一種印染污水的深度處理設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及污水處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種印染污水的深度處理設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]印染廢水是加工棉、麻、化學纖維及其混紡產(chǎn)品為主的印染廠排出的廢水，具有水量大、有機污染物含量高、堿性大、水質(zhì)變化大等特點，屬難處理的工業(yè)廢水之一，需要對廢水進行深度處理后才能回用。目前，針對印染廢水及含印染廢水的城鎮(zhèn)廢水的處理，研發(fā)過混凝、過濾、吸附、化學氧化、膜組件及生物處理等工藝，但以生物法為核心的污水處理工藝證明是一種經(jīng)濟有效且應(yīng)用較廣的處理方法。國家發(fā)明專利CN 104355478 A于2015年2月18日公開了一種印染污水處理系統(tǒng)，，經(jīng)過處理后的印染污水C0D濃度在50-60mg/L之間，PH6-9之間，色度16-32之間，提高回用水的水質(zhì)，滿足印染水質(zhì)的要求，降低廢水的排放量和減少新鮮水的用量，節(jié)約資源。但是該發(fā)明專利結(jié)構(gòu)復雜，操作有一定難度，成本較尚ο
【實用新型內(nèi)容】
[0003]為了克服現(xiàn)有混床再生噴射器的不足，本實用新型提供一種印染污水的深度處理設(shè)備，處理效果好，操作管理簡便，運行穩(wěn)定性好。
[0004]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下的技術(shù)方案:一種印染污水的深度處理設(shè)備，包括沿著處理時水的流向依次設(shè)置的前格柵過濾裝置、接觸氧化池和膜生物反應(yīng)池，其特征在于:還包括對所述接觸氧化池與所述膜生物反應(yīng)池中所產(chǎn)生的污泥進行處理回收的中間處理池，所述中間處理池包括污泥濃縮池和與所述污泥濃縮池相連的回流結(jié)構(gòu)，所述回流結(jié)構(gòu)包括將部分所述污泥濃縮池的上清液回流至所述前格柵過濾裝置進水端的第一回流管和將部分所述污泥濃縮池的上清液回流至所述膜生物反應(yīng)池進水端的第二回流管。
[0005]作為優(yōu)選，還包括與所述接觸氧化池和所述膜生物反應(yīng)池相連通的通氧裝置。
[0006]作為優(yōu)選，所述通氧裝置包括與所述接觸氧化池和所述膜生物反應(yīng)池相連的微納米氣泡釋放器、與所述微納米氣泡釋放器通過連通管相連的溶氣水罐和與所述溶氣水罐連接的氣體自吸結(jié)構(gòu)。
[0007]作為優(yōu)選，所述接觸氧化池包括進水區(qū)和出水區(qū)，所述進水區(qū)和所述出水區(qū)均設(shè)有填料結(jié)構(gòu)和供氧結(jié)構(gòu)，所述填料結(jié)構(gòu)包括支撐層和設(shè)置在所述支撐成上方的載體層，所述深度處理池中位于所述支撐層的下方形成沉淀區(qū)。
[0008]作為優(yōu)選，所述出水區(qū)的所述載體層的密度大于所述進水區(qū)的載體層的密度。
[0009]作為優(yōu)選，所述出水區(qū)與所述進水區(qū)交替設(shè)置。
[0010]作為優(yōu)選，所述沉淀區(qū)位于所述進水區(qū)的下方，所述出水區(qū)的下方設(shè)有過渡區(qū)，所述沉淀區(qū)與所述過渡區(qū)之間設(shè)有分隔填料結(jié)構(gòu)。
[0011]作為優(yōu)選，所述分隔填料結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在分別設(shè)置在兩外側(cè)的分隔支撐層、靠近所述沉淀區(qū)一側(cè)的第一濾料層和靠近所述過渡區(qū)一側(cè)的第二濾料層，所述第一、第二濾料層設(shè)置在所述分隔支撐層之間。
[0012]作為優(yōu)選，所述污泥濃縮池依次連接有污泥脫水裝置和污泥炭化裝置。
[0013]作為優(yōu)選，所述膜生物反應(yīng)池后方設(shè)置有消毒池。
[0014]通過實施上述技術(shù)方案，本實用新型具有如下的有益效果:本實用新型對污水處理效果好，操作管理簡便，運行穩(wěn)定性好。
【附圖說明】
[0015]附圖1為本實用新型一實施例的示意圖
[0016]附圖2為本實用新型中接觸氧化池的示意圖。
【具體實施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖和實施例，對本實用新型作進一步的說明。
[0018]實施例1:
[0019]—種印染污水的深度處理設(shè)備，如附圖1所示，包括沿著處理時水的流向依次設(shè)置的前格柵過濾裝置11、接觸氧化池12和膜生物反應(yīng)池13，還包括對接觸氧化池12與膜生物反應(yīng)池13中所產(chǎn)生的污泥進行處理回收的中間處理池14。中間處理池14包括污泥濃縮池141和與其相連的回流結(jié)構(gòu)142。污泥濃縮池141依次連接有污泥脫水裝置16和污泥炭化裝置17，回流結(jié)構(gòu)142包括將部分污泥濃縮池141的上清液回流至前格柵過濾裝置11進水端的第一回流管和回流至膜生物反應(yīng)池13進水端的第二回流管。接觸氧化池12和膜生物反應(yīng)池13通過通氧裝置15相連通，通氧裝置15包括與接觸氧化池12和膜生物反應(yīng)池13相連的微納米氣泡釋放器151、與微納米氣泡釋放器151通過連通管相連的溶氣水罐152和與溶氣水罐152連接的氣體自吸結(jié)構(gòu)153。接觸氧化池12包括交替設(shè)置的進水區(qū)121和出水區(qū)122，兩者均設(shè)有填料結(jié)構(gòu)1211和供氧結(jié)構(gòu)1212，填料結(jié)構(gòu)1211包括支撐層和設(shè)置在支撐成上方的載體層，接觸氧化池12中位于支撐層的下方形成沉淀區(qū)123。出水區(qū)122的載體層的密度大于進水區(qū)121的載體層的密度。沉淀區(qū)123位于進水區(qū)121的下方，出水區(qū)122的下方設(shè)有過渡區(qū)124，沉淀區(qū)123與過渡區(qū)124之間設(shè)有分隔填料結(jié)構(gòu)125。分隔填料125結(jié)構(gòu)包括分別設(shè)置在兩外側(cè)的分隔支撐層、靠近沉淀區(qū)一側(cè)的第一濾料層和靠近過渡區(qū)一側(cè)的第二濾料層，第一、第二濾料層設(shè)置在分隔支撐層之間。膜生物反應(yīng)池13后方設(shè)置有消毒池18。
