶞?zhǔn)數(shù)據(jù)RI例如可與圖2所示的板的理論俯視圖對(duì)應(yīng)。在示例性實(shí)施例中，可從記錄板的形狀的CAD信息或gerber信息獲取基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI。CAD信息或gerber信息可包括板的設(shè)計(jì)信息，并且通常包括焊盤10、電路圖案30、孔圖案40等的構(gòu)造信息。在另一示例性實(shí)施例中，可從在學(xué)習(xí)模式下獲得的學(xué)習(xí)信息獲取基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI。學(xué)習(xí)模式可例如通過(guò)如下過(guò)程實(shí)現(xiàn)例如在數(shù)據(jù)庫(kù)中搜索板信息，在數(shù)據(jù)庫(kù)中沒(méi)有板信息的情況下學(xué)習(xí)裸板，通過(guò)學(xué)習(xí)裸板而產(chǎn)生板信息，然后將板信息存儲(chǔ)在數(shù)據(jù)庫(kù)中。也就是說(shuō)， 在學(xué)習(xí)模式中，學(xué)習(xí)印刷電路板的裸板，并且獲取印刷電路板的設(shè)計(jì)基準(zhǔn)信息，可通過(guò)利用學(xué)習(xí)模式獲取學(xué)習(xí)信息來(lái)獲取基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI。測(cè)量數(shù)據(jù)PI例如可以是印刷電路板的實(shí)際捕獲圖像，在圖像中顯示安裝在板上的部件20、端子22、形成在部件20上的極性指示24、電路圖案30、孔42等。如圖3所示， 除了例如部件20等附加元件之外，測(cè)量數(shù)據(jù)PI的圖像與圖2中所示的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI的圖像相同。然而，因板的翹曲、扭曲等，測(cè)量數(shù)據(jù)PI與基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI相比發(fā)生變形。在示例性實(shí)施例中，可通過(guò)如下方法獲取測(cè)量數(shù)據(jù)PI 使用檢查設(shè)備的照明部將光照射到測(cè)量區(qū)域FOV上，使用安裝在檢查設(shè)備中的照相機(jī)來(lái)捕獲由照射的光所反映的圖像?？蛇x地，可通過(guò)如下方式獲取測(cè)量數(shù)據(jù)PI 使用檢查設(shè)備的柵格圖案投射部將柵格圖案光投射到測(cè)量區(qū)域FOV上，捕獲由投射的柵格圖案光所反映的圖像以獲取三維形狀數(shù)據(jù)，以及對(duì)三維形狀數(shù)據(jù)求均值。然后，在步驟S130中，通過(guò)塊單元建立多個(gè)特征塊，以便包含測(cè)量區(qū)域FOV的預(yù)定形狀。為了通過(guò)比較基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI和測(cè)量數(shù)據(jù)PI來(lái)獲得變形度(下文將說(shuō)明)，需要一個(gè)比較目標(biāo)，比較目標(biāo)被定義為特征對(duì)象。在該步驟中，特征對(duì)象建立為塊單元的特征塊。各特征塊的預(yù)定形狀可具有能夠限定二維平面的二維標(biāo)識(shí)符，從而消除了因周圍形狀而導(dǎo)致的錯(cuò)誤辨識(shí)的可能性。例如，二維標(biāo)識(shí)符可包括各種彎曲線、四邊形、圓形及其組合，由于直線不能限定二維平面，因此在二維標(biāo)識(shí)符中不包括直線。當(dāng)將基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI和測(cè)量數(shù)據(jù)PI相互比較時(shí)，傳統(tǒng)上用作特征對(duì)象的彎曲圖案的角部、圓、孔等可能分別被錯(cuò)誤辨識(shí)為相鄰的彎曲圖案的角部、相鄰的圓、相鄰的孔等。因此，在不是僅僅將彎曲圖案的角部、圓40、孔42等建立為特征對(duì)象、而是將特征塊用作為特征對(duì)象的情況下，特征塊具有預(yù)定形狀，并且預(yù)定形狀多種多樣，由此可大幅減小錯(cuò)誤辨識(shí)的可能性。例如，預(yù)定形狀可具有彎曲圖案和孔圖案中的至少一者?？砂凑杖缦路椒ń⒍鄠€(gè)特征塊。在找到與預(yù)定形狀對(duì)應(yīng)的彎曲電路圖案的角部的位置之后，建立彎曲電路圖案的角部的邊緣區(qū)，并且建立由所建立的邊緣區(qū)限定的特征塊。在示例性實(shí)施例中，如圖3所示，可建立第一至第八特征塊FBI、FB2、FB3、FB4、 FB5、FB6、FB7 禾口 FB8。此后，在步驟S140中，通過(guò)合并特征塊中的重疊的特征塊來(lái)建立合并塊。為了建立合并塊，首先，合并重疊的特征塊的邊緣區(qū)，然后通過(guò)提取合并的邊緣區(qū)的最小四邊形來(lái)建立合并塊。