專(zhuān)利名稱(chēng)：Gis設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉 及一種電力設(shè)備內(nèi)部缺陷檢測(cè)方法，尤其涉及一種GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法。
背景技術(shù)：
氣體絕緣組合電器(GIS)是電力系統(tǒng)中的重要設(shè)備，隨著電網(wǎng)電壓等級(jí)和容量的不斷提高，GIS設(shè)備故障率也隨之增加。GIS設(shè)備是全封閉組合結(jié)構(gòu)設(shè)備，一旦發(fā)生故障，維修時(shí)間較長(zhǎng)，造成的影響和損失就很大。因此，GIS設(shè)備的穩(wěn)定、可靠運(yùn)行對(duì)電力系統(tǒng)的安全、穩(wěn)定具有非常重要的意義。GIS設(shè)備在制造、安裝、運(yùn)行過(guò)程中可能會(huì)出現(xiàn)部件松脫、脫落、遺漏、變形等缺陷， 但很難預(yù)測(cè)。GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷的先兆和主要表現(xiàn)形式往往是局部放電，同時(shí)局部放電是導(dǎo)致絕緣劣化的原因，它的持續(xù)發(fā)展將會(huì)導(dǎo)致事故的發(fā)生，給電網(wǎng)造成損失。目前，針對(duì)GIS設(shè)備的局部放電檢測(cè)主要分為電測(cè)法和非電測(cè)法，電測(cè)法主要包括脈沖電流法、外被電極法，非電測(cè)法主要包括超聲波檢測(cè)法、超高頻檢測(cè)法，這些局部放電的檢測(cè)方法均不能完全確定GIS設(shè)備內(nèi)部是否存在缺陷，也不能直觀、可視、智能地確定和識(shí)別出GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷的性質(zhì)和位置。

發(fā)明內(nèi)容
為了完全確定GIS設(shè)備內(nèi)部是否存在缺陷，同時(shí)直觀、可視、智能地確定和識(shí)別出 GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷的性質(zhì)和位置，本發(fā)明提出了一種GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法，包括如下步驟A.對(duì)GIS設(shè)備進(jìn)行局部放電源的檢測(cè)；B.對(duì)檢測(cè)到的局部放電源數(shù)據(jù)進(jìn)行圖譜特征提?。籆.利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)，對(duì)局部放電源區(qū)域進(jìn)行可視化成像并形成X射線透照?qǐng)D片；D.將利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片進(jìn)行特征提?。籈.將獲得的局部放電源數(shù)據(jù)的圖譜特征和利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的 X射線透照?qǐng)D片的特征分別與預(yù)設(shè)的圖譜特征和預(yù)設(shè)的X射線透照?qǐng)D片特征進(jìn)行相似度檢索；F.根據(jù)相似度檢索結(jié)果確定GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷的性質(zhì)和位置。其中，對(duì)GIS設(shè)備進(jìn)行局部放電源的檢測(cè)采用超聲波檢測(cè)法和超高頻檢測(cè)法。對(duì)檢測(cè)到的局部放電源數(shù)據(jù)進(jìn)行圖譜特征提取是指對(duì)檢測(cè)到的局部放電源數(shù)據(jù)進(jìn)行直方圖、時(shí)域自相關(guān)分析和能譜特征的提取。本發(fā)明中圖譜特征中的直方圖是檢測(cè)到的局部放電源數(shù)據(jù)中放電量Q隨相位θ分布的直方圖。時(shí)域自相關(guān)分析采用如下公式
ρχ(τ)=Γ x(t)x(t-z)dt,9 τ)為時(shí)域自相關(guān)分析，τ為時(shí)差，x(t)為局部放電源數(shù)
} -CO據(jù)中放電量Q隨時(shí)間t的信號(hào)序列。能譜表達(dá)式為▼>) = 00 Ρχ{τΥιωτ τ，其中，Wx(co)
