專利名稱：渦旋式壓縮機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種渦旋式壓縮機(jī)，尤其涉及一種低壓的渦旋式壓縮機(jī)，其中容器的內(nèi)部空間通過排放蓋分隔為吸入空間和排放空間。
背景技術(shù)：
渦旋式壓縮機(jī)是一種通過改變由一對(duì)相對(duì)的渦旋盤形成的壓縮室的容積來壓縮制冷劑氣體的壓縮機(jī)。與往復(fù)式壓縮機(jī)或回轉(zhuǎn)式壓縮機(jī)相比，渦旋式壓縮機(jī)具有較高的效率、較低的振動(dòng)和噪音，并且能夠減少尺寸和重量，因此這種渦旋式壓縮機(jī)得以廣泛使用，尤其是在空調(diào)中。渦旋式壓縮機(jī)可根據(jù)其容器的內(nèi)部空間中所填充的制冷劑的壓力而劃分為低壓的渦旋式壓縮機(jī)和高壓的渦旋式壓縮機(jī)。在低壓的渦旋式壓縮機(jī)中，吸入管與容器的內(nèi)部空間連通，并且制冷劑通過該內(nèi)部空間被直接吸入到壓縮室。同時(shí)，在高壓的渦旋式壓縮機(jī)中，吸入管直接與壓縮單元的吸入側(cè)連通，并且制冷劑被直接吸入到壓縮室，而不經(jīng)過容器的內(nèi)部空間。圖1是現(xiàn)有技術(shù)的低壓的渦旋式壓縮機(jī)的豎向剖視圖。如所示的，在現(xiàn)有技術(shù)的渦旋式壓縮機(jī)中，容器10的內(nèi)部空間被分隔為吸入空間SI和排放空間S2。容器10的內(nèi)部空間通過主框架20或固定渦旋盤50分隔為吸入空間SI和排放空間S2，或者可通過固定到如圖1中所示的排放蓋80或固定潤(rùn)旋盤50的上表面的排氣缸(discharge plenum,未示出)分隔為吸入空間SI和排放空間S2。如圖2中所示，現(xiàn)有技術(shù)的排放蓋80呈環(huán)形。排放蓋80的外周側(cè)氣密性地聯(lián)接到容器10，并且排放蓋80的內(nèi)周側(cè)固定地聯(lián)接到固定渦旋盤50的上表面以覆蓋排放開口53。排放蓋80的外周表面是彎曲的，并且在外周表面上形成有呈帶狀的支撐突出部81。支撐突出部81被插入到容器10的殼體11與上罩蓋12之間并且沿軸向被支撐。排放蓋80內(nèi)周的下表面沿軸向固定于、并緊密地附連到固定渦旋盤50的上表面，而且由該上表面支撐，從而防止被排放到排放空間S2的制冷劑滲漏到吸入空間SI。附圖標(biāo)記13表示下罩蓋，附圖標(biāo)記30表示下框架，附圖標(biāo)記40表示驅(qū)動(dòng)電機(jī)，附圖標(biāo)記41是定子，附圖標(biāo)記42表示轉(zhuǎn)子，附圖標(biāo)記43表示曲柄軸，附圖標(biāo)記51表示固定渦卷，附圖標(biāo)記52表示吸入開口，附圖標(biāo)記60表示繞動(dòng)渦旋盤，附圖標(biāo)記61表示繞動(dòng)渦卷，附圖標(biāo)記70表示十字滑環(huán)(oldhamring),附圖字母SP表示吸入管，附圖字母DP表示排放管。然而，在現(xiàn)有技術(shù)的渦旋式壓縮機(jī)中，排放蓋80的外周側(cè)和內(nèi)周側(cè)都是沿軸向固定，但是由于排放的制冷劑使內(nèi)周側(cè)(即，圖2中的區(qū)域“A”)增壓，所以固定渦旋盤50因增壓力而壓向繞動(dòng)渦旋盤60，從而增加固定渦旋盤50與繞動(dòng)渦旋盤60之間的摩擦損耗。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種渦旋式壓縮機(jī)，其中排放蓋很容易加工和裝配，并且防止固定渦旋盤因排放到排放空間的制冷劑的增壓力而朝向繞動(dòng)渦旋盤變形，因此減少固定渦旋盤與繞動(dòng)渦旋盤之間的摩擦損耗。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種渦旋式壓縮機(jī)，包括容器，具有內(nèi)部空間；固定渦旋盤，安裝在所述容器的內(nèi)部空間中；繞動(dòng)渦旋盤，安裝成與所述固定渦旋盤接合以進(jìn)行回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)；以及排放蓋，將所述容器的內(nèi)部空間分隔為吸入空間和排放空間，其中，在所述固定渦旋盤與所述排放蓋之間設(shè)有密封部，以密封所述吸入空間和所述排放空間，并且所述密封部形成為使得所述固定渦旋盤和所述排放蓋在所述壓縮機(jī)停機(jī)時(shí)沿軸向彼此隔開。