在示例性實(shí)施例中，如圖3所示，可通過(guò)合并重疊的第一特征塊FBl和第二特征塊 FB2來(lái)建立第一合并塊MBl，并且可通過(guò)合并重疊的第三特征塊FB3和第四特征塊FB4來(lái)建立第二合并塊MB2。如圖2和圖3所示，可在基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI中建立特征塊，可在測(cè)量數(shù)據(jù)PI中建立特征塊的合并塊。換言之，可在基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI中建立特征塊，并且可在測(cè)量數(shù)據(jù)PI中找到與特征塊中的形狀匹配的匹配形狀?？蛇x地，可在測(cè)量數(shù)據(jù)PI中建立特征塊，并且可在基準(zhǔn)數(shù)據(jù) RI中建立特征塊的合并塊。盡管由于板的翹曲和扭曲，在測(cè)量數(shù)據(jù)PI中表示的特征塊中的形狀與基準(zhǔn)數(shù)據(jù) PI相比略有偏差，但是，如上所述，如果建立合并塊并且通過(guò)由合并塊形成的單元來(lái)將測(cè)量數(shù)據(jù)PI和基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI相互比較，則可大幅減小因類似的周圍形狀引起的錯(cuò)誤辨識(shí)的可能性。具體而言，在建立了特征塊并且在該特征塊內(nèi)各處重復(fù)存在相同的形狀的情況下，當(dāng)將和基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI對(duì)應(yīng)的特征塊中的形狀與和測(cè)量數(shù)據(jù)PI對(duì)應(yīng)的特征塊中的形狀相互比較時(shí)，會(huì)發(fā)生錯(cuò)誤，即錯(cuò)誤地辨識(shí)了能夠用作比較目標(biāo)的對(duì)象。然而，如上所述，如果建立了合并塊并且通過(guò)由合并塊形成的單元來(lái)將測(cè)量數(shù)據(jù)PI和基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI相互比較，則可大幅減小因類似的周圍形狀引起的錯(cuò)誤辨識(shí)的可能性。例如，由于第一特征塊FBl和第二特征塊FB2具有彼此類似的形狀，所以在由于板的翹曲和扭曲而使測(cè)量數(shù)據(jù)PI的特征塊中的形狀與基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI的特征塊中的形狀略有偏差的情況下，可能將其中的一個(gè)特征塊錯(cuò)誤地辨識(shí)成另一個(gè)特征塊。然而，當(dāng)通過(guò)使用第一合并塊MBl進(jìn)行比較時(shí)，則可大幅減小錯(cuò)誤辨識(shí)的可能性。此后，在步驟S150中，通過(guò)將與除合并塊以外的特征塊對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行比較和/或?qū)⑴c合并塊對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行比較，來(lái)獲取變形度。在圖3中，通過(guò)將與除合并塊MBl和MB2以外的特征塊FB5、FB6、FB7和FB8對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行比較和/或?qū)⑴c合并塊MBl和MB2對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行比較，來(lái)獲取變形度。從塊中提取用于相互比較基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI和測(cè)量數(shù)據(jù)PI的目標(biāo)塊(下文稱為“比較塊”)，然后可通過(guò)利用提取的比較塊來(lái)獲取變形度。在圖3中，在從除合并塊MBl和MB2以外的特征塊FB5、FB6、FB7和FB8中和/或從合并塊MBl和MB2中提取比較塊之后，可通過(guò)將與提取的特征塊對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI和測(cè)量數(shù)據(jù)PI比較來(lái)獲得變形度。在示例性實(shí)施例中，提取的比較塊可為多個(gè)，可將多個(gè)比較塊提取成在測(cè)量區(qū)域 FOV中均勻分布。在測(cè)量區(qū)域FOV中的均勻分布可通過(guò)例如根據(jù)各種幾何標(biāo)準(zhǔn)的圖像處理等處理工作來(lái)限定。例如，如果基準(zhǔn)數(shù)為4并且測(cè)量區(qū)域FOV的形狀為矩形，則可將最靠近測(cè)量區(qū)域FOV的各個(gè)角的特征塊提取為比較塊，而不把其它的特征塊提取為比較塊。在圖3中，例如，可提取第一合并塊MBl、第五特征塊FB5和第七特征塊FB7作為比較塊。