一種粗苯加氫生產(chǎn)工藝中用的加熱裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于加熱設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，涉及到一種粗苯加氫生產(chǎn)工藝中用的加熱裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在粗苯加氫生產(chǎn)工藝過程中，需要利用加熱裝置對(duì)反應(yīng)釜內(nèi)的液體進(jìn)行加熱，現(xiàn)在的加熱方式為整體加熱或底部加熱，加熱速度慢，加熱不均勻，反應(yīng)釜內(nèi)靠近液面部分液體的溫度和靠近反應(yīng)釜底部液體的溫度不一致，影響產(chǎn)品的質(zhì)量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型為了克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，設(shè)計(jì)了一種粗苯加氫生產(chǎn)工藝中用的加熱裝置，加熱速度快，加熱均勻，節(jié)省能源，提高了產(chǎn)品的質(zhì)量。
[0004]本實(shí)用新型所采取的具體技術(shù)方案是:一種粗苯加氫生產(chǎn)工藝中用的加熱裝置，包括加熱單元，加熱單元設(shè)置在釜體的外側(cè)壁上，關(guān)鍵是:所述的加熱單元包括上部加熱單元、中部加熱單元和下部加熱單元，上部加熱單元位于爸體的上部，中部加熱單元位于Il體的中部，下部加熱單元位于釜體的下部，上部加熱單元加熱區(qū)域的高度和下部加熱單元加熱區(qū)域的高度都小于中部加熱單元加熱區(qū)域的高度。
[0005]所述的釜體內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有多個(gè)噴嘴，增設(shè)氣源，噴嘴的進(jìn)氣口與氣源的出氣口連通，上部噴嘴的出氣口端朝向下方傾斜設(shè)置，下部噴嘴的出氣口端朝向上方傾斜設(shè)置。
[0006]所述的氣源的出氣口處設(shè)置有閥門，每個(gè)噴嘴的進(jìn)氣口處也都設(shè)置有閥門。
[0007]所述的上部加熱單元加熱區(qū)域的高度與中部加熱單元加熱區(qū)域的高度之比為1:(1.5 ?2)0
[0008]所述的下部加熱單元加熱區(qū)域的高度與中部加熱單元加熱區(qū)域的高度之比也是1:(1.5?2)0
[0009]本實(shí)用新型的有益效果是:加熱單元由上部加熱單元、中部加熱單元和下部加熱單元三部分組成，三個(gè)加熱單元分別對(duì)反應(yīng)釜內(nèi)上部、中部和下部的液體進(jìn)行加熱，這種三部分同時(shí)加熱的方式，加熱速度快，加熱更加均勻，上部加熱單元加熱區(qū)域的高度和下部加熱單元加熱區(qū)域的高度都小于中部加熱單元加熱區(qū)域的高度，中間部分的熱量可以向上方和下方傳遞，進(jìn)一步提尚了加熱效率，提尚了廣品質(zhì)量。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]附圖中，I代表釜體，2代表上部加熱單元，3代表中部加熱單元，4代表下部加熱單元，5代表噴嘴。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做詳細(xì)說明:
[0013]具體實(shí)施例，如圖1所示，一種粗苯加氫生產(chǎn)工藝中用的加熱裝置，包括加熱單元，加熱單元設(shè)置在爸體I的外側(cè)壁上，加熱單元包括上部加熱單元2、中部加熱單元3和下部加熱單元4，每個(gè)加熱單元都圍繞在Il體I的外壁上，上部加熱單元2位于爸體I的上部，中部加熱單元3位于釜體I的中部，下部加熱單元4位于釜體I的下部，上部加熱單元2加熱區(qū)域的高度和下部加熱單元4加熱區(qū)域的高度都小于中部加熱單元3加熱區(qū)域的高度，上部加熱單元2加熱區(qū)域的高度與中部加熱單元3加熱區(qū)域的高度之比為1: (1.5?2)，下部加熱單元4加熱區(qū)域的高度與中部加熱單元3加熱區(qū)域的高度之比也是1: (1.5?2)。