根據(jù)本發(fā)明的另個(gè)一方面，提供一種渦旋式壓縮機(jī)，包括殼體，具有敞開的上端和下端；上罩蓋，覆蓋所述殼體的上端；下罩蓋，覆蓋所述殼體的下端；框架，固定地聯(lián)接到所述殼體；固定渦旋盤，通過所述框架支撐并且具有吸入開口和排放開口 ；繞動(dòng)渦旋盤，與所述固定渦旋盤接合以進(jìn)行回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，從而形成連續(xù)移動(dòng)的壓縮室；以及排放蓋，分隔所述固定渦旋盤的所述吸入開口與所述排放開口，其中在所述固定渦旋盤的排放開口的附近突出地形成有環(huán)形的第一密封部，在所述排放蓋上彎曲地形成有第二密封部，并且所述第二密封部被插入到所述第一密封部中。從以下本發(fā)明的結(jié)合附圖的詳細(xì)描述中，本發(fā)明的前述和其它目的、特征、方面和優(yōu)勢(shì)將變得更加顯而易見。


圖1是現(xiàn)有技術(shù)的低壓的渦旋式壓縮機(jī)的豎向剖視圖；圖2是示出了圖1中的固定渦旋盤和排放蓋的聯(lián)接狀態(tài)的放大視圖；圖3是示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的渦旋式壓縮機(jī)的示例的豎向剖視圖；圖4是示出了圖3中的排放蓋和固定渦旋盤的聯(lián)接狀態(tài)的放大視圖；圖5和圖6是分別示出了圖4中的部分“A”和部分“B”的放大視圖；圖7是示出了排放蓋吸收?qǐng)D4中的排放氣體的增壓力的狀態(tài)的剖視圖；以及圖8和圖9是示出了實(shí)驗(yàn)結(jié)果的視圖，該實(shí)驗(yàn)結(jié)果示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，當(dāng)排放蓋的密封部與固定渦旋盤沿軸向具有重合部分時(shí)(圖8)與當(dāng)該密封部沒有重合部分(圖9)時(shí)，固定渦旋盤的變形度之間的對(duì)比。
具體實(shí)施例方式下面將參考附圖描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的渦旋式壓縮機(jī)。如圖3中所示，在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的渦旋式壓縮機(jī)中，容器10的內(nèi)部空間可分隔成作為低壓部的吸入空間SI和作為高壓部的排放空間S2。用于產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)力的驅(qū)動(dòng)電機(jī)40可安裝到容器10的吸入空間SI中。主框架20可固定地安裝到容器10的吸入空間SI與排放空間S2之間。副框架30可安裝到吸入空間SI的下端上。驅(qū)動(dòng)電機(jī)40可安裝在主框架20與副框架30之間，并且固定渦旋盤50可固定地安裝在主框架20的上表面上。繞動(dòng)渦旋盤60可安裝在主框架20與固定渦旋盤50之間，使得其是可回轉(zhuǎn)的。繞動(dòng)渦旋盤60可偏心地聯(lián)接到驅(qū)動(dòng)電機(jī)40的曲柄軸43，以便與固定渦旋盤50 —起形成連續(xù)移動(dòng)的一對(duì)壓縮室P。十字滑環(huán)70可安裝在固定渦旋盤50與繞動(dòng)渦旋盤60之間，從而防止繞動(dòng)渦旋盤60旋轉(zhuǎn)。容器10可包括圓柱殼體11以及覆蓋殼體11的上開口端的上罩蓋12和覆蓋殼體11的下開口端的下罩蓋13。吸入管SP可聯(lián)接成與容器10的吸入空間SI連通，排放管DP可聯(lián)接成與排放空間S2連通。