更具體而言，如果測(cè)量區(qū)域FOV的形狀為矩形，則矩形的測(cè)量區(qū)域FOV被分成3X3 矩陣形式的9個(gè)子矩形，此后，優(yōu)選將存在于與每個(gè)角對(duì)應(yīng)的子矩形中的特征塊提取為比較塊。因此，可以提取出在測(cè)量區(qū)域FOV中均勻分布的比較塊。在另一示例性實(shí)施例中，提取的比較塊可為多個(gè)。將基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI和測(cè)量數(shù)據(jù)PI 相互比較以給出分?jǐn)?shù)，然后基于給出的分?jǐn)?shù)提取比較塊。在圖3中，在除合并塊MBl和MB2以外的特征塊FB5、FB6、FB7和FB8中和/或在合并塊MBl和MB2中，基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI和測(cè)量數(shù)據(jù)PI之間的形狀差異越小，則賦予該特征塊或合并塊的分?jǐn)?shù)越大。也就是說(shuō)，分?jǐn)?shù)可表達(dá)將基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI與測(cè)量數(shù)據(jù)PI相比時(shí)的形狀一致程度。例如，可基于以下信息建立分?jǐn)?shù)在把形狀限定為由像素構(gòu)成的單元時(shí)一致的像素的數(shù)量，當(dāng)比較基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI和測(cè)量數(shù)據(jù)PI時(shí)強(qiáng)度、飽和度、色度中的至少一者的一致程度，轉(zhuǎn)換程度和角度。對(duì)于孔，可基于孔的形狀沿χ和y方向轉(zhuǎn)換的程度來(lái)建立分?jǐn)?shù)。在這種情況下，可將具有大分?jǐn)?shù)的塊建立為比較塊。如果合并的特征塊的數(shù)量等于或大于預(yù)定基準(zhǔn)數(shù)，則可在提取比較塊時(shí)排除通過(guò)合并特征塊所獲得的合并塊。隨著合并的特征塊的數(shù)量增大，合并塊的尺寸也增大。因此， 將與合并塊對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI和測(cè)量數(shù)據(jù)PI進(jìn)行比較的時(shí)間大幅增加。因此，在提取比較塊時(shí)排除由數(shù)量等于或大于基準(zhǔn)數(shù)的特征塊所形成的合并塊。例如，基準(zhǔn)數(shù)可為3或4。出于類似的原因，如果特征塊的尺寸相同，則優(yōu)選提取非合并的特征塊，可按照合并塊包含的合并的特征塊的數(shù)量從小到大的順序提取合并塊。此外，如果特征塊的尺寸彼此不同，則優(yōu)選按照特征塊尺寸從小到大的順序提取特征塊。為了提取比較塊，可選擇性地使用或全部使用上文描述的下述標(biāo)準(zhǔn)，即第一標(biāo)準(zhǔn)將比較塊提取成在測(cè)量區(qū)域FOV中均勻分布；第二標(biāo)準(zhǔn)使用分?jǐn)?shù)；以及第三標(biāo)準(zhǔn)考慮特征塊的尺寸。此外，可考慮組合這些標(biāo)準(zhǔn)，或者可根據(jù)優(yōu)先級(jí)順序考慮上述標(biāo)準(zhǔn)。在示例性實(shí)施例中，為了提取比較塊，可順序考慮特征塊是否位于測(cè)量區(qū)域FOV 的角部區(qū)域、分?jǐn)?shù)和特征塊的尺寸，從而可選擇和提取出特征塊。變形度可表示為與比較塊對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI和測(cè)量數(shù)據(jù)PI之間的變換關(guān)系，變換關(guān)系可包括基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI和測(cè)量數(shù)據(jù)PI之間的量化變換公式。與和理論基準(zhǔn)信息對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI相比，因板的翹曲、扭曲而導(dǎo)致測(cè)量數(shù)據(jù)PI 失真。變換公式與將基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI和測(cè)量數(shù)據(jù)PI相互變換的公式對(duì)應(yīng)，以便表達(dá)變形的程度、即變形度?？衫梦恢米兓?、斜度變化、尺寸變化和轉(zhuǎn)換程度中的至少一者來(lái)確定量化變換公式，其中，所述位置變化、斜度變化、尺寸變化和轉(zhuǎn)換程度是通過(guò)將與比較塊對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI和測(cè)量數(shù)據(jù)PI相互比較而獲得的。例如，可通過(guò)使用方程式1來(lái)獲取轉(zhuǎn)換公式。