為能譜，Ρχ(τ)為時(shí)域自相關(guān)分析，ω是角頻率，τ為時(shí)差。利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)，對(duì)局部放電源區(qū)域進(jìn)行可視化成像并形成X射線透照?qǐng)D片的具體步驟為Cl.在GIS設(shè)備局部放電源位置的一側(cè)緊貼設(shè)備外側(cè)放置平板探測(cè)器，另一側(cè)在四角架上放置高頻X射線機(jī)，將高頻X射線機(jī)的X射線發(fā)射窗口中心對(duì)準(zhǔn)GIS設(shè)備局部放電源位置，保持平板探測(cè)器中心、高頻X射線機(jī)的X射線發(fā)射窗口中心和GIS設(shè)備局部放電源位置在一條直線上；C2.將高頻X射線機(jī)通過(guò)電纜與高頻X射線機(jī)控制箱相連；C3.將平板探測(cè)器通過(guò)X射線數(shù)字檢測(cè)數(shù)據(jù)線與X射線數(shù)字檢測(cè)筆記本電腦工作站相連；C4.根據(jù)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)高頻X射線機(jī)、GIS設(shè)備局部放電源位置等條件，設(shè)定電壓80 300kV、電流0. 8 3mA、透照時(shí)間60 180s ；C5.設(shè)定X射線數(shù)字成像系統(tǒng)參數(shù)后，啟動(dòng)高頻X射線機(jī)控制箱的射線發(fā)射按鈕， 對(duì)GIS設(shè)備內(nèi)部局部放電源位置區(qū)域進(jìn)行透照并獲得數(shù)字圖片；C6.將數(shù)字圖片在X射線數(shù)字檢測(cè)筆記本電腦工作站進(jìn)行濾波去噪處理；C7.重復(fù)步驟C1、C4、C5和C6，透照不同部位。將利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片進(jìn)行特征提取的具體方法是對(duì)獲得的X射線透照?qǐng)D片進(jìn)行直方圖特征提取。將獲得的局部放電源數(shù)據(jù)的圖譜特征和利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片的特征分別與預(yù)設(shè)的圖譜特征和預(yù)設(shè)的X射線透照?qǐng)D片特征進(jìn)行相似度檢索的具體方法是將獲得的局部放電源數(shù)據(jù)的圖譜特征和利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片的特征分別與預(yù)設(shè)的圖譜特征和預(yù)設(shè)的X射線透照?qǐng)D片特征利用歐式距離進(jìn)行相似度度量，分別得到獲得的局部放電源數(shù)據(jù)的圖譜特征與預(yù)設(shè)圖譜特征的歐式距離和利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片的特征與預(yù)設(shè)的X射線透照?qǐng)D片
特征的歐式距離，歐式距離相似度計(jì)算公式為= 比-只阼，其中，D(x, Y)代表
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歐式距離，X、y是兩幅圖像對(duì)應(yīng)的特征矢量，Xi、表特征分量，在本發(fā)明中，X代表圖譜特征矢量或X射線透照?qǐng)D片特征矢量，y代表預(yù)設(shè)圖譜特征矢量或預(yù)設(shè)X射線透照?qǐng)D片特征矢量；Xi代表圖譜特征中的直方圖、時(shí)域自相關(guān)分析、能譜特征分量或X射線透照?qǐng)D片中的直方圖特征分量，Ii代表預(yù)設(shè)圖譜特征中的直方圖、時(shí)域自相關(guān)分析、能譜特征分量或預(yù)設(shè)X射線透照?qǐng)D片中的直方圖特征分量。根據(jù)相似度檢索結(jié)果確定GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷的性質(zhì)和位置的具體方法是根據(jù)與預(yù)設(shè)圖譜特征庫(kù)和預(yù)設(shè)X射線透照?qǐng)D片特征庫(kù)內(nèi)所有特征進(jìn)行相似度度量，擁有與預(yù)設(shè)圖譜特征和預(yù)設(shè)X射線透照?qǐng)D片特征的最大相似度即為GIS設(shè)備圖譜特征和X射線透照?qǐng)D片特征，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)GIS設(shè)備局部放電源的可視化識(shí)別，并智能確定出GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷的性質(zhì)和位置。本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷性質(zhì)和位置的可視化智能識(shí)別，提高GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷檢測(cè)和診斷的科學(xué)性、高效性和準(zhǔn)確性。


