專利名稱：一種鍍槽裝置和自動補充液體的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種鍍槽裝置，特別涉及一種可自動補充液體的鍍槽裝置和利用此裝自動補充液體的方法。
背景技術：
目前大多數(shù)大量生產(chǎn)的化學鍍、電鍍等廠家已采用自動化電鍍或化學鍍裝置，利用自動控制裝置不僅能提升制程效率，更能杜絕人工生產(chǎn)所導致的不良品。然而，在自動化制程中，鍍槽溶液會受各種因素影響，其濃度、溫度、酸堿度等均難以控制，影響產(chǎn)品質量。
電鍍或化學鍍等制程中，鍍液常因反應消耗或高溫蒸發(fā)等因素不斷減少，為使鍍液的化學成分保持在工藝規(guī)定的范圍內，以確保鍍層的化學、物理性能，常設置有自動補充鍍液的裝置。
如圖1所示，傳統(tǒng)電鍍裝置設有一補充槽1裝有大量補充液，由該補充槽1以時間流量控制方式通過多個泵浦11定時定量向對應的多個鍍槽2中分別補充因反應或其它因素所消耗的液體。該裝置具有以下缺點首先，各鍍槽2中消耗的鍍液并非絕對相同，定時定量補充液體必造成各鍍槽2中鍍液體積或濃度不同，甚至造成少數(shù)鍍槽2中鍍液體積不足的情況，導致被鍍的成品不合標準；其次，電流不穩(wěn)定時也會使泵浦11向鍍槽2中補充液體不夠，使得多個鍍槽2中鍍液濃度發(fā)生改變，影響成品的鍍層質量。
中國臺灣專利第374805號揭示一種電鍍槽的電鍍液自動補充控制的裝置，如圖2所示，該裝置包括一補充槽3和多個電鍍槽6，多個定量杯4設在該補充槽3和多個電鍍槽6之間。補充槽3上設有一泵浦31，以時間流量控制方式定時向多個定量杯4供給超過定量杯4容量的補充液。每一定量杯4與其所對應的電鍍槽6之間設有電磁閥5和電流計7，當電流達到一設定值時，電磁閥5便可得到響應處于打開狀態(tài)，定量杯4中的液體將流向電鍍槽6，當定量杯4中的液體流完后，電磁閥5將自動關閉，在一限定的時間內，補充槽3通過泵浦31向定量杯4中補充液體。該裝置根據(jù)各電流計的變化，分別對各電磁閥5做出響應，以達到分別向各電鍍槽6中補充液體的功效，并可避免電流不穩(wěn)定時補充不足的情況。但是，該裝置對鍍液的補充是定時定量進行，在某一較小時間段內，電鍍槽6的鍍液也有可能處于不足的狀態(tài)，導致鍍液工藝參數(shù)改變，影響電鍍效果。
因此，對于現(xiàn)有技術所存在的缺陷，有必要提供一種向鍍槽瞬時自動補充液體的裝置，使鍍液在每一瞬間皆保持穩(wěn)定，從而優(yōu)化制程。

發(fā)明內容本發(fā)明的目的是提供一種鍍槽裝置，可在制程中向鍍槽隨時補充液體，使鍍液處于一動態(tài)穩(wěn)定狀態(tài)，以優(yōu)化制程。
本發(fā)明的另一目的是提供一種利用上述裝置對鍍液進行自動補充的方法。
為實現(xiàn)本發(fā)明的第一目的，提供一鍍槽裝置，其包括一槽體，用于盛放鍍液；一補充槽，用于盛放補充液，該補充槽和上述槽體相連通；一液位控制裝置，其具有一控制體和一感測體，該感測體用來感測槽體內鍍液的液位，控制體對感測體的感測結果作出響應以控制補充槽的補充液向槽體的流動。
本發(fā)明的鍍槽裝置也可包括多個槽體，一補充槽分別和每個槽體相連通，每個槽體具有其對應的液位控制裝置，該液位控制裝置具有一控制體和一感測體，感測體對其對應的槽體內鍍液的液位進行感測，控制體對感測體的感測結果作出響應以控制補充槽的補充液向對應槽體的流動。
為實現(xiàn)本發(fā)明的另一目的，提供一種自動補充鍍液的方法，其包括步驟提供一鍍槽裝置，其包括一槽體，用于盛放鍍液，一補充槽，用于盛放補充液，該補充槽和上述槽體相連通，一液位控制裝置，其具有一控制體和一感測體；確定一預設液位高度；通過感測體對槽體內鍍液的液位進行自動感測；控制體對感測體的感測結果作出響應并控制補充槽的補充液向槽體流動。
與現(xiàn)有技術相比較，本發(fā)明的鍍槽裝置具有以下優(yōu)點第一，該鍍槽裝置利用對液位高度的瞬時感測，向鍍槽及時補充液體，使鍍液的制程參數(shù)保持在規(guī)定的范圍內，優(yōu)化制程；第二，該鍍槽裝置具有多個鍍槽時，可分別對每一槽體的液位進行瞬時感測，根據(jù)各鍍槽的需要進行分別補充。

