專利名稱：電鍍廢水處理裝置自動控制系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種電鍍廢水處理裝置的控制系統(tǒng)，具體地說，涉及一種安裝在電鍍廢水膜處理裝置上的自動控制系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
電鍍行業(yè)在現(xiàn)今的工業(yè)社會中有著舉足輕重的地位，相應(yīng)的電鍍廢水處理裝置也隨之發(fā)展，在各種電鍍廢水處理技術(shù)此起彼伏的今天，如何提高在污水處理過程中的自動化水平成為了迫切的問題?，F(xiàn)有的電鍍污水處理裝置很多由于建廠時間較早或經(jīng)費(fèi)投入不足，大多數(shù)廠內(nèi)沒有配備自動控制系統(tǒng)，或者采用的自控系統(tǒng)自控程度比較低。因此，污水處理廠的生產(chǎn)運(yùn)行、生產(chǎn)管理都會受到不同程度的影響，嚴(yán)重時甚至?xí)绊懗鏊|(zhì)。因此急需要對這部分老的電鍍污水處理裝置自動控制系統(tǒng)進(jìn)行改造以滿足生產(chǎn)運(yùn)行的需要。采用計算機(jī)信息、 通信、自動化控制等高科技技術(shù)相結(jié)合成為電鍍污水處理自動控制系統(tǒng)發(fā)展的趨勢，基于此的PLC(可編程邏輯控制器)技術(shù)具有眾多技術(shù)無可比擬的優(yōu)勢，它以微處理器為核心， 集數(shù)據(jù)的采集、監(jiān)控、控制命令下發(fā)、信號反饋為一體，是一種新型的自動控制系統(tǒng)。它解決了現(xiàn)有自控系統(tǒng)自控程度低、多數(shù)靠人工、維護(hù)成本高、難以正常運(yùn)行的問題。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于提高電鍍廢水膜處理裝置的自控程度，使操作更加直觀、 方便，節(jié)省人工成本，提高儀表控制的準(zhǔn)確度，從而提高電鍍廢水的處理效率和整個系統(tǒng)的運(yùn)行管理水平。本實用新型的技術(shù)方案為一種電鍍廢水處理裝置自動控制系統(tǒng)，所述的系統(tǒng)包括PLC處理器，與PLC處理器相接的人機(jī)界面、信號檢測系統(tǒng)以及受PLC處理器控制的泵； 所述的信號檢測系統(tǒng)包括位于調(diào)節(jié)池內(nèi)的液位開關(guān)、位于反應(yīng)池內(nèi)的PH電極、ORP電極以及位于中和池內(nèi)的PH電極；所述的PLC處理器控制調(diào)節(jié)池內(nèi)的液位開關(guān)；所述的泵包括位于調(diào)節(jié)池和反應(yīng)池之間的提升泵、位于反應(yīng)池和儲酸槽之間的加酸泵、位于反應(yīng)池和儲堿槽之間的加堿泵，位于反應(yīng)池和氧化還原劑儲藥槽時間的氧化還原劑加藥泵。優(yōu)選的是所述的PLC處理器和反應(yīng)池內(nèi)的pH電極之間設(shè)置有pH儀表。優(yōu)選的是所述的PLC處理器和中和池內(nèi)的pH電極之間設(shè)置有pH儀表。優(yōu)選的是所述的PLC處理器和OPR電極之間設(shè)置有ORP儀表。優(yōu)選的是所述的人機(jī)界面為觸摸屏，觸摸屏內(nèi)部含有存儲器。優(yōu)選的是所述的PLC處理器裝于電控柜內(nèi)。優(yōu)選的是所述的電控柜上設(shè)置有手動、自動切換按鈕。本實用新型的有益效果為本實用新型所述的電鍍廢水處理裝置自動控制系統(tǒng)， 將反應(yīng)條件控制在最佳值附近最小的波動范圍內(nèi)，確保系統(tǒng)能夠長期穩(wěn)定安全的運(yùn)行。本實用新型優(yōu)勢在于[0014]I、系統(tǒng)由人機(jī)界面、PLC和現(xiàn)場儀表設(shè)備組成，集計算技術(shù)、控制技術(shù)、顯示技術(shù)于一體，實現(xiàn)集中監(jiān)測管理和分散控制，當(dāng)中控微機(jī)出現(xiàn)故障，PLC及現(xiàn)場各點都能獨立、穩(wěn)定的工作，從根本上提高了系統(tǒng)可靠性。2、PLC處理器直接控制現(xiàn)場設(shè)備并采集現(xiàn)場全部的模擬信號和開關(guān)信號，人機(jī)界面通過通信電纜并按照相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)協(xié)議與PLC建立通信，PLC與人機(jī)界面響應(yīng)事件時間短， 反應(yīng)速度快，不僅提高了生產(chǎn)效率，而且降低生產(chǎn)成本和人工勞動強(qiáng)度，是一種非常理想的控制組合。3、由于PLC有很強(qiáng)的可擴(kuò)展性，以后增加控制任務(wù)時，無需再增加整個PLC系統(tǒng)， 只需通過擴(kuò)展電纜連接相應(yīng)的擴(kuò)展模塊就可以實現(xiàn)，增強(qiáng)了系統(tǒng)的性價比。

