本發(fā)明涉及一種支撐裝置，且特別涉及一種光刻機的輔助支撐裝置，一種輔助支撐方法也一并提出。

背景技術：
在光刻機中，工件臺和掩模臺的微動臺采用低剛性的重力補償器來支撐，可以避免采用電機支撐造成的劇烈發(fā)熱。目前的技術中，有以下兩種方式：一種是采用鋼彈簧支撐微動臺。然而，這種方式存在以下缺點：微動臺的質量變化會造成鋼彈簧產生靜態(tài)位置偏移；為維持微動臺的位置穩(wěn)定性，鋼彈簧的剛度較大，則基座的振動很容易傳到微動臺；鋼彈簧無阻尼，容易激發(fā)共振。另一種是采用氣浮結構來支撐微動臺。這種的方式的缺點為：氣浮結構設計非常復雜；氣浮結構會向環(huán)境排放氣體，不能應用于真空環(huán)境；氣浮結構對氣體的顆粒污染非常敏感，需要采用顆粒過濾裝置消除顆粒污染，提高了使用成本；氣浮結構的內部管道和小孔的加工復雜，成本較高。

技術實現(xiàn)要素：
本發(fā)明提出一種用于輔助支撐裝置，成本較低、結構簡單、能夠有效補償負載的質量變化，減輕電機的發(fā)熱。為了達到上述目的，本發(fā)明提出一種輔助支撐裝置，應用于光刻機的支撐裝置，支撐裝置包括支撐板、基座和洛倫茲電機，洛倫茲電機固定于基座并支撐支撐板，其特征是，輔助支撐裝置包括：膜，連接于基座，與基座形成氣室，用以承載支撐板；氣源，用以提供氣體給氣室；以及控制閥，設置于氣室的通氣孔及氣源之間，用以調節(jié)氣室的氣壓。進一步說，支撐裝置用于支撐光刻機的微動臺，支撐板固定連接于微動臺。進一步說，輔助支撐裝置還包括：測量系統(tǒng)，連接于控制閥，用于測量支撐板的位移，以計算產生偏驅動力控制控制閥來調節(jié)氣室的氣壓。進一步說，支撐板包括活塞，活塞適于放置在膜上。進一步說，輔助支撐裝置還包括管道，連接于氣室的通氣孔和控制閥之間。進一步說，洛倫茲電機的定子固定于基座，洛倫茲電機的動子固定于支撐板。本發(fā)明還提供一種支撐裝置，其特征是，包括：支撐板；基座；洛倫茲電機，洛倫茲電機固定于基座并支撐支撐板；以及輔助支撐裝置，包括：膜，連接于基座，，與基座形成氣室，用以承載支撐板；氣源，用以提供氣體給氣室；以及控制閥，設置于氣室的通氣孔及氣源之間，用以調節(jié)氣室的氣壓。進一步說，支撐裝置用于支撐光刻機的微動臺，支撐板固定連接于微動臺。進一步說，支撐裝置還包括：測量系統(tǒng)，連接于控制閥，用于測量支撐板的位移，以計算產生偏驅動力控制控制閥來調節(jié)氣室的氣壓。進一步說，支撐板包括活塞，活塞放置在膜上。進一步說，支撐裝置還包括管道，連接于氣室的通氣孔和控制閥之間。進一步說，洛倫茲電機的定子固定于基座，洛倫茲電機的動子固定于支撐板。本發(fā)明還提供一種輔助支撐方法，利用輔助支撐裝置來輔助一個支撐裝置，支撐裝置包括基座、洛倫茲電機和支撐板，洛倫茲電機固定于基座并支撐支撐板，輔助支撐裝置包括膜，連接于基座，并與基座形成氣室，支撐支撐板，其特征是，輔助支撐方法包括以下步驟：測量支撐板相對于基座的位移；計算產生偏驅動力；以及根據偏驅動力調節(jié)氣室的氣壓。進一步說，輔助支撐裝置包括控制閥，連接于氣室，偏驅動力控制控制閥調節(jié)氣室的氣壓。本發(fā)明提出的輔助支撐裝置及其輔助支撐方法，洛侖茲電機響應速度快，發(fā)熱大，用于高頻驅動支撐板。同時利用可移動的膜承載支撐板，通過氣動控制氣室的壓力，以較低頻率驅動支撐板，同時發(fā)熱極小。由于采用氣動驅動支撐板，降低洛侖茲電機的出力，從而洛侖茲電機的發(fā)熱也會大大減少。本發(fā)明結構簡單，易于控制。附圖說明圖1所示為本發(fā)明較佳實施例支撐裝置的結構剖面示意圖。