一種用于青霉素廢水深度處理的微電解設備的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種用于青霉素廢水深度處理的微電解設備，其包括筒體（4）、出水排氣裝置（1）和進水進氣裝置（3），出水排氣裝置（1）設在筒體（4）頂部，進水進氣裝置（3）設在筒體（4）底部。該微電解設備可解決青霉素廢水治理的難題，經(jīng)過實際生產(chǎn)驗證，運行平穩(wěn)，設備制造成本相對較低，能夠?qū)⒔?jīng)過CASS處理后青霉素廢水COD去除率達到50%，排水COD符合國家標準，廢水處理成本相對較低。
【專利說明】一種用于青霉素廢水深度處理的微電解設備
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及青霉素廢水的處理裝置，更確切地說是涉及一種用于青霉素廢水深度處理的微電解設備。
【背景技術】
[0002]青霉素是臨床上最常用的抗菌藥物，對人類的健康做出了巨大貢獻。然而青霉素生產(chǎn)廢水治理目前依然是世界性難題，其中主要表現(xiàn)為排放量大、有機物含量高、含鹽量高、含難降解化合物高、治理難度大等，通常采用的方案是化學氧化工藝，如氯系催化氧化、臭氧氧化、雙氧水氧化等。生化工藝有多種形式，如厭氧、好氧、SBR、A/0、A/A/0、USBR、CASS、應用高效菌種等。但是這些方法存在處理效果較差或者費用昂貴的問題。
[0003]微電解技術是利用金屬腐蝕的原理，形成原電池對廢水進行處理的方法，目前，尚無公開報道治理青霉素廢水使用該方法。
[0004]有關微電解在其它工業(yè)廢水治理中的技術直接應用于青霉素廢水深度治理則存在以下問題:反應器設計不合理，反應過程pH不能正常維持，反應不能夠正常進行，COD去除率難以達到要求；使用微電解填料強度不夠，填料消耗過快；填料比表面積過低，填料使用量大；由于廢水中懸浮物和膠體的存在導致填料板結(jié)，處理效率降低；間歇操作，不利于廢水處理的連續(xù)運行，等等。
[0005]因此，開發(fā)一種適用于青霉素廢水深度治理的微電解設備，具有重要意義。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]針對現(xiàn)有處理青霉素生產(chǎn)廢水處理工藝的不足，本發(fā)明提供了一種用于青霉素廢水深度處理的微電解設備。
[0007]本發(fā)明所述技術問題是由以下技術方案實現(xiàn)的。
[0008]一種用于青霉素廢水深度處理的微電解設備，其包括筒體、出水排氣裝置和進水進氣裝置，其特征在于，出水排氣裝置設在筒體頂部，進水進氣裝置設在筒體底部。
[0009]上述用于青霉素廢水深度處理的微電解設備，所述出水排氣裝置包括環(huán)形溢流堰集水槽、出水口、排氣口與填料補加口 ；所述環(huán)形溢流堰集水槽設在筒體內(nèi)；所述出水口設在筒體外側(cè)，并且其下邊緣與環(huán)形溢流堰集水槽的底部邊緣處于同一水平線上；所述排氣口設在筒體外側(cè)，并且其下邊緣高于環(huán)形溢流堰集水槽的頂部邊緣；所述填料補加口設在筒體外頂部。
[0010]上述用于青霉素廢水深度處理的微電解設備，所述進水進氣裝置包括進氣口、進水口、空氣分布器、廢水分布器、填料支撐隔板、排空口，立柱；所述進氣口、進水口、排空口均設在筒體外側(cè)，并且三者在筒體垂直方向的水平高度依次降低；所述空氣分布器連接進氣口 ；所述廢水分布器連接進水口 ；所述填料支撐隔板設在進氣口上部；所述空氣分布器、廢水分布器、填料支撐隔板三者下方設有立柱。
[0011]優(yōu)選的，上述用于青霉素廢水深度處理的微電解設備，所述空氣分布器和廢水分布器的支管形狀為“豐”字型。所述空氣分布器的各支管正下方均勻設置曝氣孔。所述廢水分布器各支管斜向下45°均勻設置進水孔。
[0012]本發(fā)明所述用于青霉素廢水深度處理的微電解設備可單獨使用，亦可1-10級串聯(lián)使用，為解決不同污水提供了不同的方案。
[0013]本發(fā)明的有益效果是:
[0014]1、本發(fā)明提供的一種用于青霉素廢水深度處理的微電解設備，可解決青霉素廢水治理的難題，經(jīng)過實際生產(chǎn)驗證，運行平穩(wěn)，設備制造成本相對較低；
[0015]2、本發(fā)明提供的一種用于青霉素廢水深度處理的微電解設備，能夠?qū)⒔?jīng)過CASS處理后青霉素廢水COD去除率達到50%，廢水處理成本相對較低。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1微電解反應器主視圖。
[0017]圖2微電解反應器右視圖。
[0018]圖3微電解反應器俯視圖。
[0019]圖4填料支撐隔板示意圖。
[0020]圖5進水進氣裝置中進水口與廢水分布器連接示意圖。
[0021 ]圖6進水進氣裝置中進氣口與空氣分布器連接示意圖。
【具體實施方式】
[0022]下面結(jié)合【具體實施方式】對本發(fā)明作進一步詳細說明。