圖I為本實用新型的示意圖具體實施方式
以下結(jié)合附圖說明本實用新型的具體實施方式
一種電鍍廢水處理裝置自動控制系統(tǒng)，所述的系統(tǒng)包括PLC處理器18，與PLC處理器相接的人機(jī)界面、信號檢測系統(tǒng)以及受PLC處理器18控制的泵；所述的信號檢測系統(tǒng)包括位于調(diào)節(jié)池I內(nèi)的液位開關(guān)2、位于反應(yīng)池4內(nèi)的pH電極5、0RP電極6以及位于中和池 20內(nèi)的pH電極21 ;所述的PLC處理器控制調(diào)節(jié)池I內(nèi)的液位開關(guān)2 ;所述的泵包括位于調(diào)節(jié)池I和反應(yīng)池4之間的提升泵3、位于反應(yīng)池4和儲酸槽12之間的加酸泵9、位于反應(yīng)池 4和儲堿槽13之間的加堿泵10，位于反應(yīng)池4和氧化還原劑儲藥槽14時間的氧化還原劑加藥泵11。所述的PLC處理器18和反應(yīng)池4內(nèi)的pH電極5之間設(shè)置有pH儀表7。所述的PLC處理器18和中和池20內(nèi)的pH電極21之間設(shè)置有pH儀表19。所述的PLC處理器 18和OPR電極6之間設(shè)置有ORP儀表8。所述的人機(jī)界面為觸摸屏16，觸摸屏16內(nèi)部含有存儲器。所述的PLC處理器裝于電控柜15內(nèi)。所述的電控柜15上設(shè)置有手動、自動切換按鈕17。PLC處理器18置于電控柜15中，通過電線分別連接調(diào)節(jié)池I中的液位開關(guān)2、pH 儀表7、ORP儀表8、pH儀表19以及手動/自動按鈕17 ；手動/自動按鈕17處于自動檔時，調(diào)節(jié)池I中液位上升到一定高度，液位開關(guān)2 開啟，同時PLC處理器18檢測到信號后，將指令發(fā)給提升泵3，最終實現(xiàn)進(jìn)水。調(diào)節(jié)反應(yīng)池4的pH和ORP過程中，首先在觸摸屏16上設(shè)置所需pH值，PLC處理器18檢測到該信號，與由pH電極5測得的pH實際值的反饋信號相比較，如兩個值存在差距，則經(jīng)過相應(yīng)的程序運(yùn)算，將控制信號傳輸至相應(yīng)的加酸泵9或加堿泵10并控制其開停， 以調(diào)節(jié)PH值為設(shè)定值，保證電鍍廢水中的重金屬離子達(dá)到沉淀所需的pH值。同時，在上述 PH條件下，ORP電極6測得實際ORP值后，將信號輸送至控制系統(tǒng)并在計算機(jī)上顯示，經(jīng)PLC 處理器18運(yùn)算后，將控制信號傳輸至氧化還原劑加藥泵11并控制其開停，以調(diào)節(jié)0RP，使電鍍廢水中的Cr6+等高價高毒離子還原為Cr3+低價低毒離子，使劇毒的CN-等離子氧化為無毒的C02和N2。調(diào)節(jié)出水中和池中20的pH值時，在PLC處理器18上設(shè)定要達(dá)到的pH值，與pH儀表19監(jiān)測到的出水pH比較，若存在差距，則按照反應(yīng)池4中的pH調(diào)節(jié)方法運(yùn)行指令，最終達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)。PLC處理器18在接收到觸摸屏16的信號后，與pH電極5檢測到的信號進(jìn)行比較計算，根據(jù)計算值確定在一個固定設(shè)定周期內(nèi)(如20秒)所需的加藥時間，并在此加藥時間內(nèi)控制加藥泵開啟，設(shè)定周期內(nèi)其余時間加藥泵停止。本周期結(jié)束后，繼續(xù)進(jìn)行下一周期的檢測計算，并控制加藥泵的啟停。因此，當(dāng)檢測到的信號與設(shè)定值差值較大時則在一個設(shè)定周期內(nèi)加藥泵開啟時間長，停止時間短；差值變小時則加藥泵開啟時間短，停止時間長， 從而在連續(xù)運(yùn)行時在攪拌機(jī)的攪拌下使檢測值與設(shè)定值之間的差別由大到小，呈阻尼曲線狀態(tài)不斷接近，系統(tǒng)誤差可以控制在±0. 