圖1是本發(fā)明的GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法流程圖；圖2是本發(fā)明GIS設(shè)備超聲波局部放電源檢測(cè)示意圖；圖3是本發(fā)明GIS設(shè)備超高頻局部放電源檢測(cè)示意圖；圖4是本發(fā)明GIS設(shè)備X射線數(shù)字成像局部放電源檢測(cè)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法。GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法流程如圖1所示。該方法包括如下步驟A.對(duì)GIS設(shè)備進(jìn)行局部放電源的檢測(cè)；B.對(duì)檢測(cè)到的局部放電源數(shù)據(jù)進(jìn)行圖譜特征提??；C.利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)，對(duì)局部放電源區(qū)域進(jìn)行可視化成像并形成X射線透照?qǐng)D片；D.將利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片進(jìn)行特征提?。籈.將獲得的局部放電源數(shù)據(jù)的圖譜特征和利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的 X射線透照?qǐng)D片的特征分別與預(yù)設(shè)的圖譜特征和預(yù)設(shè)的X射線透照?qǐng)D片特征進(jìn)行相似度檢索；F.根據(jù)相似度檢索結(jié)果確定GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷的性質(zhì)和位置。其中，對(duì)GIS設(shè)備進(jìn)行局部放電源的檢測(cè)采用超聲波檢測(cè)法和超高頻檢測(cè)法。對(duì)檢測(cè)到的局部放電源數(shù)據(jù)進(jìn)行圖譜特征提取是指對(duì)檢測(cè)到的局部放電源數(shù)據(jù)進(jìn)行直方圖、時(shí)域自相關(guān)分析和能譜特征的提取。本發(fā)明中圖譜特征中的直方圖是檢測(cè)到的局部放電源數(shù)據(jù)中放電量Q隨相位θ分布的直方圖。時(shí)域自相關(guān)分析采用如下公式 ρχ(τ)=Γ x(t)x(t-z)dt,9 τ)為時(shí)域自相關(guān)分析，τ為時(shí)差，x(t)為局部放電源數(shù)
/-CO
據(jù)中放電量Q隨時(shí)間t的信號(hào)序列。能譜表達(dá)式為-.Wx(CD) = f00 ρχ{τγιωτ τ，其中，Wx(co)
/-co為能譜，Ρχ(τ)為時(shí)域自相關(guān)分析，ω是角頻率，τ為時(shí)差。利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)，對(duì)局部放電源區(qū)域進(jìn)行可視化成像并形成X射線透照?qǐng)D片的具體步驟為Cl.在GIS設(shè)備局部放電源位置的一側(cè)緊貼設(shè)備外側(cè)放置平板探測(cè)器，另一側(cè)在四角架上放置高頻X射線機(jī)，將高頻X射線機(jī)的X射線發(fā)射窗口中心對(duì)準(zhǔn)GIS設(shè)備局部放電源位置，保持平板探測(cè)器中心、高頻X射線機(jī)的X射線發(fā)射窗口中心和GIS設(shè)備局部放電源位置在一條直線上；C2.將高頻X射線機(jī)通過(guò)電纜與高頻X射線機(jī)控制箱相連；C3.將平板探測(cè)器通過(guò)X射線數(shù)字檢測(cè)數(shù)據(jù)線與X射線數(shù)字檢測(cè)筆記本電腦工作站相連；C4.根據(jù)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)高頻X射線機(jī)、GIS設(shè)備局部放電源位置等條件，設(shè)定電壓80 300kV、電流0. 8 3mA、透照時(shí)間60 180s ；C5.設(shè)定X射線數(shù)字成像系統(tǒng)參數(shù)后，啟動(dòng)高頻X射線機(jī)控制箱的射線發(fā)射按鈕，對(duì)GIS設(shè)備內(nèi)部局部放電源位置區(qū)域進(jìn)行透照并獲得數(shù)字圖片；C6.將數(shù)字圖片在X射線數(shù)字檢測(cè)筆記本電腦工作站進(jìn)行濾波去噪處理；C7.重復(fù)步驟C1、C4、C5和C6，透照不同部位。將利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片進(jìn)行特征提取的具體方法是對(duì)獲得的X射線透照?qǐng)D片進(jìn)行直方圖特征提取。