一種等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及封嚴(yán)結(jié)構(gòu)領(lǐng)域，特別涉及了一種等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速的變化，轉(zhuǎn)靜子部件封嚴(yán)間隙的變化直接影響泄漏量，進(jìn)而影響發(fā)動(dòng)機(jī)的工作效率。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有封嚴(yán)間隙隨著轉(zhuǎn)速變化而變化的弊端，特提供了一種等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)。
[0004]本實(shí)用新型提供了一種等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述的等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，包括轉(zhuǎn)子部件1，轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒la，轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒lb，靜子部件2，靜子部件上層封嚴(yán)涂層2a，靜子部件下層封嚴(yán)涂層2b ;
[0005]其中:轉(zhuǎn)子部件I的側(cè)面帶有環(huán)狀的轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒Ia和轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒lb，靜子部件2帶有環(huán)狀槽，環(huán)狀槽內(nèi)壁的上部帶有靜子部件上層封嚴(yán)涂層2a，環(huán)狀槽內(nèi)壁的下部帶有靜子部件下層封嚴(yán)涂層2b。
[0006]所述的轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒Ia的篦齒間等距離布置。
[0007]所述的轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒Ib的篦齒間等距離布置。
[0008]所述的靜子部件上層封嚴(yán)涂層2a和靜子部件下層封嚴(yán)涂層2b的厚度均為
0.1?0.5mm之間。
[0009]篦齒封嚴(yán)憑借著結(jié)構(gòu)簡單、易于維護(hù)、成本低、在高溫和高轉(zhuǎn)速下可靠性高等優(yōu)點(diǎn)成為了航空發(fā)動(dòng)機(jī)等流體機(jī)械中應(yīng)用非常廣泛的一類非接觸密封方式，而篦齒封嚴(yán)泄漏量的大小直接影響發(fā)動(dòng)機(jī)的工作效率。
[0010]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn):
[0011]本實(shí)用新型所述的等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，當(dāng)發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速上升時(shí)，轉(zhuǎn)子部件繞著發(fā)動(dòng)機(jī)軸線旋轉(zhuǎn)，徑向變形量發(fā)生變化，靜子部件保持不變，使上層封嚴(yán)間隙減小，下層封嚴(yán)間隙增大，但減小與增大間隙數(shù)值相當(dāng)，封嚴(yán)間隙保持不變；當(dāng)發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速下降時(shí)，轉(zhuǎn)子部件同樣繞著發(fā)動(dòng)機(jī)軸線旋轉(zhuǎn)，徑向變形量發(fā)生變化，靜子部件仍保持不變，使上層封嚴(yán)間隙增大，下層封嚴(yán)間隙減小，減小與增大間隙數(shù)值相當(dāng)，封嚴(yán)間隙仍保持不變。
【附圖說明】
[0012]下面結(jié)合附圖及實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明:
[0013]圖1為等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖2為等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)工作示意圖；
[0015]圖中，3為轉(zhuǎn)子部件旋轉(zhuǎn)中心線。
【具體實(shí)施方式】
[0016]實(shí)施例1
[0017]本實(shí)施例提供了一種等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述的等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，包括轉(zhuǎn)子部件1，轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒la，轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒lb，靜子部件2，靜子部件上層封嚴(yán)涂層2a，靜子部件下層封嚴(yán)涂層2b ;
[0018]其中:轉(zhuǎn)子部件I的側(cè)面帶有環(huán)狀的轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒Ia和轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒lb，靜子部件2帶有環(huán)狀槽，環(huán)狀槽內(nèi)壁的上部帶有靜子部件上層封嚴(yán)涂層2a，環(huán)狀槽內(nèi)壁的下部帶有靜子部件下層封嚴(yán)涂層2b。