圖1是現(xiàn)有技術的電鍍槽的電鍍液補充裝置示意圖。
圖2是中國臺灣專利第374805號電鍍槽補充裝置示意圖。
圖3A是本發(fā)明第一實施例的鍍槽裝置示意圖。
圖3B是本發(fā)明第一實施例的鍍槽裝置示意圖。
圖4是本發(fā)明第二實施例的鍍槽裝置示意圖。
圖5是本發(fā)明第三實施例的鍍槽裝置示意圖。
具體實施方式下面將結合附圖及實施例對本發(fā)明的鍍槽裝置及自動補充液體的方法作進一步的詳細說明。
如圖3A和圖3B所示，本發(fā)明第一實施例是一化學鍍鎳槽裝置，其包括一槽體100和一補充槽200。該槽體100內裝有鍍液，預設液位是110處。一加熱器111和一攪拌器112設在槽體100中，該加熱器111用以加熱鍍液到所需溫度，其具有溫度自動控制功能；該攪拌器112用于鍍鎳過程不斷進行攪拌，以使鍍液可均勻受熱并保持均一濃度。一導管211，一端連接補充槽200，另一端通入槽體100且導管口212伸出預設液位110，最好和預設液位110相水平。一液位控制裝置300，其具有控制端和感應端，該控制端包括一控制開關311，該感應端是一浮球310，曲桿312用以連接控制開關311和浮球310。該控制開關311樞接在導管口212上，其可通過浮球310和曲桿312的帶動對導管口212進行開關控制，浮球310漂浮在槽體100內鍍液的液面，其自身重力和所受鍍液的浮力相等。當控制開關311對導管口212進行關閉控制時，浮球310恰好浮在預設液位110處，其可隨鍍液面的上下變動而上下移動。控制開關311具有靈敏的感應性，當浮球310對其產(chǎn)生一微小拉力便會打開，當浮球310對其產(chǎn)生微小推力便會關閉。
化學鍍鎳制程中，待鍍的工件設在預設液位110以下，隨著反應的進行，鍍液會因受熱蒸發(fā)、反應消耗等各種原因不斷減少，液位不斷下降，當槽體100內鍍液隨著反應進行液位下降而低于預設液位110時，浮球310隨鍍液向下移動，與其相連的曲桿312則會對控制開關311產(chǎn)生一拉力，使其打開導管口212，使補充槽200中的補充液流向槽體100；隨槽體100內液位的上升，浮球310受浮力向上移動，與其相連的曲桿312則會對控制開關311產(chǎn)生一推力，當液位到達預設液位110時，控制開關311恰好將導管口212關閉。槽體100內的鍍液液面在每一瞬間發(fā)生變化時，浮球310便會隨著變化，故，該自動補充裝置可對槽體100內的鍍液液位進行瞬時感測，同時控制開關311也會得到瞬時響應對補充槽200進行開關控制，槽體100的鍍液可得到及時補充，鍍液的制程參數(shù)處于動態(tài)穩(wěn)定狀態(tài)，如此可優(yōu)化制程，提高鍍層質量。
如圖4所示，本發(fā)明第二實施例的化學鍍鎳槽裝置具有槽體100和補充槽200，接通該槽體100和補充槽200的導管211上設有一制動閥210。一液位控制裝置400，其具有一液位感測端410和一控制端411，該液位感測端410固定在槽體100中和鍍液相接觸，其可對液位高度進行精確測量，并可顯示出較準確的液位值，該控制端411和制動閥210相連接。
根據(jù)制程需要確定一預設液位值，鍍鎳開始時，槽體100內鍍液處于預設液位高度，液位感測端410顯示預設液位值，制動閥210則處于關閉狀態(tài)。隨著反應進行液位高度下降時，液位感測端410感測出液位值發(fā)生變化并傳送訊號給控制端411，該控制端411將通知制動閥210打開閥門，使補充槽200中的補充液流向槽體100。當槽體100的液位重新回到預設液位高度，液位感測端410感測到液位回到預設液位值并傳送訊號給控制端411，該控制端411將通知制動閥210關閉閥門，使補充槽200停止向槽體100補充液體。該過程通過液位感測端410對槽體100內的鍍液液位進行精確感測，當感測值相對于預設液位值發(fā)生偏差時，液位感測端410將會對制動閥210發(fā)出訊號使其作出相應的動作。由于液位感測端410在制程中始終和鍍液保持接觸狀態(tài)，其可對鍍液液位進行瞬時感測，同時控制端411也會得到瞬時訊號并通知制動閥210作出及時響應，使槽體100的鍍液可得到及時補充，鍍液的制程參數(shù)處于動態(tài)穩(wěn)定狀態(tài)，這樣可以優(yōu)化制程，提高鍍層質量。