將獲得的局部放電源數(shù)據(jù)的圖譜特征和利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片的特征分別與預(yù)設(shè)的圖譜特征和預(yù)設(shè)的X射線透照?qǐng)D片特征進(jìn)行相似度檢索的具體方法是將獲得的局部放電源數(shù)據(jù)的圖譜特征和利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片的特征分別與預(yù)設(shè)的圖譜特征和預(yù)設(shè)的X射線透照?qǐng)D片特征利用歐式距離進(jìn)行相似度度量，分別得到獲得的局部放電源數(shù)據(jù)的圖譜特征與預(yù)設(shè)圖譜特征的歐式距離和利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片的特征與預(yù)設(shè)的X射線透照?qǐng)D片
特征的歐式距離，歐式距離相似度計(jì)算公式為= 比-只I2]、其中，D(X，Y)代表
i=l
歐式距離，X、y是兩幅圖像對(duì)應(yīng)的特征矢量，Xi、表特征分量，在本發(fā)明中，X代表圖譜特征矢量或X射線透照?qǐng)D片特征矢量，y代表預(yù)設(shè)圖譜特征矢量或預(yù)設(shè)X射線透照?qǐng)D片特征矢量；Xi代表圖譜特征中的直方圖、時(shí)域自相關(guān)分析、能譜特征分量或X射線透照?qǐng)D片中的直方圖特征分量，Ii代表預(yù)設(shè)圖譜特征中的直方圖、時(shí)域自相關(guān)分析、能譜特征分量或預(yù)設(shè)X射線透照?qǐng)D片中的直方圖特征分量。根據(jù)相似度檢索結(jié)果確定GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷的性質(zhì)和位置的具體方法是根據(jù)與預(yù)設(shè)圖譜特征庫(kù)和預(yù)設(shè)X射線透照?qǐng)D片特征庫(kù)內(nèi)所有特征進(jìn)行相似度度量，擁有與預(yù)設(shè)圖譜特征和預(yù)設(shè)X射線透照?qǐng)D片特征的最大相似度即為GIS設(shè)備圖譜特征和X射線透照?qǐng)D片特征，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)GIS設(shè)備局部放電源的可視化識(shí)別，并智能確定出GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷的性質(zhì)和位置。 GIS設(shè)備超聲波局部放電源檢測(cè)如圖2所示，超聲波傳感器1通過(guò)超聲波檢測(cè)電源及信號(hào)控制線5與超聲波檢測(cè)前端模塊3連接，超聲波檢測(cè)前端模塊3通過(guò)超聲波檢測(cè)數(shù)據(jù)線6與便攜超聲波工業(yè)電腦4連接。利用超聲波傳感器1在GIS腔體2上移動(dòng)，當(dāng)GIS設(shè)備內(nèi)部由于其內(nèi)部缺陷產(chǎn)生局部放電情況時(shí)，超聲波傳感器就有可能接收到異常信號(hào)；反過(guò)來(lái)，當(dāng)便攜超聲波工業(yè)電腦4上顯示出異常信號(hào)時(shí)，則也可認(rèn)為GIS設(shè)備內(nèi)部很可能存在缺陷產(chǎn)生局部放電情況。GIS設(shè)備超高頻局部放電源檢測(cè)如圖3所示，超高頻傳感器7通過(guò)超高頻檢測(cè)電源及信號(hào)控制線11與超高頻檢測(cè)前端模塊9連接，超高頻檢測(cè)前端模塊9通過(guò)超高頻檢測(cè)數(shù)據(jù)線12與便攜超高頻工業(yè)電腦10連接，超高頻傳感器7安裝在盆式絕緣子8上。當(dāng)GIS設(shè)備內(nèi)部由于其內(nèi)部缺陷產(chǎn)生局部放電情況時(shí)，超高頻傳感器就有可能接收到異常信號(hào)；反過(guò)來(lái)，當(dāng)便攜超高頻工業(yè)電腦10上顯示出異常信號(hào)時(shí)，則也可認(rèn)為GIS設(shè)備內(nèi)部很可能存在缺陷產(chǎn)生局部放電情況。GIS設(shè)備X射線數(shù)字成像局部放電源檢測(cè)如圖4所示，利用GIS設(shè)備超聲波局部放電源檢測(cè)和GIS設(shè)備超高頻局部放電源檢測(cè)發(fā)現(xiàn)GIS設(shè)備內(nèi)部可能存在局部放電源，在局部放電源位置20的GIS設(shè)備一側(cè)，緊貼GIS腔體2放置平板探測(cè)器16，平板探測(cè)器16通過(guò) X射線數(shù)字檢測(cè)數(shù)據(jù)線18與X射線數(shù)字檢測(cè)筆記本電腦工作站17連接，在GIS設(shè)備另一側(cè)，將高頻X射線機(jī)13的X射線發(fā)射窗19正對(duì)著局部放電源位置20，高頻X射線機(jī)13安裝在四角架15上，高頻X射線機(jī)13與高頻X射線機(jī)控制箱14連接。利用高頻X射線機(jī)控制箱14控制高頻X射線機(jī)13 通過(guò)X射線發(fā)生窗19和平板探測(cè)器16對(duì)GIS設(shè)備內(nèi)部局部放電源位置進(jìn)行透照，通過(guò)X射線數(shù)字檢測(cè)筆記本電腦工作站17上顯示的數(shù)字圖像21可以清晰地看出被X光照射的GIS局部放電源位置20的內(nèi)部缺陷22的情況。