【主權(quán)項】
1.一種印染污水的深度處理設(shè)備，包括沿著處理時水的流向依次設(shè)置的前格柵過濾裝置(11 )、接觸氧化池(12)和膜生物反應(yīng)池(13)，其特征在于:還包括對所述接觸氧化池(12)與所述膜生物反應(yīng)池(13)中所產(chǎn)生的污泥進行處理回收的中間處理池(14)，所述中間處理池(14)包括污泥濃縮池(141)和與所述污泥濃縮池(141)相連的回流結(jié)構(gòu)(142)，所述回流結(jié)構(gòu)(142)包括將部分所述污泥濃縮池(141)的上清液回流至所述前格柵過濾裝置(11)進水端的第一回流管和將部分所述污泥濃縮池(141)的上清液回流至所述膜生物反應(yīng)池(13)進水端的第二回流管。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種印染污水的深度處理設(shè)備，其特征在于:還包括與所述接觸氧化池(12)和所述膜生物反應(yīng)池(13)相連通的通氧裝置(15)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種印染污水的深度處理設(shè)備，其特征在于:所述通氧裝置(15)包括與所述接觸氧化池(12)和所述膜生物反應(yīng)池(13)相連的微納米氣泡釋放器(151)、與所述微納米氣泡釋放器(151)通過連通管相連的溶氣水罐(152)和與所述溶氣水罐(152 )連接的氣體自吸結(jié)構(gòu)(153)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種印染污水的深度處理設(shè)備，其特征在于:所述接觸氧化池(12)包括進水區(qū)(121)和出水區(qū)(122)，所述進水區(qū)(121)和所述出水區(qū)(122)均設(shè)有填料結(jié)構(gòu)(1211)和供氧結(jié)構(gòu)(1212)，所述填料結(jié)構(gòu)(1211)包括支撐層和設(shè)置在所述支撐成上方的載體層，所述接觸氧化池(12)中位于所述支撐層的下方形成沉淀區(qū)(123)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述一種印染污水的深度處理設(shè)備，其特征在于:所述出水區(qū)(122)的所述載體層的密度大于所述進水區(qū)(121)的載體層的密度。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述一種印染污水的深度處理設(shè)備，其特征在于:所述出水區(qū)(122)與所述進水區(qū)(121)交替設(shè)置。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述一種印染污水的深度處理設(shè)備，其特征在于:所述沉淀區(qū)(123)位于所述進水區(qū)(121)的下方，所述出水區(qū)(122)的下方設(shè)有過渡區(qū)(124)，所述沉淀區(qū)(123)與所述過渡區(qū)(124)之間設(shè)有分隔填料結(jié)構(gòu)(125)。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述一種印染污水的深度處理設(shè)備，其特征在于:所述分隔填料結(jié)構(gòu)(125)包括設(shè)置在分別設(shè)置在兩外側(cè)的分隔支撐層、靠近所述沉淀區(qū)一側(cè)的第一濾料層和靠近所述過渡區(qū)一側(cè)的第二濾料層，所述第一、第二濾料層設(shè)置在所述分隔支撐層之間。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種印染污水的深度處理設(shè)備，其特征在于:所述污泥濃縮池(141)依次連接有污泥脫水裝置(16 )和污泥炭化裝置(17 )。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種印染污水的深度處理設(shè)備，其特征在于:所述膜生物反應(yīng)池(13)后方設(shè)置有消毒池(18)。
【專利摘要】本實用新型涉及一種印染污水的深度處理設(shè)備，包括沿著處理時水的流向依次設(shè)置的前格柵過濾裝置、接觸氧化池和膜生物反應(yīng)池，其特征在于：還包括對所述接觸氧化池與所述膜生物反應(yīng)池中所產(chǎn)生的污泥進行處理回收的中間處理池，所述中間處理池包括污泥濃縮池和與所述污泥濃縮池相連的回流結(jié)構(gòu)，所述回流結(jié)構(gòu)包括將部分所述污泥濃縮池的上清液回流至所述前格柵過濾裝置進水端的第一回流管和將部分所述污泥濃縮池的上清液回流至所述膜生物反應(yīng)池進水端的第二回流管。本實用新型對污水處理效果好，操作管理簡便，運行穩(wěn)定性好。
【IPC分類】C02F9/14, C02F103/30
【公開號】CN205035218
【申請?zhí)枴緾N201520642019
【發(fā)明人】唐建強
【申請人】浙江華強環(huán)境科技有限公司
【公開日】2016年2月17日
【申請日】2015年8月25日