容器10可具有不透氣地密封排放空間S2，并且作為低壓部的吸入空間和作為高壓部的排放空間可通過固定地聯(lián)接到固定渦旋盤50的排氣缸(未示出)來分隔，或者如圖3和圖4中所示，容器10的內(nèi)部空間可通過緊密地附連到容器10的內(nèi)周表面的排放蓋100而分隔為吸入空間SI和排放空間S2。主框架20的外周表面的整體或一部分可固定地焊接到容器10的殼體11的內(nèi)周表面。然而，如圖6中所示，呈帶狀或者凸起狀的支撐突出部21在主框架20的外周表面上形成并且安裝在容器10的殼體11的上開口端Ila上以沿軸向得到支撐。當(dāng)主框架20的外周表面緊密地附連到容器10的殼體11的內(nèi)周表面時(shí)，可形成允許吸入空間SI與吸入開口 53 (后面將描述)彼此連通的連通孔(未示出)或者連通凹口(未示出)。在固定渦旋盤50中，固定渦卷52可形成為從盤板部51的下表面突出以與繞動(dòng)渦旋盤60的繞動(dòng)渦卷62 —起構(gòu)成壓縮室P。在固定渦旋盤50中，吸入開口 53形成在盤板部51的外周表面上，以允許容器10的吸入空間SI與壓縮室P彼此連通。排放開口 54可形成在固定渦旋盤50的盤板部51的中心部，以允許容器10的壓縮室P與排放空間S2彼此連通。固定渦旋盤50的盤板部51可以呈環(huán)形并且固定地聯(lián)接到主框架20的上表面。當(dāng)主框架20中沒有設(shè)置支撐突出部21時(shí)，可在固定渦旋盤50的盤板部51的外周表面上形成相同的支撐突出部(未示出)。排放蓋100可安裝在固定渦旋盤50的盤板部51的上表面上，以將容器10的間隔空間分隔成吸入空間SI和排放空間S2。排放蓋100可通過對(duì)具有一定厚度的板體加壓而形成。當(dāng)從平面觀察時(shí)，排放蓋100可以呈環(huán)形。支撐部110形成在排放蓋100的外周側(cè)上，主框架20的支撐突出部21或固定渦旋盤50的支撐突出部(未示出)沿軸向安裝和支撐到排放蓋100的外周側(cè)上。密封部120可形成在排放蓋100的內(nèi)周側(cè)上并且沿徑向緊密地附連到固定渦旋盤50的盤板部51，以覆蓋排放開口 54的附近。支撐部110可通過彎曲排放蓋100的外周側(cè)而形成臺(tái)階，使得支撐部110安裝在主框架20的支撐突出部21上或排放蓋100的內(nèi)周表面上的固定渦旋盤50的支撐突出部上。此外，固定部可在支撐部110的外部附近形成為臺(tái)階，以允許上罩蓋12固定地安裝到其上。密封部120可通過使排放蓋100的內(nèi)周側(cè)朝向固定渦旋盤50彎曲而形成。為此，如圖5中所示，第一密封部55可形成為呈環(huán)形并且在固定渦旋盤50的盤板部51的上表面上(即在排放開口 54的附近)具有一定高度，第二密封部121可形成為插入到第一密封部55中并且在排放蓋100的內(nèi)周側(cè)中沿徑向與其接觸。第二密封部121的下端可形成為與固定渦旋盤50的盤板部51的上表面51a隔開一定間隔。優(yōu)選地，第二密封部121形成為具有距離tl，使得雖然排放到排放空間S2的高壓制冷劑對(duì)排放蓋100加壓，但是第二密封部121的下端121a不會(huì)與固定渦旋盤50的上表面51a接觸或者不會(huì)與其過分緊密地接觸。然而，雖然未示出，但是第二密封部121可以呈環(huán)形和平面形，而沒有彎曲，因此其內(nèi)周表面可與第一密封部55的外周表面大體接觸。在這種情況下，排放蓋100的內(nèi)周側(cè)附近(第二密封部121)的下表面可被聯(lián)接成與固定渦旋盤50的上表面51a隔開一定間隔。同時(shí)，優(yōu)選地，排放蓋100可具有傾斜的表面部140，其形成為在第二密封部121與支撐部110之間朝著支撐部110向下傾斜，以分散氣體壓力。為此，優(yōu)選地，固定渦旋盤50形成為朝著第一密封部55的外周向下傾斜。附圖標(biāo)記41表示定子，附圖標(biāo)記42表示轉(zhuǎn)子。根據(jù)本實(shí)施例的渦旋式壓縮機(jī)具有以下操作效果。