權(quán)利要求
1.GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法，其特征在于，包括如下步驟A.對(duì)GIS設(shè)備進(jìn)行局部放電源的檢測(cè)；B.對(duì)檢測(cè)到的局部放電源數(shù)據(jù)進(jìn)行圖譜特征提?。籆.利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)，對(duì)局部放電源區(qū)域進(jìn)行可視化成像并形成X射線透照?qǐng)D片；D.將利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片進(jìn)行特征提??；E.將獲得的局部放電源數(shù)據(jù)的圖譜特征和利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片的特征分別與預(yù)設(shè)的圖譜特征和預(yù)設(shè)的X射線透照?qǐng)D片特征進(jìn)行相似度檢索；F.根據(jù)相似度檢索結(jié)果確定GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷的性質(zhì)和位置。
2.如權(quán)利要求1所述的GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法，其特征在于，所述步驟 A采用超聲波檢測(cè)法和超高頻檢測(cè)法。
3.如權(quán)利要求1所述的GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法，其特征在于，所述步驟 B是指對(duì)檢測(cè)到的局部放電源數(shù)據(jù)進(jìn)行直方圖、時(shí)域自相關(guān)分析和能譜特征的提取。
4.如權(quán)利要求3所述的GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法，其特征在于，所述的直方圖是檢測(cè)到的局部放電源數(shù)據(jù)中放電量Q隨相位θ分布的直方圖；時(shí)域自相關(guān)分析采用如下公式A⑴=f°助雄-0法，其中，Ρχ(τ)為時(shí)域自相關(guān)分析，τ為時(shí)差，x(t)為局} -co部放電源數(shù)據(jù)中放電量Q隨時(shí)間t的信號(hào)序列；能譜表達(dá)式為界>)=f° Ρχ{τΥιωτ τ；-co中，Wx(Co)為能譜，ρχ(τ)為時(shí)域自相關(guān)分析，ω是角頻率，τ為時(shí)差。
5.如權(quán)利要求1所述的GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法，其特征在于，所述步驟 C的具體步驟為Cl.在GIS設(shè)備局部放電源位置的一側(cè)緊貼設(shè)備外側(cè)放置平板探測(cè)器，另一側(cè)在四角架上放置高頻X射線機(jī)，將高頻X射線機(jī)的X射線發(fā)射窗口中心對(duì)準(zhǔn)GIS設(shè)備局部放電源位置，保持平板探測(cè)器中心、高頻X射線機(jī)的X射線發(fā)射窗口中心和GIS設(shè)備局部放電源位置在一條直線上；C2.將高頻X射線機(jī)通過(guò)電纜與高頻X射線機(jī)控制箱相連；C3.將平板探測(cè)器通過(guò)X射線數(shù)字檢測(cè)數(shù)據(jù)線與X射線數(shù)字檢測(cè)筆記本電腦工作站相連；C4.根據(jù)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)高頻X射線機(jī)、GIS設(shè)備局部放電源位置等條件，設(shè)定電壓80 300kV、電流0. 8 3mA、透照時(shí)間60 180s ；C5.設(shè)定X射線數(shù)字成像系統(tǒng)參數(shù)后，啟動(dòng)高頻X射線機(jī)控制箱的射線發(fā)射按鈕，對(duì) GIS設(shè)備內(nèi)部局部放電源位置區(qū)域進(jìn)行透照并獲得數(shù)字圖片；C6.將數(shù)字圖片在X射線數(shù)字檢測(cè)筆記本電腦工作站進(jìn)行濾波去噪處理； C7.重復(fù)步驟C1、C4、C5和C6，透照不同部位。