如圖5所示，本發(fā)明第三實施例的化學鍍鎳槽具有復數(shù)槽體1000和一補充槽200，每一槽體1000和補充槽200通過導管211分別相連，且每一槽體1003和補充槽200之間設有各自對應的液位控制裝置500，該液位控制裝置500可以是本發(fā)明第一實施例中的300，也可以是本發(fā)明第二實施例的400。在實際中，各槽體1000內的反應速度各不相同，其鍍液下降高度則會有差別，通過各自所對應的液位控制裝置500對其進行分別控制，以避免鍍液補充不足或超過預設液位的情況。該裝置使多個槽體1000內的鍍液均保持一動態(tài)恒定液位高度，從而使得鍍鎳過程在一動態(tài)穩(wěn)定環(huán)境中進行，提高鍍層質量。
與現(xiàn)有技術相比較，本發(fā)明的鍍槽裝置通過對槽體100內鍍液液位高度的瞬時感應，使槽體100的鍍液可得到及時補充，以維持鍍液的制程參數(shù)在工藝規(guī)定范圍內，優(yōu)化制程；第二，該鍍槽裝置具有多個槽體時，可分別對每一槽體的液位進行瞬時感應，根據(jù)需要進行分別補充。
權利要求
1.一種鍍槽裝置，其包括一槽體，用于盛放鍍液；一補充槽，用于盛放補充液，該補充槽和上述槽體相連通；其特征在于，該鍍槽裝置還包括一液位控制裝置，其具有一控制體和一感測體，該感測體用于感測槽體內鍍液的液位，控制體對感測體的感測結果作出響應以控制補充槽的補充液向槽體的流動。
2.如權利要求1所述的鍍槽裝置，其特征在于，該補充槽和槽體通過一導管相連。
3.如權利要求1所述的鍍槽裝置，其特征在于，該感測體是一浮子，控制體是一控制開關，浮子和控制開關通過一曲桿相連。
4.如權利要求2或3所述的鍍槽裝置，其特征在于，該控制開關樞接在導管上，用于控制補充槽的補充液向槽體的流動。
5.如權利要求3所述的鍍槽裝置，其特征在于，該浮子設在槽體的一預設液面上。
6.如權利要求1所述的鍍槽裝置，其特征在于，該感測體是一液位計，控制體和一制動閥相連。
7.如權利要求2或6所述的鍍槽裝置，其特征在于，該制動閥設在導管上，用于控制補充槽的補充液向槽體的流動。
8.一種自動補充液體的方法，其包括步驟提供一鍍槽裝置，其包括一槽體，用于盛放鍍液，一補充槽，用于盛放補充液，該補充槽與上述槽體相連通，一液位控制裝置，其具有一控制體及一感測體；確定一預設液位高度；通過感測體對槽體內鍍液的液位進行自動感測；控制體對感測體的感測結果作出響應并控制補充槽的補充液向槽體流動。
9.如權利要求8所述的自動補充液體的方法，其特征在于，該感測體是一浮子，控制體是一控制開關，浮子設在槽體內鍍液的液面，通過該浮子隨槽體液位的變化而移動來帶動控制開關，控制補充槽的補充液向槽體的流動。
10.如權利要求8所述的自動補充液體的方法，其特征在于，該感測體是一液位計，設在預設液位附近，控制體和一制動閥相連，通過液位計對槽體液位變化的測量，控制體對液位計的測量結果作出響應以使制動閥控制補充槽的補充液向槽體流動。
全文摘要
本發(fā)明涉及一鍍槽裝置，其包括一槽體，用于盛放鍍液；一補充槽，用于盛放補充液，該補充槽和上述槽體相連通；一液位控制裝置，其具有一控制體和一感測體，該感測體用于感測槽體內鍍液的液位，控制體對感測體的感測結果作出響應以控制補充槽的補充液向槽體的流動。本發(fā)明還提供一種自動補充鍍液的方法。
文檔編號C25D21/14GK1786294SQ20041007745
公開日2006年6月14日 申請日期2004年12月11日 優(yōu)先權日2004年12月11日
發(fā)明者黃全德 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司