也就是，當(dāng)對(duì)驅(qū)動(dòng)電機(jī)40施加電力以產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)力時(shí)，偏心地聯(lián)接到驅(qū)動(dòng)電機(jī)40的曲柄軸43的繞動(dòng)渦旋盤60進(jìn)行回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，從而在繞動(dòng)渦旋盤60與固定渦旋盤50之間形成連續(xù)移動(dòng)的一對(duì)(或兩對(duì))壓縮室P。壓縮室P在多個(gè)階段中連續(xù)地形成，使得其容積從吸入開口 53 (或吸入室)向排放開口 54 (或排放室)逐漸減小。然后，從容器10的外部吸入的制冷劑通過吸入管SP被引入到容器10的吸入空間SI (低壓部)，吸入空間SI中的低壓制冷劑通過固定渦旋盤50的吸入開口 53被引入并且通過繞動(dòng)渦旋盤60沿最終壓縮室的方向移動(dòng)以進(jìn)行壓縮，隨后，通過固定渦旋盤50的排放開口 54從最終壓縮室排放到容器10的排放開口 S2。在此，由于排放空間S2通過排放蓋100的密封部120而與吸入空間SI隔開，排放到排放空間S2的制冷劑通過排放管DP而移動(dòng)到制冷回路，而不是流回到吸入空間SI。在此，當(dāng)排放蓋100的密封部121 (也就是，第二密封部)沿軸向緊密地附連到固定渦旋盤50的上表面51a時(shí)，固定渦旋盤50因排放到排放空間S2的高壓制冷劑而朝向繞動(dòng)渦旋盤60被加壓，從而發(fā)生變形，導(dǎo)致固定渦旋盤50與繞動(dòng)渦旋盤60之間的摩擦損耗增加而降低壓縮機(jī)的性能。 然而，在本實(shí)施例中，由于排放蓋100的第二密封部121僅沿徑向與固定渦旋盤50的第一密封部55接觸并且被聯(lián)接成沿軸向保留一定的距離，雖然排放蓋100因排放的制冷劑而被擠壓，但是排放蓋100的密封部120不會(huì)沿軸向?qū)潭u旋盤加壓。因此，防止固定渦旋盤50和繞動(dòng)渦旋盤60過分緊密地彼此附連，從而避免因摩擦損耗增加而使得壓縮機(jī)的效率降低。圖8和圖9是示出了實(shí)驗(yàn)結(jié)果的視圖，該實(shí)驗(yàn)結(jié)果示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，當(dāng)排放蓋的密封部與固定渦旋盤沿軸向具有重合部分時(shí)(圖8)與當(dāng)該密封部沒有重合部分(圖9)時(shí)，固定渦旋盤的變形度之間的對(duì)比。如所示的，可以看到，當(dāng)排放蓋100和固定渦旋盤50沿軸向具有重疊部時(shí)，固定渦旋盤50的中心部受到極大的載荷。然而，當(dāng)排放蓋100和固定渦旋盤50沿軸向沒有重疊部分時(shí)，固定渦旋盤50的中心部受到相對(duì)較小的載荷。因此，可以看到，當(dāng)排放蓋100的密封部120被聯(lián)接到固定渦旋盤50而使得其沿軸向不重合時(shí)，可以防止固定渦旋盤50變形。同時(shí)，當(dāng)排放蓋100的第二密封部121不是通過固定渦旋盤50的第一密封部55進(jìn)行支撐并且僅排放蓋100的支撐部110通過固定渦旋盤50、主框架20或者容器10的殼體11進(jìn)行支撐時(shí)，由于僅一個(gè)位置沿軸向進(jìn)行支撐，所以能夠有助于排放蓋100的加工和裝配。也就是，即使當(dāng)?shù)诙芊獠?21以及排放蓋100的支撐部110都與固定渦旋盤500等沿軸向接觸時(shí)，由于兩個(gè)位置被支撐，所以排放蓋100必須更精確地加工和裝配。因此，在本實(shí)施例中，當(dāng)排放蓋的密封部與固定渦旋盤隔開的同時(shí)，僅排放蓋的支撐部沿軸向被支撐在固定渦旋盤或主框架中時(shí)，能夠有助于固定渦旋盤和排放蓋的加工或裝配過程。雖然在不背離本發(fā)明的特征的情況下，可以多種形式來實(shí)施本發(fā)明，但是應(yīng)理解，以上描述的實(shí)施例并不局限于之前描述的任何細(xì)節(jié)，除非具體說明，而是應(yīng)廣泛地解釋為落入所附的權(quán)利要求限定的范圍內(nèi)，因此落入權(quán)利要求的界限和范圍內(nèi)或這些界限和范圍的等效方案內(nèi)的所有的變型和改型將為所附的權(quán)利要求所涵蓋。
權(quán)利要求