[0019]所述的轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒Ia的篦齒間等距離布置。
[0020]所述的轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒Ib的篦齒間等距離布置。
[0021]所述的靜子部件上層封嚴(yán)涂層2a和靜子部件下層封嚴(yán)涂層2b的厚度均為0.1mm。
[0022]篦齒封嚴(yán)憑借著結(jié)構(gòu)簡單、易于維護(hù)、成本低、在高溫和高轉(zhuǎn)速下可靠性高等優(yōu)點(diǎn)成為了航空發(fā)動(dòng)機(jī)等流體機(jī)械中應(yīng)用非常廣泛的一類非接觸密封方式，而篦齒封嚴(yán)泄漏量的大小直接影響發(fā)動(dòng)機(jī)的工作效率。
[0023]當(dāng)發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速上升時(shí)，轉(zhuǎn)靜子未發(fā)生碰磨，下降亦然，見圖2，轉(zhuǎn)子部件I徑向變形量隨轉(zhuǎn)速變化，上層封嚴(yán)篦齒Ia及下層封嚴(yán)篦齒Ib徑向變形量均為Λ X，而靜子部件2保持不變。因此，封嚴(yán)間隙總變化量為Λ Χ+( -Δ X) = 0，Λ Yl+ Δ Υ2 = C ；C為常數(shù)，即封嚴(yán)間隙保持不變，篦齒封嚴(yán)泄漏量不變，達(dá)到恒定封嚴(yán)效果。
[0024]實(shí)施例2
[0025]本實(shí)施例提供了一種等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述的等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，包括轉(zhuǎn)子部件1，轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒la，轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒lb，靜子部件2，靜子部件上層封嚴(yán)涂層2a，靜子部件下層封嚴(yán)涂層2b ;
[0026]其中:轉(zhuǎn)子部件I的側(cè)面帶有環(huán)狀的轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒Ia和轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒lb，靜子部件2帶有環(huán)狀槽，環(huán)狀槽內(nèi)壁的上部帶有靜子部件上層封嚴(yán)涂層2a，環(huán)狀槽內(nèi)壁的下部帶有靜子部件下層封嚴(yán)涂層2b。
[0027]所述的轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒Ia的篦齒間等距離布置。
[0028]所述的轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒Ib的篦齒間等距離布置。
[0029]所述的靜子部件上層封嚴(yán)涂層2a和靜子部件下層封嚴(yán)涂層2b的厚度均為0.3mm。
[0030]篦齒封嚴(yán)憑借著結(jié)構(gòu)簡單、易于維護(hù)、成本低、在高溫和高轉(zhuǎn)速下可靠性高等優(yōu)點(diǎn)成為了航空發(fā)動(dòng)機(jī)等流體機(jī)械中應(yīng)用非常廣泛的一類非接觸密封方式，而篦齒封嚴(yán)泄漏量的大小直接影響發(fā)動(dòng)機(jī)的工作效率。
[0031]當(dāng)發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速上升時(shí)，轉(zhuǎn)靜子未發(fā)生碰磨，下降亦然，見圖2，轉(zhuǎn)子部件I徑向變形量隨轉(zhuǎn)速變化，上層封嚴(yán)篦齒Ia及下層封嚴(yán)篦齒Ib徑向變形量均為Λ X，而靜子部件2保持不變。因此，封嚴(yán)間隙總變化量為Λ Χ+( -Δ X) = 0，Λ Yl+ Δ Υ2 = C ；C為常數(shù)，即封嚴(yán)間隙保持不變，篦齒封嚴(yán)泄漏量不變，達(dá)到恒定封嚴(yán)效果。
[0032]實(shí)施例3
[0033]本實(shí)施例提供了一種等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述的等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，包括轉(zhuǎn)子部件1，轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒la，轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒lb，靜子部件2，靜子部件上層封嚴(yán)涂層2a，靜子部件下層封嚴(yán)涂層2b ;
[0034]其中:轉(zhuǎn)子部件I的側(cè)面帶有環(huán)狀的轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒Ia和轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒lb，靜子部件2帶有環(huán)狀槽，環(huán)狀槽內(nèi)壁的上部帶有靜子部件上層封嚴(yán)涂層2a，環(huán)狀槽內(nèi)壁的下部帶有靜子部件下層封嚴(yán)涂層2b。
