一種針對(duì)制鞋生產(chǎn)車間的有機(jī)廢氣凈化裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及環(huán)保設(shè)備設(shè)計(jì)領(lǐng)域，主要涉及一種有機(jī)廢氣凈化裝置及凈化方 法，尤其是針對(duì)制鞋生產(chǎn)車間烤箱產(chǎn)生的有機(jī)廢氣。
【背景技術(shù)】
[0002] 制鞋的生產(chǎn)車間會(huì)設(shè)置有烤箱，在烤箱的工作過程會(huì)中產(chǎn)生一定量的有機(jī)廢氣， 其主要污染物為苯、甲苯、二甲苯等"三苯類"等，其特點(diǎn)為無色、極具刺激性，隨空氣的流動(dòng) 而擴(kuò)散于大氣中，能通過人體呼吸或直接作用人體，對(duì)人體的呼吸系統(tǒng)、血液、心肺、肝臟、 黏膜、眼睛、神經(jīng)等造成傷害，也會(huì)通過皮膚直接傷害人們。現(xiàn)有的生產(chǎn)車間雖配置了排氣 設(shè)施，但不能對(duì)廢氣實(shí)現(xiàn)有效處理。
[0003] 因此，現(xiàn)有技術(shù)還有待于改進(jìn)和發(fā)展。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004] 鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種針對(duì)制鞋生產(chǎn)車間的 有機(jī)廢氣凈化裝置，針對(duì)制鞋生產(chǎn)車間烤箱產(chǎn)生的有機(jī)廢氣，設(shè)計(jì)出適合用于制鞋生產(chǎn)車 間的有機(jī)廢氣凈化裝置，利用低溫等離子體+UV光解的凈化作用，對(duì)有機(jī)物進(jìn)行降解處理， 旨在解決現(xiàn)有制鞋生產(chǎn)車間烤箱工作過程中產(chǎn)生有機(jī)廢氣的問題。
[0005] 本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下：
[0006] -種針對(duì)制鞋生產(chǎn)車間的有機(jī)廢氣凈化裝置，其中，所述有機(jī)廢氣凈化裝置是用 于處理刷膠烘干工序時(shí)烤箱所產(chǎn)生的有機(jī)廢氣，包括集氣罩、廢氣收集風(fēng)管、低溫等離子處 理器、UV光解凈化器、離心通風(fēng)機(jī)、和排氣管道；
[0007] 所述集氣罩設(shè)置于烤箱的上方，所述集氣罩通過所述廢氣收集風(fēng)管與低溫等離子 的進(jìn)風(fēng)端相連;所述低溫等離子處理器與UV光解凈化器相連;所述UV光解凈化器與離心通 風(fēng)機(jī)的進(jìn)風(fēng)端相連，離心通風(fēng)機(jī)的出風(fēng)端與排氣管道相連。
[0008] 所述的有機(jī)廢氣凈化裝置，其中，集氣罩距離烤箱頂面的高度為0.1-0.3m。
[0009] 所述的有機(jī)廢氣凈化裝置，其中，集氣罩的擴(kuò)張角a不大于60°。
[0010] 所述的有機(jī)廢氣凈化裝置，其中，集氣罩的長設(shè)置為900mm，寬設(shè)置為500mm，高設(shè) 置為500mm;
[0011] 所述廢氣收集風(fēng)管分為主風(fēng)管和支管，支管的兩端分別與主風(fēng)管集氣罩相連;主 風(fēng)管的直徑尺寸設(shè)置為400mm，支管的直徑尺寸設(shè)置為300mm。
[0012] 所述的有機(jī)廢氣凈化裝置，其中，集氣罩采用SO. 8mm鍍鋅板制成，廢氣收集風(fēng)管采 用5 〇. 6mm鍍鋅板制成。
[0013]所述的有機(jī)廢氣凈化裝置，其中，集氣罩設(shè)置為2個(gè);離心通風(fēng)機(jī)設(shè)置為1臺(tái)，處理 風(fēng)量為8000m3/h;低溫等離子處理器13和UV光解凈化器14設(shè)置在同一反應(yīng)器內(nèi)，數(shù)量為1 臺(tái)，內(nèi)含8個(gè)等離子場和8個(gè)UV高能光管，處理風(fēng)量為8000m 3/h。
[0014]有益效果:本實(shí)用新型所提供一種針對(duì)制鞋生產(chǎn)車間的有機(jī)廢氣凈化裝置，是針 對(duì)制鞋生產(chǎn)車間在刷膠烘干工序時(shí)烤箱所產(chǎn)生的有機(jī)廢氣的特點(diǎn)，設(shè)計(jì)出適合用于制鞋生 產(chǎn)車間的有機(jī)廢氣凈化裝置，采用多種處理方案結(jié)合的處理方案，即采用低溫等離子體+UV 光解處理的方案，確保廢氣處理后達(dá)標(biāo)排放。該工藝去除效率高，運(yùn)行成本相對(duì)較低，操作 方便，綜合利用方便。而且，設(shè)計(jì)及選型遵循"先進(jìn)實(shí)用，經(jīng)濟(jì)合理"的原則；處理系統(tǒng)的布 置，運(yùn)行不影響生產(chǎn)設(shè)備的運(yùn)行及崗位工人的操作;處理工藝經(jīng)濟(jì)實(shí)用，投資省，占地少;凈 化效率高，無二次污染;系統(tǒng)運(yùn)行穩(wěn)定，工藝成熟可靠，操作維護(hù)方便。
【附圖說明】