6.如權(quán)利要求1所述的GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法，其特征在于，所述步驟 D的具體方法是對(duì)獲得的X射線透照?qǐng)D片進(jìn)行直方圖特征提取。
7.如權(quán)利要求1所述的GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法，其特征在于，所述步驟 E的具體方法是將獲得的局部放電源數(shù)據(jù)的圖譜特征和利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片的特征分別與預(yù)設(shè)的圖譜特征和預(yù)設(shè)的X射線透照?qǐng)D片特征利用歐式距離進(jìn)行相似度度量，分別得到獲得的局部放電源數(shù)據(jù)的圖譜特征與預(yù)設(shè)圖譜特征的歐式距離和利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片的特征與預(yù)設(shè)的X射線透照?qǐng)D片特征的歐式距離，歐式距離相似度計(jì)算公式為=只|2f，其中，D(X，Y)代表i=l歐式距離，x、y是兩幅圖像對(duì)應(yīng)的特征矢量，Xi、表特征分量，在本發(fā)明中，χ代表圖譜特征矢量或X射線透照?qǐng)D片特征矢量，y代表預(yù)設(shè)圖譜特征矢量或預(yù)設(shè)X射線透照?qǐng)D片特征矢量；Xi代表圖譜特征中的直方圖、時(shí)域自相關(guān)分析、能譜特征分量或X射線透照?qǐng)D片中的直方圖特征分量，Ii代表預(yù)設(shè)圖譜特征中的直方圖、時(shí)域自相關(guān)分析、能譜特征分量或預(yù)設(shè)X射線透照?qǐng)D片中的直方圖特征分量。
8.如權(quán)利要求1所述的GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法，其特征在于，所述步驟 F的具體方法是根據(jù)與預(yù)設(shè)圖譜特征庫(kù)和預(yù)設(shè)X射線透照?qǐng)D片特征庫(kù)內(nèi)所有特征進(jìn)行相似度度量，擁有與預(yù)設(shè)圖譜特征和預(yù)設(shè)X射線透照?qǐng)D片特征的最大相似度即為GIS設(shè)備圖譜特征和X射線透照?qǐng)D片特征，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)GIS設(shè)備局部放電源的可視化識(shí)別，并智能確定出 GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷的性質(zhì)和位置。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種電力設(shè)備內(nèi)部缺陷檢測(cè)方法，尤其涉及一種GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法。本發(fā)明的一種GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷可視化智能識(shí)別方法，該方法包括如下步驟A.對(duì)GIS設(shè)備進(jìn)行局部放電源的檢測(cè)；B.對(duì)檢測(cè)到的局部放電源數(shù)據(jù)進(jìn)行圖譜特征提??；C.對(duì)局部放電源區(qū)域進(jìn)行可視化成像并形成X射線透照?qǐng)D片；D.將利用X射線數(shù)字成像檢測(cè)系統(tǒng)獲得的X射線透照?qǐng)D片進(jìn)行特征提?。籈.進(jìn)行相似度檢索；F.根據(jù)相似度檢索結(jié)果確定GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷的性質(zhì)和位置。本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷性質(zhì)和位置的可視化智能識(shí)別，提高GIS設(shè)備內(nèi)部缺陷檢測(cè)和診斷的科學(xué)性、高效性和準(zhǔn)確性。
文檔編號(hào)G01N23/04GK102230902SQ20111019256
公開(kāi)日2011年11月2日 申請(qǐng)日期2011年7月11日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月11日
發(fā)明者于虹, 況華, 吳章勤, 張少泉, 王科, 王達(dá)達(dá), 蔡曉蘭, 薛飛, 趙現(xiàn)平, 魏杰 申請(qǐng)人:云南電力試驗(yàn)研究院(集團(tuán))有限公司