[0035]所述的轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒Ia的篦齒間等距離布置。
[0036]所述的轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒Ib的篦齒間等距離布置。
[0037]所述的靜子部件上層封嚴(yán)涂層2a和靜子部件下層封嚴(yán)涂層2b的厚度均為0.5mm。
[0038]篦齒封嚴(yán)憑借著結(jié)構(gòu)簡單、易于維護(hù)、成本低、在高溫和高轉(zhuǎn)速下可靠性高等優(yōu)點(diǎn)成為了航空發(fā)動(dòng)機(jī)等流體機(jī)械中應(yīng)用非常廣泛的一類非接觸密封方式，而篦齒封嚴(yán)泄漏量的大小直接影響發(fā)動(dòng)機(jī)的工作效率。
[0039]當(dāng)發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速上升時(shí)，轉(zhuǎn)靜子未發(fā)生碰磨，下降亦然，見圖2，轉(zhuǎn)子部件I徑向變形量隨轉(zhuǎn)速變化，上層封嚴(yán)篦齒Ia及下層封嚴(yán)篦齒Ib徑向變形量均為Λ X，而靜子部件2保持不變。因此，封嚴(yán)間隙總變化量為Λ Χ+( -Δ X) = 0，Λ Yl+ Δ Υ2 = C ；C為常數(shù)，即封嚴(yán)間隙保持不變，篦齒封嚴(yán)泄漏量不變，達(dá)到恒定封嚴(yán)效果。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述的等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，包括轉(zhuǎn)子部件(I)，轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒(Ia)，轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒(Ib)，靜子部件(2)，靜子部件上層封嚴(yán)涂層(2a)，靜子部件下層封嚴(yán)涂層(2b); 其中:轉(zhuǎn)子部件(I)的側(cè)面帶有環(huán)狀的轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒(Ia)和轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒(Ib)，靜子部件(2)帶有環(huán)狀槽，環(huán)狀槽內(nèi)壁的上部帶有靜子部件上層封嚴(yán)涂層(2a)，環(huán)狀槽內(nèi)壁的下部帶有靜子部件下層封嚴(yán)涂層(2b)。2.按照權(quán)利要求1所述的等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述的轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒(Ia)的篦齒間等距離布置。3.按照權(quán)利要求1所述的等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述的轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒(Ib)的篦齒間等距離布置。4.按照權(quán)利要求1所述的等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述的靜子部件上層封嚴(yán)涂層(2a)和靜子部件下層封嚴(yán)涂層(2b)的厚度均為0.1?0.5mm之間。
【專利摘要】一種等封嚴(yán)間隙雙層篦齒封嚴(yán)結(jié)構(gòu)，包括轉(zhuǎn)子部件，轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒，轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒，靜子部件，靜子部件上層封嚴(yán)涂層，靜子部件下層封嚴(yán)涂層；其中：轉(zhuǎn)子部件的側(cè)面帶有環(huán)狀的轉(zhuǎn)子部件上層封嚴(yán)篦齒和轉(zhuǎn)子部件下層封嚴(yán)篦齒，靜子部件帶有環(huán)狀槽，環(huán)狀槽內(nèi)壁的上部帶有靜子部件上層封嚴(yán)涂層，環(huán)狀槽內(nèi)壁的下部帶有靜子部件下層封嚴(yán)涂層。本實(shí)用新型優(yōu)點(diǎn)：當(dāng)發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速上升時(shí)，轉(zhuǎn)子部件繞著發(fā)動(dòng)機(jī)軸線旋轉(zhuǎn)，徑向變形量發(fā)生變化，靜子部件保持不變，使上層封嚴(yán)間隙減小，下層封嚴(yán)間隙增大，封嚴(yán)間隙保持不變；當(dāng)發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速下降時(shí)，轉(zhuǎn)子部件同樣繞著發(fā)動(dòng)機(jī)軸線旋轉(zhuǎn)，徑向變形量發(fā)生變化，封嚴(yán)間隙仍保持不變。
【IPC分類】F02C7/28, F01D11/02
【公開號(hào)】CN204921053
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520320525
【發(fā)明人】張巖, 印雪梅, 韓方軍, 張新強(qiáng), 馬曉健
【申請(qǐng)人】中國航空工業(yè)集團(tuán)公司沈陽發(fā)動(dòng)機(jī)設(shè)計(jì)研究所
【公開日】2015年12月30日
【申請(qǐng)日】2015年5月18日