[0015] 圖1為本實(shí)用新型有機(jī)廢氣凈化裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016] 圖2為本實(shí)用新型有機(jī)廢氣凈化裝置安裝在制鞋車間的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0017] 本實(shí)用新型提供一種針對(duì)制鞋生產(chǎn)車間的有機(jī)廢氣凈化裝置，為使本實(shí)用新型的 目的、技術(shù)方案及效果更加清楚、明確，以下對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處 所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0018] 本實(shí)用新型所提供一種針對(duì)制鞋生產(chǎn)車間的有機(jī)廢氣凈化裝置，是針對(duì)制鞋生產(chǎn) 車間在刷膠烘干工序時(shí)烤箱所產(chǎn)生的有機(jī)廢氣的特點(diǎn)，設(shè)計(jì)出適合用于制鞋生產(chǎn)車間的有 機(jī)廢氣凈化裝置。經(jīng)過檢測，在刷膠烘干工序時(shí)烤箱產(chǎn)生的有機(jī)廢氣主要成分為膠粒顆粒 物和苯、甲苯、二甲苯等，其特點(diǎn)為無色、極具刺激性，隨空氣的流動(dòng)而擴(kuò)散于大氣中。本實(shí) 用新型所提供一種有機(jī)廢氣凈化裝置，其設(shè)計(jì)原理為，先收集有機(jī)廢氣，再利用低溫等離子 體+UV光解的凈化作用，對(duì)有機(jī)物進(jìn)行降解處理。
[0019] 具體地，所述有機(jī)廢氣凈化裝置，結(jié)合圖1和圖2所示，包括依次設(shè)置的集氣罩11、 廢氣收集風(fēng)管(包括支管121和主管122)、低溫等離子處理器13、UV光解凈化器14、離心通風(fēng) 機(jī)15、和排氣管道16;
[0020] 所述集氣罩11設(shè)置于烤箱的上方，所述集氣罩11通過所述廢氣收集風(fēng)管與低溫等 離子13的進(jìn)風(fēng)端相連;所述低溫等離子處理器13與UV光解凈化器14相連;所述UV光解凈化 器14與離心風(fēng)機(jī)15的進(jìn)風(fēng)端相連，離心通風(fēng)機(jī)15的出風(fēng)端與排氣管道16相連。
[0021] 由于污染源是烤箱，屬于點(diǎn)污染源，在本實(shí)用新型方案中選用在烤箱上方設(shè)置集 氣罩11的方式，對(duì)污染的廢氣進(jìn)行收集。為避免橫向氣流干擾，集氣罩11距離烤箱頂面的高 度為0.1-0.3m。為保證罩口吸氣速度均勻，集氣罩11的擴(kuò)張角a不應(yīng)大于60°。
[0022]由于吸氣流易受橫向氣流的影響，所以設(shè)置集氣罩11的長寬高根據(jù)烤箱尺寸、廢 氣處理量、廢氣排放量進(jìn)行設(shè)置，集氣罩11的長寬盡量與烤箱頂面相適配，將烤箱產(chǎn)生的有 機(jī)廢氣在隨氣流擴(kuò)散前盡可能地收集起來。集氣罩11的罩的高度根據(jù)離心機(jī)的風(fēng)速和有機(jī) 廢氣的排放量設(shè)置，防止有機(jī)廢氣不能地有效地收集。
[0023]刷膠烘干工序所產(chǎn)生的有機(jī)廢氣經(jīng)集氣罩11收集后，進(jìn)入低溫等離子處理器13、 UV光解凈化器14,在高能電子的作用下，使異味分子受激發(fā)，帶電粒子或分子間的化學(xué)鍵被 打斷，同時(shí)空氣中的水和氧氣在高能電子轟擊下也會(huì)產(chǎn)生0H自由基、活性氧等強(qiáng)氧化性物 質(zhì)，這些強(qiáng)氧化性物質(zhì)也會(huì)與異味分子反應(yīng)，使其分解。凈化后的氣體經(jīng)排氣筒高空排放。 該設(shè)備具有如下特性：
[0024] 1.具有一次性凈化效率高，能同時(shí)凈化多種污染物。
[0025] 2.防火性能采用開關(guān)，電源，電路三重自動(dòng)保護(hù)。
[0026] 3.設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)緊湊，工藝成熟。
[0027] 4.設(shè)備投資少，運(yùn)行成本低。
[0028] 5.安全穩(wěn)定，維護(hù)方便，使用壽命長。
[0029] 6.凈化效率高，可達(dá)90%，無二次污染。
[0030] 低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放 電電壓時(shí)，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中 雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。 低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和有機(jī)廢氣中的污染物 作用，使污染物分子(苯、甲苯、二甲苯等)在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反 應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。（注：低溫等離子體相對(duì)于高溫等離子體而言，屬于常溫運(yùn) 行。）
[0031] 所述低溫等離子處理器13中包含的DDBD等離子體反應(yīng)區(qū)，富含極高的物質(zhì)，如高 能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，有機(jī)廢氣中（苯、甲苯、二甲苯等)可與這些有較高能 量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物質(zhì)在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到 講解污染物的目的。與傳統(tǒng)的電暈放電形勢產(chǎn)生的低溫等離子技術(shù)相比較，DDBD等離子體 技術(shù)放電密度是電暈放電的1500倍。
[0032] UV光解凈化器14是一種新型尚科技環(huán)保設(shè)備，