[0014]作為對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，釜體I內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有多個(gè)噴嘴5，增設(shè)氣源，噴嘴5的進(jìn)氣口與氣源的出氣口連通，上部噴嘴5的出氣口端朝向下方傾斜設(shè)置，下部噴嘴5的出氣口端朝向上方傾斜設(shè)置，在噴嘴5的作用下，反應(yīng)釜內(nèi)的液體形成交叉的渦流形，可以加快熱量的傳遞，進(jìn)一步提高傳熱效率。
[0015]作為對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，氣源的出氣口處設(shè)置有閥門，每個(gè)噴嘴5的進(jìn)氣口處也都設(shè)置有閥門?？梢愿鶕?jù)反應(yīng)釜內(nèi)液體的多少，適當(dāng)?shù)卦黾踊驕p小噴嘴5開啟的數(shù)量及每個(gè)噴嘴5的開口大小。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種粗苯加氫生產(chǎn)工藝中用的加熱裝置，包括加熱單元，加熱單元設(shè)置在釜體(I)的外側(cè)壁上，其特征在于:所述的加熱單元包括上部加熱單元(2)、中部加熱單元(3)和下部加熱單元(4)，上部加熱單元(2)位于Il體(I)的上部，中部加熱單元(3)位于!!體(I)的中部，下部加熱單元(4)位于釜體(I)的下部，上部加熱單元(2)加熱區(qū)域的高度和下部加熱單元(4)加熱區(qū)域的高度都小于中部加熱單元(3)加熱區(qū)域的高度。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種粗苯加氫生產(chǎn)工藝中用的加熱裝置，其特征在于:所述的釜體(I)內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有多個(gè)噴嘴(5)，增設(shè)氣源，噴嘴(5)的進(jìn)氣口與氣源的出氣口連通，上部噴嘴(5)的出氣口端朝向下方傾斜設(shè)置，下部噴嘴(5)的出氣口端朝向上方傾斜設(shè)置。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種粗苯加氫生產(chǎn)工藝中用的加熱裝置，其特征在于:所述的氣源的出氣口處設(shè)置有閥門，每個(gè)噴嘴(5)的進(jìn)氣口處也都設(shè)置有閥門。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種粗苯加氫生產(chǎn)工藝中用的加熱裝置，其特征在于:所述的上部加熱單元(2)加熱區(qū)域的高度與中部加熱單元(3)加熱區(qū)域的高度之比為1:(1.5?2)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種粗苯加氫生產(chǎn)工藝中用的加熱裝置，其特征在于:所述的下部加熱單元(4)加熱區(qū)域的高度與中部加熱單元(3)加熱區(qū)域的高度之比也是1:(1.5?2)0
【專利摘要】一種粗苯加氫生產(chǎn)工藝中用的加熱裝置，包括加熱單元，加熱單元設(shè)置在釜體的外側(cè)壁上，關(guān)鍵是：所述的加熱單元包括上部加熱單元、中部加熱單元和下部加熱單元，上部加熱單元位于釜體的上部，中部加熱單元位于釜體的中部，下部加熱單元位于釜體的下部，上部加熱單元加熱區(qū)域的高度和下部加熱單元加熱區(qū)域的高度都小于中部加熱單元加熱區(qū)域的高度。三個(gè)加熱單元分別對(duì)反應(yīng)釜內(nèi)上部、中部和下部的液體進(jìn)行加熱，加熱速度快，加熱均勻，節(jié)省能源，提高了產(chǎn)品的質(zhì)量。
【IPC分類】B01J19/26
【公開號(hào)】CN205216854
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201521080764
【發(fā)明人】崔俊良, 胡紅旗, 胡紅振
【申請(qǐng)人】河北榮特化工有限公司
【公開日】2016年5月11日
【申請(qǐng)日】2015年12月22日