一種改進(jìn)的高效電鍍液的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種改進(jìn)的高效電鍍液。
【背景技術(shù)】
[0002]在機(jī)械加工技術(shù)領(lǐng)域，腐蝕現(xiàn)象比較嚴(yán)重，造成了資源的浪費(fèi)，針對機(jī)械的表面處理工藝，目前還沒有一種既能夠防腐耐磨又兼具成本低廉的表面處理技術(shù)。而電鍍技術(shù)可以很好地改善機(jī)械加工現(xiàn)狀，而電鍍液則是必不可少的一部分。
[0003]電鍍液是指可以擴(kuò)大金屬的陰極電流密度范圍、改善鍍層的外觀、增加溶液抗氧化的穩(wěn)定性等特點(diǎn)的液體。電鍍能夠改善機(jī)械表面的質(zhì)量，防止機(jī)械生銹，同時還具有一定的保護(hù)作用。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是，提供一種改進(jìn)的高效電鍍液，具有很好的地阿杜效果，能夠很好的保護(hù)工件，同時不會產(chǎn)生污染。
[0005]為解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明采取的技術(shù)方案是:一種改進(jìn)的高效電鍍液，由以下重量份數(shù)的原料制成:
硫酸鎳9-15份，碳化硅6-10份，二甲基己炔醇3-9份，次磷酸鈉8-14份，乳酸6_9份，氧化鋅3-7份，碳酸錳2-5份，氯酸鉀4-10份，碳酸鈉2-7份，硅烷偶聯(lián)劑1_3份，納米氧化物4-6份，交聯(lián)劑1-5份。
[0006]本發(fā)明優(yōu)化的技術(shù)方案是，一種改進(jìn)的高效電鍍液，由以下重量份數(shù)的原料制成:
硫酸鎳12份，碳化硅8份，二甲基己炔醇6份，次磷酸鈉11份，乳酸7份，氧化鋅5份，碳酸錳4份，氯酸鉀7份，碳酸鈉5份，硅烷偶聯(lián)劑2份，納米氧化物5份，交聯(lián)劑3份。
[0007]本發(fā)明的有益效果是，本發(fā)明的改進(jìn)的高效電鍍液，具有很好的地阿杜效果，能夠很好的保護(hù)工件，同時不會產(chǎn)生污染。
【具體實(shí)施方式】
[0008]實(shí)施例1
一種改進(jìn)的高效電鍍液，由以下重量份數(shù)的原料制成:
硫酸鎳9份，碳化硅6份，二甲基己炔醇3份，次磷酸鈉8份，乳酸6份，氧化鋅3份，碳酸錳2份，氯酸鉀4份，碳酸鈉2份，硅烷偶聯(lián)劑1份，納米氧化物4份，交聯(lián)劑1份。
[0009]實(shí)施例2
一種改進(jìn)的高效電鍍液，由以下重量份數(shù)的原料制成:
硫酸鎳15份，碳化硅10份，二甲基己炔醇9份，次磷酸鈉14份，乳酸9份，氧化鋅7份，碳酸錳5份，氯酸鉀10份，碳酸鈉7份，硅烷偶聯(lián)劑3份，納米氧化物6份，交聯(lián)劑5份。
[0010]實(shí)施例3 一種改進(jìn)的高效電鍍液，由以下重量份數(shù)的原料制成:
硫酸鎳12份，碳化硅8份，二甲基己炔醇6份，次磷酸鈉11份，乳酸7份，氧化鋅5份，碳酸錳4份，氯酸鉀7份，碳酸鈉5份，硅烷偶聯(lián)劑2份，納米氧化物5份，交聯(lián)劑3份。
【主權(quán)項】
1.一種改進(jìn)的高效電鍍液，其特征在于:由以下重量份數(shù)的原料制成: 硫酸鎳9-15份，碳化硅6-10份，二甲基己炔醇3-9份，次磷酸鈉8-14份，乳酸6_9份，氧化鋅3-7份，碳酸錳2-5份，氯酸鉀4-10份，碳酸鈉2-7份，硅烷偶聯(lián)劑1_3份，納米氧化物4-6份，交聯(lián)劑1-5份。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進(jìn)的高效電鍍液，其特征在于:由以下重量份數(shù)的原料制成: 硫酸鎳12份，碳化硅8份，二甲基己炔醇6份，次磷酸鈉11份，乳酸7份，氧化鋅5份，碳酸錳4份，氯酸鉀7份，碳酸鈉5份，硅烷偶聯(lián)劑2份，納米氧化物5份，交聯(lián)劑3份。
【專利摘要】一種改進(jìn)的高效電鍍液，由以下重量份數(shù)的原料制成：硫酸鎳9-15份，碳化硅6-10份，二甲基己炔醇3-9份，次磷酸鈉8-14份，乳酸6-9份，氧化鋅3-7份，碳酸錳2-5份，氯酸鉀4-10份，碳酸鈉2-7份，硅烷偶聯(lián)劑1-3份，納米氧化物4-6份，交聯(lián)劑1-5份。本發(fā)明的有益效果是，本發(fā)明的改進(jìn)的高效電鍍液，具有很好的地阿杜效果，能夠很好的保護(hù)工件，同時不會產(chǎn)生污染。
【IPC分類】C25D15/00
【公開號】CN105297116
【申請?zhí)枴緾N201510723357
【發(fā)明人】王璐
【申請人】王璐
【公開日】2016年2月3日
【申請日】2015年10月29日