方程式1PCADf (tm) = Preal在方程式1中，Pcad是CAD信息或gerber信息中的目標(biāo)的坐標(biāo)，即在基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI中的坐標(biāo)，f(tm)與用作變換矩陣或轉(zhuǎn)換矩陣的變換公式對(duì)應(yīng)，PMal是由照相機(jī)獲取的測(cè)量數(shù)據(jù)PI中的目標(biāo)的坐標(biāo)。當(dāng)找到基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI中的理論坐標(biāo)Pcad和測(cè)量數(shù)據(jù)PI中的實(shí)際坐標(biāo)PMal時(shí)，可得到變換矩陣。例如，變換矩陣可包括根據(jù)仿射變換或透視變換的坐標(biāo)變換矩陣，其中，點(diǎn)對(duì)點(diǎn)的關(guān)系表示為η維空間的一階形式。為了限定坐標(biāo)變換矩陣，可適當(dāng)?shù)亟⒈容^塊的數(shù)量，例如在仿射變換的情況下為3個(gè)或3個(gè)以上，在透視變換的情況下為4個(gè)或4個(gè)以上。然后，在步驟S160中，補(bǔ)償變形度，以便在目標(biāo)測(cè)量區(qū)域中設(shè)定檢查區(qū)域。由于變形度表示與基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI相比在測(cè)量數(shù)據(jù)PI中產(chǎn)生的變形的程度，因此，通過(guò)補(bǔ)償變形度，在檢查區(qū)域中的形狀可與板的實(shí)際形狀更相似?？梢詾闇y(cè)量區(qū)域FOV的整個(gè)區(qū)域設(shè)定檢查區(qū)域，也可僅為測(cè)量區(qū)域FOV的預(yù)定區(qū)域設(shè)定檢查區(qū)域。在補(bǔ)償變形度以便在測(cè)量數(shù)據(jù)PI中設(shè)定檢查區(qū)域之后，可正確地檢查檢查區(qū)域中的部件是好還是壞。在檢查時(shí)，可使用先前在獲取測(cè)量區(qū)域FOV的測(cè)量數(shù)據(jù)PI的步驟 (步驟S130)中獲取的測(cè)量數(shù)據(jù)ΡΙ。此后，可選擇性地檢驗(yàn)設(shè)定的檢查區(qū)域是否有效。可將未用作比較塊的特征塊或合并塊用于進(jìn)行檢驗(yàn)。根據(jù)上述說(shuō)明，由塊單元建立特征塊，以便包含設(shè)定在板上的測(cè)量區(qū)域FOV中的預(yù)定形狀，通過(guò)合并特征塊中的重疊的特征塊來(lái)建立合并塊，由此，通過(guò)比較基準(zhǔn)數(shù)據(jù)RI 和測(cè)量數(shù)據(jù)PI來(lái)獲取變形度并且補(bǔ)償變形度。因此，可更正確地設(shè)定檢查區(qū)域。此外，將重疊的特征塊合并以消除相似形狀之間錯(cuò)誤辨識(shí)的可能性。因此，可更有效地選擇特征對(duì)象。此外，可基于如上所述設(shè)定的測(cè)量區(qū)域FOV來(lái)進(jìn)行檢查部件等工作，從而更正確地判斷板的好壞。如上所述，板檢查設(shè)備包括多個(gè)工作架，并且各個(gè)工作架獨(dú)立地進(jìn)行板檢查，從而大幅縮短檢查板所需的時(shí)間。此外，用于移動(dòng)包括投射部的光學(xué)組件的光學(xué)組件移動(dòng)部布置在光學(xué)組件的上方，并且用于接收從投射部產(chǎn)生的柵格圖案光的圖像捕獲部布置在投射部的側(cè)部，以確保因安裝工作架而變小的空間。顯然，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，可以在不脫離本發(fā)明精神或范圍的情況下對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種修改和變型。因此，本發(fā)明涵蓋落入由所附權(quán)利要求書(shū)及其等同內(nèi)容限定的范圍內(nèi)的本發(fā)明的修改和變型。
權(quán)利要求
1.一種檢查方法，包括 在板上設(shè)定測(cè)量區(qū)域；獲取所述測(cè)量區(qū)域的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和測(cè)量數(shù)據(jù)；通過(guò)塊單元建立多個(gè)特征塊以便包含所述測(cè)量區(qū)域中的預(yù)定形狀；通過(guò)合并所述特征塊中的重疊的特征塊來(lái)建立合并塊；通過(guò)將與除所述合并塊以外的所述特征塊和/或所述合并塊對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行比較來(lái)獲得變形度；以及補(bǔ)償所述變形度，以便在目標(biāo)測(cè)量區(qū)域中設(shè)定檢查區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查方法，其中，在所述測(cè)量區(qū)域中的所述預(yù)定形狀包括彎曲圖案和孔圖案中的至少一者。