專利名稱：一種加熱爐體的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及加熱爐體，尤其涉及一種可達到均勻加熱且可避免腔體溫度過聞的加熱爐體，進而提升加工穩(wěn)定性。
背景技術：
隨著電子產品的演進，半導體科技已廣泛地應用于制造內存、中央處理器(computer processing unit, CPU)、液晶顯不設備(liquid crystal display, LCD)、發(fā)光二極管(light emitting diode, LED)、激光二極管以及其他裝置或芯片組。而許多半導體的重要制程中，例如物理氣相沉積(physical vapor deposition, PVD)化學氣相沉積(chemical vapor deposition,CVD),通常在真空環(huán)境下執(zhí)行?，F(xiàn)有一般真空腔體內部材料采用鋁、不銹鋼以及鈦等金屬，然而在電漿轟擊過程中容易于腔體產生高熱，并使處理中的試片中心與邊緣有溫差產生熱應力，熱應力常常會致使內部金屬材料變形，使得處理中的試片因此破裂。因此選擇一可耐高熱、耐高抗折性以及耐高熱沖擊能作為真空腔體的材料便為目前真空腔體最重要的議題之一。在日益嚴苛的制程均溫條件要求下，均溫性的優(yōu)異，未來勢必對產品質量與良率造成極大影響。
發(fā)明內容有鑒于此，本實用新型的主要目的在于提供一種加熱爐體，藉由該結構可達到均勻加熱的功效，并透過水路系統(tǒng)的設置可避免腔體溫度過高進而提升加工穩(wěn)定性。為達到上述目的，本實用新型的技術方案是這樣實現(xiàn)的一種加熱爐體，其主要包含一支架；一腔體；一承載裝置；多個加熱單元以及多個傳動單元。其中該支架用以支撐該加熱爐體的系統(tǒng)結構；該腔體形成于該支架之上；該承載裝置形成于該腔體內部，用以放置加工工件；該些加熱單元形成于該腔體與該承載裝置之間；以及該些傳動單元的一端延伸形成于該腔體的外部，該些傳動單元的另一端延伸形成于該承載裝置的下方形成多個傳動滾輪，用以帶動該承載裝置；其中該些加熱單元更設置有多個水路系統(tǒng)，可達到均溫或降溫保護效果。本實用新型所提供的加熱爐體，具有以下優(yōu)點I)本實用新型的加熱爐體具有均勻加熱的功效，并可使加熱有效區(qū)范圍擴大；2)藉由本實用新型的水路系統(tǒng)可避免腔體溫度過高，提高加工穩(wěn)定性；3)藉由本實用新型的加熱爐體可提高產品質量、延長設備使用壽命以及達到改善勞動環(huán)境的功效。

圖I為本實用新型之一種加熱爐體之結構示意圖；圖2為本實用新型之多個加熱單元之結構示意圖；圖3為本實用新型之多個加熱單元中之加熱組件結構示意圖；[0013]圖4為本實用新型之多個傳動單元之結構示意圖(含局部放大部分)。主要組件符號說明100:加熱爐體110:支架120:腔體130 :承載裝置140 :加熱單元140a :加熱組件140b:加熱組件的末端141 :加熱組件142:固定單元143 :雙向接頭143k :水路系統(tǒng)144 :接線單元150 :傳動單元150a :磁流體150b:回轉接頭150c:出水口150d:進水口。
具體實施方式
以下結合附圖及本實用新型的實施例對本新型的加熱爐體作進一步詳細的說明?，F(xiàn)請參考第I圖，其為本實用新型之一種加熱爐體之結構示意圖100，其主要包含一支架110 ;—腔體120 ;—承載裝置130 ;多個加熱單元140 ;以及多個傳動單元150。其中，該支架110主要用以支撐該加熱爐體的系統(tǒng)結構，因此必須具備高強度的特點，一般可選用鋼構材料。該腔體120扮演提供后續(xù)鍍膜或熱處理制程的角色，因此必須依照不同的需求選擇不同材料的因應，一般而言，腔體材料選用鋁、不銹鋼、鈦合金、碳纖維及其復合材料之一。在該腔體120的內部包含該承載裝置130，用以放置加工工件。其中，該承載裝置130選用鋁、不銹鋼、鈦合金、碳纖維及其復合材料等。該些加熱單元140形成于該腔體120與該承載裝置130之間。該些傳動單元150的另一端延伸形成于該承載裝置130的下方形成多個傳動滾輪，用以帶動該承載裝置130。