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一種帶槽密封圈架的制作方法

文檔序號:9183812閱讀:536來源:國知局
一種帶槽密封圈架的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及密封圈架技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種適用于進(jìn)水電磁閥的帶槽密封圈架。
【背景技術(shù)】
[0002]電磁閥在家電產(chǎn)品上有著廣泛的應(yīng)用,例如洗衣機(jī)、空調(diào)機(jī)、洗碗機(jī)、制冰機(jī)等。進(jìn)水電磁閥斷電時(shí),進(jìn)水室的水經(jīng)密封圈架上的邊孔流入背壓室,因水中含有少量的雜質(zhì),在電磁閥長時(shí)間未工作情況下,水中的雜質(zhì)會在密封圈架靠背壓室一面上堆積,從而堵塞邊孔,導(dǎo)致進(jìn)水電磁閥在開通狀態(tài)下不能有效關(guān)閉而失效。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的是針對現(xiàn)有電磁閥中的密封圈架容易堵塞的不足之處,提供一種防止邊孔堵塞的帶槽密封圈架。
[0004]本實(shí)用新型是通過如下方式完成的:一種帶槽密封圈架,該密封圈架包括基體、中心孔和邊孔,其中,基體包括固定在一起的部件一和部件二,部件一呈圓盤結(jié)構(gòu),部件一的中部設(shè)有中心孔,部件一的側(cè)面上設(shè)有軸向開設(shè)的邊孔,部件二用于密封圈的連接固定;部件一的側(cè)邊頂部設(shè)有槽,便于沉積的雜質(zhì)分散于槽內(nèi),而不堵塞邊孔。
[0005]在所述的一種帶槽密封圈架中,所述的槽沿圓周均勻分布。
[0006]在所述的一種帶槽密封圈架中,所述的槽有四個(gè),均勻分布在部件一的側(cè)面上。
[0007]本實(shí)用新型中設(shè)有槽,有效分散水中雜質(zhì)的沉積,防止雜質(zhì)堵塞邊孔而造成電磁閥斷電后無法有效關(guān)閉閥的情形。
[0008]本實(shí)用新型與現(xiàn)有密封圈架相比,具有防止邊孔堵塞、使用效果好的特點(diǎn)。
【附圖說明】
[0009]圖1為本實(shí)用新型一種帶槽密封圈架的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]在附圖1中,I表示基體;la表示部件一 ;lb表示部件二 ;2表示中心孔;3表示邊孔;4表示槽。
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面對照附圖,通過實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
[0012]參照附圖1,一種帶槽密封圈架,該密封圈架包括基體1、中心孔2和邊孔3,其中,基體I包括固定在一起的部件一 Ia和部件二 lb,部件一 Ia呈圓盤結(jié)構(gòu),部件一 Ia的中部設(shè)有中心孔2,部件一 Ia的側(cè)面上設(shè)有兩個(gè)軸向開設(shè)的邊孔3,部件二 Ib用于密封圈的連接固定;部件一 Ia的側(cè)邊頂部設(shè)有四個(gè)槽4,槽4沿圓周均勻分布,便于沉積的雜質(zhì)分散于槽4內(nèi),而不堵塞邊孔3。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種帶槽密封圈架,該密封圈架包括基體、中心孔和邊孔,其中,基體包括固定在一起的部件一和部件二,部件一呈圓盤結(jié)構(gòu),部件一的中部設(shè)有中心孔,部件一的側(cè)面上設(shè)有軸向開設(shè)的邊孔,部件二用于密封圈的連接固定;其特征在于部件一的側(cè)邊頂部設(shè)有槽。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶槽密封圈架,其特征在于所述的槽沿圓周均勻分布。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種帶槽密封圈架,其特征在于所述的槽有四個(gè),均勻分布在部件一的側(cè)面上。
【專利摘要】本實(shí)用新型是一種適用于進(jìn)水電磁閥的帶槽密封圈架。本實(shí)用新型的目的是針對現(xiàn)有電磁閥中的密封圈架容易堵塞的不足之處,提供一種防止邊孔堵塞的帶槽密封圈架。本實(shí)用新型包括基體、中心孔和邊孔,其中,基體包括固定在一起的部件一和部件二,部件一呈圓盤結(jié)構(gòu),部件一的中部設(shè)有中心孔,部件一的側(cè)面上設(shè)有軸向開設(shè)的邊孔,部件二用于密封圈的連接固定;部件一的側(cè)邊頂部設(shè)有槽,便于沉積的雜質(zhì)分散于槽內(nèi),而不堵塞邊孔。本實(shí)用新型與現(xiàn)有密封圈架相比,具有防止邊孔堵塞、使用效果好的特點(diǎn)。
【IPC分類】F16K51/00, F16J15/00
【公開號】CN204852596
【申請?zhí)枴緾N201520463247
【發(fā)明人】陸寶宏, 高友斌
【申請人】金華市宏昌電器有限公司
【公開日】2015年12月9日
【申請日】2015年6月29日
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