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查方法，其中，所述通過(guò)塊單元建立多個(gè)特征塊以便包含所述測(cè)量區(qū)域中的預(yù)定形狀的步驟包括找到與所述預(yù)定形狀對(duì)應(yīng)的彎曲電路圖案的角部的位置；以及建立所述彎曲電路圖案的角部的邊緣區(qū)，并且建立由所述建立的邊緣區(qū)限定的特征塊。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的檢查方法，其中，所述通過(guò)合并所述特征塊中的重疊的特征塊來(lái)建立合并塊的步驟包括合并所述重疊的特征塊的邊緣區(qū)；以及通過(guò)提取所述合并后的邊緣區(qū)的最小四邊形來(lái)建立合并塊。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查方法，其中，所述通過(guò)將與除所述合并塊以外的特征塊和/或所述合并塊對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行比較來(lái)獲得變形度的步驟包括從除所述合并塊以外的特征塊和/或所述合并塊中提取比較塊；以及通過(guò)將與所述提取的比較塊對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和測(cè)量數(shù)據(jù)相互比較來(lái)獲得變形度。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢查方法，其中，所述提取的比較塊為多個(gè)，并且這些比較塊被提取成在所述測(cè)量區(qū)域中均勻分布。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢查方法，其中， 所述提取的比較塊為多個(gè)，并且在除所述合并塊以外的特征塊和/或所述合并塊中，所述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和所述測(cè)量數(shù)據(jù)之間的形狀差異越小，則賦予所述特征塊或所述合并塊的分?jǐn)?shù)越大；以及基于所述分?jǐn)?shù)提取所述比較塊。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢查方法，其中，所述獲取的變形度作為與所述比較塊對(duì)應(yīng)的所述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和所述測(cè)量數(shù)據(jù)之間的量化變換公式，并且通過(guò)利用位置變化、斜度變化、尺寸變化和轉(zhuǎn)換程度中的至少一者來(lái)確定所述量化變換公式，所述位置變化、斜度變化、尺寸變化和轉(zhuǎn)換程度是通過(guò)將與所述比較塊對(duì)應(yīng)的所述基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和所述測(cè)量數(shù)據(jù)相互比較而獲得的。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢查方法，其中，如果所述合并的特征塊的數(shù)量大于或等于預(yù)定的基準(zhǔn)數(shù)，則在提取比較塊時(shí)排除通過(guò)合并特征塊而獲得的合并塊。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢查方法，其中，每個(gè)所述特征塊的所述預(yù)定形狀具有二維標(biāo)識(shí)符，從而消除了因周圍形狀而導(dǎo)致錯(cuò)誤辨識(shí)的可能性。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)一種檢查方法。為了檢查板，首先在板上設(shè)定測(cè)量區(qū)域，并且獲取測(cè)量區(qū)域的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和測(cè)量數(shù)據(jù)。然后，通過(guò)塊單元建立多個(gè)特征塊，以便包含測(cè)量區(qū)域中的預(yù)定形狀；通過(guò)合并特征塊中的重疊的特征塊來(lái)建立合并塊。此后，通過(guò)將與除合并塊以外的特征塊和/或合并塊對(duì)應(yīng)的基準(zhǔn)數(shù)據(jù)和測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行比較來(lái)獲得變形度；以及補(bǔ)償變形度，以便在目標(biāo)測(cè)量區(qū)域中設(shè)定檢查區(qū)域。因此，可正確地設(shè)定補(bǔ)償了變形的檢查區(qū)域。
文檔編號(hào)G01B11/25GK102564345SQ201110376349
公開(kāi)日2012年7月11日 申請(qǐng)日期2011年11月21日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月20日
發(fā)明者黃鳳夏 申請(qǐng)人:株式會(huì)社高永科技