1.一種渦旋式壓縮機(jī)，包括容器，具有內(nèi)部空間；固定渦旋盤，安裝在所述容器的內(nèi)部空間中；繞動(dòng)渦旋盤，安裝成與所述固定渦旋盤接合以進(jìn)行回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)；以及排放蓋，將所述容器的內(nèi)部空間分隔為吸入空間和排放空間，其中，在所述固定渦旋盤與所述排放蓋之間設(shè)有密封部，以密封所述吸入空間和所述排放空間，并且所述密封部形成為使得所述固定渦旋盤和所述排放蓋在所述壓縮機(jī)停機(jī)時(shí)沿軸向彼此隔開。
2.如權(quán)利要求1所述的渦旋式壓縮機(jī)，其中在所述固定渦旋盤上形成有第一密封部，使得所述第一密封部朝向所述排放空間突出，并且在所述排放蓋上以穿入的方式形成有第二密封部，使得所述第一密封部插入到所述第_封部中以沿徑向接觸，其中當(dāng)所述壓縮機(jī)停機(jī)時(shí)，所述第二密封部與所述固定渦旋盤的表面沿軸向隔開，所述固定渦旋盤的所述第一密封部連接到所述固定渦旋盤的表面。
3.如權(quán)利要求2所述的渦旋式壓縮機(jī)，其中所述第二密封部形成為朝向所述固定渦旋盤彎曲。
4.如權(quán)利要求1所述的渦旋式壓縮機(jī)，其中在所述排放蓋的內(nèi)周表面上形成有呈階梯的支撐部，所述支撐部通過所述主框架支撐，并且在所述排放蓋的外周表面上彎曲地形成有固定部，并且所述固定部被固定到所述容器。
5.如權(quán)利要求4所述的渦旋式壓縮機(jī)，其中在所述密封部與所述排放蓋中的所述支撐部之間形成有傾斜表面部，并且所述傾斜表面部形成為朝所述支撐部向下傾斜。
6.一種渦旋式壓縮機(jī)，包括殼體，具有敞開的上端和下端；上罩蓋，覆蓋所述殼體的上端；下罩蓋，覆蓋所述殼體的下端；框架，固定地聯(lián)接到所述殼體；固定渦旋盤，通過所述框架支撐并且具有吸入開口和排放開口 ；繞動(dòng)渦旋盤，與所述固定渦旋盤接合以進(jìn)行回轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，從而形成連續(xù)移動(dòng)的壓縮室；以及排放蓋，分隔所述固定渦旋盤的所述吸入開口與所述排放開口，其中在所述固定渦旋盤的排放開口的附近突出有環(huán)形的第一密封部，并且在所述排放蓋上彎曲地形成有第二密封部，并且所述第二密封部被插入到所述第一密封部中。
7.如權(quán)利要求6所述的渦旋式壓縮機(jī)，其中所述第一密封部和所述第二密封部形成為當(dāng)所述壓縮機(jī)停機(jī)時(shí)沿軸向彼此隔開。
8.如權(quán)利要求7所述的渦旋式壓縮機(jī)，其中在所述固定渦旋盤的外周表面上形成有固定突出部，所述固定突出部沿徑向突出以便定位在所述殼體與所述上罩蓋之間，并且在所述排放蓋的內(nèi)周表面上形成有呈階梯的支撐部，使得所述支撐部通過所述固定渦旋盤的固定突出部而沿軸向得到支撐。
9.如權(quán)利要求8所述的渦旋式壓縮機(jī)，其中在所述排放蓋的外周表面上彎曲地形成有固定部，所述上罩蓋沿軸向聯(lián)接到所述固定部。
10.如權(quán)利要求6所述的渦旋式壓縮機(jī)，其中所述排放蓋包括傾斜表面部，所述傾斜表面部形成為從所述第二密封部朝著所述支撐部向下傾斜。
全文摘要
本發(fā)明提出一種渦旋式壓縮機(jī)，其中安置在吸入空間與排放空間之間的排放蓋的密封部形成為與固定渦旋盤沿軸向隔開，因此排放蓋僅在單個(gè)外周上與固定裝置沿軸向接觸，從而有助于排放蓋的制造和裝配。此外，在裝配之后，當(dāng)排放蓋因排放到排放空間的制冷劑的排放壓力而朝向固定渦旋盤加壓時(shí)，排放蓋不會(huì)將增壓力傳遞到固定渦旋盤，因此減少固定渦旋盤與繞動(dòng)渦旋盤之間的摩擦損耗。
文檔編號(hào)F04C18/02GK102996443SQ201210331379
公開日2013年3月27日 申請(qǐng)日期2012年9月7日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月9日
發(fā)明者樸峻弘, 崔長(zhǎng)憲, 魯起燮, 陳弘均 申請(qǐng)人:Lg電子株式會(huì)社