圖2所示為本發(fā)明較佳實施例輔助支撐方法的步驟流程圖。圖3所示為負載改變后支撐裝置的位置誤差效果。圖4所示為負載改變后支撐裝置中洛倫茲電機的輸出力效果。具體實施方式為了更了解本發(fā)明的技術內容，特舉具體實施例并配合所附圖式說明如下。請參看圖1，圖1所示為本發(fā)明較佳實施例支撐裝置的結構剖面示意圖。輔助支撐裝置應用于支撐裝置1，用以輔助支撐光刻機的微動臺(圖未示)。支撐裝置1包括支撐板101、基座107和洛倫茲電機10。支撐板101固定連接于微動臺。洛倫茲電機10固定于基座107并支撐支撐板101。洛倫茲電機10固定于動子104和定子103。在一實施例中，動子104固定在基座107上，定子103固定在支撐板101上。在其他實施例中，定子103和動子104的位置也可以交換設置。輔助支撐裝置至少包括膜115、氣源113和控制閥112。膜115連接于基座207，并與基座207形成氣室114，支撐支撐板101。氣源113用以提供氣體給氣室114?？刂崎y112設置于氣室114的通氣孔108及氣源113之間，用以調節(jié)所述氣室114的氣壓。輔助支撐裝置還包括管道109，連接于氣室114的通氣孔108和控制閥112之間。支撐板101還可以包括活塞116，放置在膜115上。在氣室114內充滿高壓氣體，從而將活塞116支撐起來?；钊?16和膜115及氣室114形成空氣彈簧。如果活塞116的有效支撐面積是A，第一氣室114的氣壓為P，則有效支撐力為G，G＝PA。通過控制連接于高壓氣源113和管道109的控制閥112，實現(xiàn)第一氣室的壓力P的動態(tài)變化。當支撐板101的負載質量變化時，調節(jié)控制閥112來調節(jié)氣室114的氣壓P以維持支撐板101在空氣彈簧的平衡位置。支撐裝置1還可以包括測量系統(tǒng)，連接于控制閥112，用于測量支撐板101的位移，以計算產生偏驅動力控制控制閥112來調節(jié)氣室114的氣壓。圖2所示為本發(fā)明較佳實施例輔助支撐方法的步驟流程圖。輔助支撐方法包括以下步驟：步驟S201：測量支撐板101相對于基座107的位移。本步驟中，可以利用測量系統(tǒng)進行測量。計算產生偏驅動力，測量裝置根據以下公式計算產生偏驅動力：G(s)=K2πfs+1,]]>其中G為偏驅動力，K為補償增益，f為氣動環(huán)路的頻率，s為時間因子。根據偏驅動力調節(jié)氣室的氣壓。根據偏驅動力調節(jié)控制閥112的啟閉或開啟幅度。圖3所示為負載改變后支撐裝置的位置誤差效果。圖4所示為負載改變后支撐裝置中洛倫茲電機的輸出力效果。請結合參考圖3-4。在本實施例中在穩(wěn)定的微動臺上加入20N的外界擾動力，重力補償效果如圖3，洛倫茲電機的輸出力效果如圖4。從圖中可看出，經過70ms后，洛倫茲電機的輸出力小于5N，經過0.2s，洛倫茲電機的輸出力趨于0。在本發(fā)明中，氣動控制氣室114的壓力，能以較低的頻率驅動支撐板101，同時發(fā)熱極小。洛侖茲電機10響應速度快，發(fā)熱大，用于高頻驅動支撐板101。由于采用氣動驅動支撐板101，降低洛侖茲電機10的出力，從而洛侖茲電機的發(fā)熱也會大大減少。雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明。本發(fā)明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內，當可作各種的更動與潤飾。因此，本發(fā)明的保護范圍當視權利要求書所界定者為準。