2，以保證調(diào)節(jié)的準(zhǔn)確性。電控柜上設(shè)有手動/自動按鈕17，可以進(jìn)行人工切換，以備自動控制系統(tǒng)出現(xiàn)故障。人機(jī)交互界面上設(shè)有相應(yīng)操作指令，可以實現(xiàn)對廢水處理過程的操作、監(jiān)控、控制參數(shù)在線設(shè)置和修改、記錄、報表生成、故障報警及打印等功能，切換觸摸屏就可以直觀地了解廢水處理各現(xiàn)場控制點的各頂廢水處理工藝參數(shù)、實時工況、各工藝參數(shù)的趨勢等。以上所舉實施例僅用為方便舉例說明本實用新型，在本實用新型所述技術(shù)方案范疇，所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員所作各種簡單變形與修飾，均應(yīng)包含在以上申請專利范圍中。
權(quán)利要求1.一種電鍍廢水處理裝置自動控制系統(tǒng)，其特征在于所述的系統(tǒng)包括PLC處理器(18)，與PLC處理器相接的人機(jī)界面、信號檢測系統(tǒng)以及受PLC處理器(18)控制的泵；所述的信號檢測系統(tǒng)包括位于調(diào)節(jié)池(I)內(nèi)的液位開關(guān)(2)、位于反應(yīng)池(4)內(nèi)的pH電極(5)、 ORP電極(6)以及位于中和池(20)內(nèi)的pH電極(21);所述的PLC處理器控制調(diào)節(jié)池⑴ 內(nèi)的液位開關(guān)(2);所述的泵包括位于調(diào)節(jié)池(I)和反應(yīng)池(4)之間的提升泵(3)、位于反應(yīng)池⑷和儲酸槽(12)之間的加酸泵(9)、位于反應(yīng)池⑷和儲堿槽(13)之間的加堿泵(10)，位于反應(yīng)池(4)和氧化還原劑儲藥槽(14)時間的氧化還原劑加藥泵(11)。
2.如權(quán)利要求I所述的電鍍廢水處理裝置自動控制系統(tǒng)，其特征在于所述的PLC處理器(18)和反應(yīng)池(4)內(nèi)的pH電極(5)之間設(shè)置有pH儀表(7)。
3.如權(quán)利要求I所述的電鍍廢水處理裝置自動控制系統(tǒng)，其特征在于所述的PLC處理器(18)和中和池(20)內(nèi)的pH電極(21)之間設(shè)置有pH儀表(19)。
4.如權(quán)利要求I所述的電鍍廢水處理裝置自動控制系統(tǒng)，其特征在于所述的PLC處理器(18)和OPR電極(6)之間設(shè)置有ORP儀表(8)。
5.如權(quán)利要求I所述的電鍍廢水處理裝置自動控制系統(tǒng)，其特征在于所述的人機(jī)界面為觸摸屏(16)，觸摸屏(16)內(nèi)部含有存儲器。
6.如權(quán)利要求I所述的電鍍廢水處理裝置自動控制系統(tǒng)，其特征在于所述的PLC處理器裝于電控柜(15)內(nèi)。
7.如權(quán)利要求6所述的電鍍廢水處理裝置自動控制系統(tǒng)，其特征在于所述的電控柜(15)上設(shè)置有手動、自動切換按鈕(17)。
專利摘要本實用新型涉及一種電鍍廢水處理裝置自動控制系統(tǒng)，所述的系統(tǒng)包括PLC處理器，與PLC處理器相接的人機(jī)界面、信號檢測系統(tǒng)以及受PLC處理器控制的泵；所述的信號檢測系統(tǒng)包括位于調(diào)節(jié)池內(nèi)的液位開關(guān)、位于反應(yīng)池內(nèi)的pH電極、ORP電極以及位于中和池內(nèi)的pH電極；所述的PLC處理器控制調(diào)節(jié)池內(nèi)的液位開關(guān)；所述的泵包括位于調(diào)節(jié)池和反應(yīng)池之間的提升泵、位于反應(yīng)池和儲酸槽之間的加酸泵、位于反應(yīng)池和儲堿槽之間的加堿泵，位于反應(yīng)池和氧化還原劑儲藥槽時間的氧化還原劑加藥泵。本實用新型所述的電鍍廢水處理裝置自動控制系統(tǒng)，將反應(yīng)條件控制在最佳值附近最小的波動范圍內(nèi)，確保系統(tǒng)能夠長期穩(wěn)定安全的運(yùn)行。
文檔編號C02F103/16GK202346875SQ20112052646
公開日2012年7月25日 申請日期2011年12月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月16日
發(fā)明者張文義, 李高, 汪永財, 王復(fù)濤, 王永軍, 祝國成, 邵立強(qiáng) 申請人:青島水清木華環(huán)境工程有限公司