[0023]微電解設備構(gòu)成如圖1、圖2、圖3、圖4、圖5、圖6所示，圖中各標號為:1出水排氣裝置、2微電解反應區(qū)域也即筒體4的一部分、3進水進氣裝置、4筒體、5填料支撐隔板、6空氣分布器、7廢水分布器、8環(huán)形溢流堰集水槽、9出水口、10排氣口、11排空口、12填料補加口、13進氣口、14進水口、15立柱、16曝氣孔、17進水孔。
[0024]其中，出水排氣裝置I設在筒體4頂部，進水進氣裝置3設在筒體4底部。
[0025]廢水、空氣從進水進氣裝置3進入微電解設備。
[0026]進水進氣裝置3包括進氣口 13、進水口 14、空氣分布器6、廢水分布器7、填料支撐隔板5、排空口 11，立柱15 ;所述進氣口 13、進水口 14、排空口 11均設在筒體4外側(cè)，并且三者在筒體4垂直方向的水平高度依次降低；為了大大增加填料、廢水及空氣的接觸面積，提高效率，所述空氣分布器6連接進氣口 13 ;所述廢水分布器7連接進水口 14，為了便于空氣分布器6和廢水分布器7的檢修，采用聚丙烯法蘭的方式連接；所述填料支撐隔板5設在進氣口 13上部；所述空氣分布器6、廢水分布器7、填料支撐隔板5三者下方設有立柱15，用于承受填料或廢水的壓力。
[0027]空氣分布器6和廢水分布器7的支管形狀為“豐”字型。空氣分布器6的各支管正下方均勻設置曝氣孔16。為了避免出現(xiàn)堵塞的情況，廢水分布器7各支管斜向下45°均勻設置進水孔17。
[0028]出水排氣裝置I包括環(huán)形溢流堰集水槽8、出水口 9、排氣口 10與填料補加口 12 ；所述環(huán)形溢流堰集水槽8設在筒體4內(nèi)；所述出水口 9設在筒體4外側(cè)，并且其下邊緣與環(huán)形溢流堰集水槽8的底部邊緣處于同一水平線上；所述排氣口 10設在筒體4外側(cè)，并且其下邊緣高于環(huán)形溢流堰集水槽8的頂部邊緣；所述填料補加口 12設在筒體4外頂部。填料補加口 12可在反應器運行過程中根據(jù)COD去除率適當補加填料，排氣口 10既可排出空氣，保證反應器的常壓環(huán)境，也可排出懸浮于廢水表面的泡沫、絮狀物等。
[0029]為了便于設備進行檢修、更換填料，進水進氣裝置3與微電解反應區(qū)2采用法蘭的方式連接。
[0030]本發(fā)明所述用于青霉素廢水深度處理的微電解設備單獨使用或1-10級串聯(lián)使用，可用于不同污水的治理。
[0031]以上實施例的說明只是用于幫助理解本實用新型，使本領域?qū)I(yè)技術人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實用新型，并不用于限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種用于青霉素廢水深度處理的微電解設備，其包括筒體(4)、出水排氣裝置(I)和進水進氣裝置(3)，其特征在于，出水排氣裝置(I)設在筒體(4)頂部，進水進氣裝置(3)設在筒體(4)底部；所述出水排氣裝置(I)包括環(huán)形溢流堰集水槽(8)、出水口(9)、排氣口(10)與填料補加口(12);所述環(huán)形溢流堰集水槽(8)設在筒體(4)內(nèi)；所述出水口(9)設在筒體(4 )外側(cè)，并且其下邊緣與環(huán)形溢流堰集水槽(8 )的底部邊緣處于同一水平線上；所述排氣口(10)設在筒體(4)外側(cè)，并且其下邊緣高于環(huán)形溢流堰集水槽(8)的頂部邊緣；所述填料補加口(12)設在筒體(4)外頂部；所述進水進氣裝置(3)包括進氣口(13)、進水口(14)、空氣分布器(6)、廢水分布器(7)、填料支撐隔板(5)、排空口(11)，立柱(15);所述進氣口(13)、進水口(14)、排空口(11)均設在筒體(4)外側(cè)，并且三者在筒體(4)垂直方向的水平高度依次降低；所述空氣分布器(6)連接進氣口( 13);所述廢水分布器(7)連接進水口(14);所述填料支撐隔板(5)設在進氣口(13)上部；所述空氣分布器(6)、廢水分布器(7)、填料支撐隔板(5)三者下方設有立柱(15)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于青霉素廢水深度處理的微電解設備，其特征在于，所述空氣分布器(6 )和廢水分布器(7 )的支管形狀為“豐”字型。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于青霉素廢水深度處理的微電解設備，其特征在于，所述空氣分布器(6)的各支管正下方均勻設置曝氣孔(16)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于青霉素廢水深度處理的微電解設備，其特征在于，所述廢水分布器(7 )各支管斜向下45 °均勻設置進水孔(17)。
【文檔編號】C02F1/461GK203545746SQ201320651691
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2013年10月22日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月22日
【發(fā)明者】陳學軍, 李靜, 陳順記, 吳承建, 周英壯, 李國勇, 郭軍臣, 劉巖 申請人:內(nèi)蒙古常盛制藥有限公司, 濰坊市龍安泰環(huán)保科技有限公司