需注意的是，該些傳動單元150亦包含多個水路系統(tǒng)用于冷卻，并達到不傷害腔體120內部構件的效果?，F(xiàn)請參考第2圖，并配合第I圖，其為本實用新型之多個加熱單元140之結構示意圖。該些加熱單元140包含一加熱組件141 ;一固定單元142 ;—雙向接頭143以及一接線單元144。該固定單元142，罩住該加熱組件141，用以固定該固定單元142與該些加熱單元140的相對位置。該雙向接頭143，與該些加熱單元140鏈接。該接線單元144，與該固定單元142鏈接，用以傳送電力訊號。其中，該雙向接頭143更設置有多個水路系統(tǒng)143k，該些水路系統(tǒng)143k可達到最佳均溫或降溫保護效果。其中該些加熱單元140的內部包含一加熱組件141，且該加熱組件141的末端140b超出該些加熱單元140的末端往外延伸。在本實用新型的最佳實施例中，該加熱組件141的材料選自碳化娃?，F(xiàn)請參考第3圖，其為本實用新型之多個加熱單元140之加熱組件141結構示意圖。圖中顯示，黑色部分為具有加熱功用的加熱組件，白色部分為不具有加熱功用的加熱組件。當本實用新型的該加熱組件141加熱時可使加熱有效區(qū)范圍擴大。該固定單元142連接并罩住該加熱組件141，用以固定該固定單元142與該些加熱單元140的相對位置。此外，該固定單元142的目的為提升絕緣與隔熱度的功能，亦即可避免溫度過高并保護該加熱組件141的相關零件，例如第四圖的第一 0形環(huán)143c、該第二 0形環(huán)143e，不會因高溫而毀損，造成整體該加熱單元140無法保持真空度與無法密合。該接線單元144,與該加熱組件140a鏈接,用以傳送電力訊號。其中，該接線單元144由接線鋁帶、束緊塊材與接線盒組成。該接線盒的設置為了保護工作人員若發(fā)生誤觸電源端時而不至于發(fā)生觸電危險?，F(xiàn)請參考第4圖，并同時配合參考第I圖，其為本實用新型之多個傳動單元150之結構示意圖(含局部放大部分)。其中，該些傳動單元150的一端延伸形成于該腔體120的外部。該些傳動單元150包含一磁流體150a與一回轉接頭150b，其中該回轉接頭150b更包含一出水口 150c與一進水口 150d。為達到本實用新型的均勻加熱與避免腔體溫度過高的功效，該些傳動單元150亦具有水路系統(tǒng)的設置，其系設置在該磁流體150a之內。以上所述，僅為本實用新型的較佳實施例而已，并非用以限定本實用新型的保護范圍。
權利要求1.ー種加熱爐體,其特征在于,其主要包含 一支架，用以支撐該加熱爐體的系統(tǒng)結構； 一腔體，形成于該支架的上方； ー承載裝置，形成于該腔體的內部，用以放置加工エ件； 多個加熱単元，形成于該腔體與該承載裝置之間；以及 多個傳動單元，其中該些傳動單元的一端延伸形成于該腔體的外部，該些傳動單元的另一端延伸形成于該承載裝置的下方形成多個傳動滾輪，用以帶動該承載裝置； 其中該些加熱單元更設置有多個水路系統(tǒng)，能夠達到均溫或降溫保護效果。
2.如權利要求I所述的加熱爐體，其特征在于，其中該些加熱單元的內部包含 一加熱組件； 一固定単元，罩住該加熱組件，用以固定該固定単元與該些加熱單元的相對位置； 一雙向接頭，與該些加熱單元鏈接；以及 一接線單元，與該固定單元鏈接，用以傳送電カ訊號； 其中該雙向接頭更設置有多個水路系統(tǒng)，能夠達到均溫或降溫保護效果。
3.如權利要求2所述的加熱爐體，其特征在于，其中該固定単元具有提升絕緣與隔熱度功能，避免溫度過高以保護該加熱組件。
4.如權利要求I所述的加熱爐體，其特征在于，其中該些傳動單元包含ー磁流體與一回轉接頭，其中該些傳動單元的所述回轉接頭包含一出水ロ與ー進水口。
專利摘要本實用新型公開了一種加熱爐體，其主要包含一支架；一腔體；一承載裝置；多個加熱單元；以及多個傳動單元。采用該加熱爐體可達到均勻加熱的功效，并可避免腔體溫度過高，進而提升加工穩(wěn)定性。
文檔編號F27D9/00GK202814076SQ201220488890
公開日2013年3月20日 申請日期2012年9月24日 優(yōu)先權日2012年9月24日
發(fā)明者郭勛聰, 洪婉玲, 蔡俊毅 申請人:鉅永真空科技股份有限公司