專利名稱:多層成像屏電壁爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種仿真壁爐,尤其是一種火焰層次豐富、縱深范圍大、立體感強(qiáng)的多
層成像屏電壁爐。
背景技術(shù):
在現(xiàn)有技術(shù)的電壁爐中,通常是采用光線處理裝置將成像光源的光線反射到成像 屏上來模擬壁爐的火焰,這種火焰為單層結(jié)構(gòu),在視覺上縱深范圍小,立體感很差。
公開日
為2009年11月11日、公開號為CN101576273的專利文件公開了一種內(nèi)外成像屏多層火 焰電壁爐,包括殼體、設(shè)于殼體上的加熱裝置、成像光源及設(shè)于成像光源上方的光線處理裝 置、仿真炭床及緊靠仿真炭床的成像屏,所述的成像屏包括內(nèi)成像屏與外成像屏,內(nèi)成像屏 與外成像屏為半透反光結(jié)構(gòu),仿真炭床設(shè)置在內(nèi)外成像屏的底部位置。該結(jié)構(gòu)利用半透反 光材料既可以透過光線,又可以反射光線的特點,通過光線的多次反射來形成一個多層次、 大縱深、立體感強(qiáng)的火焰圖像,在一定程度上解決了現(xiàn)有技術(shù)的電壁爐存在的火焰的層次 少,縱深范圍小的問題,但由于該結(jié)構(gòu)的成像屏僅有兩層,因此模擬火焰的層次較少、縱深 范圍相對較小。
公開日為2008年4月23日、公開號為CN201050836的專利文件公開了一 種立體火焰仿真電壁爐,包括有電壁爐的殼體、成像光源、光線處理裝置以及殼體空腔內(nèi)前 方位置設(shè)置的仿真木炭,緊靠仿真木炭后面設(shè)置有半透明的成像屏,所述的成像屏的前方 設(shè)有第二成像屏,所述的第二成像屏與成像屏設(shè)置為基本平行。成像光源產(chǎn)生的光線,通過 光線處理裝置后,投射到成像屏形成初級火焰模擬像,部分光線透過成像屏投射到第二成 像屏上形成次級火焰模擬像,當(dāng)成像屏與第二成像屏之間保持足夠的距離時,由于兩者的 火焰像的前后位置不同,從而可以形成具有縱深層次的火焰視覺效果。該結(jié)構(gòu)利用成像屏 的半透明特性,將部分光線透射到第二成像屏上,從而形成前后兩層火焰模擬像,具有一定 的立體效果。但是該結(jié)構(gòu)只是將火焰模擬像在前后兩層成像屏上顯示,火焰的層次少,縱深 范圍小,缺少立體火焰的多層結(jié)構(gòu),立體效果較差。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為解決現(xiàn)有技術(shù)的電壁爐存在的火焰層次少,縱深范圍小,缺少立體火焰 的多層結(jié)構(gòu),立體效果較差的問題而提供一種火焰的層次豐富、縱深范圍大及立體感強(qiáng)的 多層成像屏電壁爐。 本發(fā)明為達(dá)到上述技術(shù)目的所采用的具體技術(shù)方案為一種多層成像屏電壁爐, 包括殼體、成像光源、光線處理裝置及成像屏,所述的成像屏包括一塊主成像屏及至少兩塊 副成像屏,副成像屏設(shè)置在主成像屏后側(cè),在電壁爐的前后方向上并列設(shè)置,副成像屏的下 端為懸空結(jié)構(gòu)。在主成像屏的后側(cè)設(shè)置兩塊或兩塊以上的副成像屏,電壁爐成像光源的光 線通過光線處理裝置可以在主成像屏、副成像屏上均模擬出火焰圖案,由于成像屏本身具 有一定的透光及反光功能,因此,我們可以透過主成像屏,看到副成像屏上的模擬火焰圖 案,同時,由于成像屏的反光作用,成像屏上的火焰圖像會在多個成像屏之間進(jìn)行折反射,這些折反射的光線也可以在成像屏形成火焰圖案,與現(xiàn)有技術(shù)的雙層結(jié)構(gòu)成像屏相比,本 發(fā)明最后模擬出的火焰圖案層次更多、縱深范圍更大、立體感更強(qiáng),顯著地提升了電壁爐的 火焰模擬效果,大大地提高了電壁爐的藝術(shù)感染力。 作為優(yōu)選,靠近主成像屏的副成像屏其底部位置低于遠(yuǎn)離主成像屏的副成像屏, 成像光源設(shè)置在電壁爐殼體的前側(cè),光線處理裝置設(shè)置在電壁爐殼體靠近后壁的下側(cè)。這 種結(jié)構(gòu)使用者可以直接透過成像屏看到光線處理裝置上的反光,因此這種結(jié)構(gòu)我們看到的 火焰模擬圖像以成像屏的透射光為主,以成像屏的反射光為輔,因此該結(jié)構(gòu)更適合于使用 透光率較高的成像屏,而處于電壁爐后側(cè)的成像屏其底部高于電壁爐前側(cè)的成像屏,是方 便光線處理裝置的光線照射到每一塊成像屏上。 成像屏的設(shè)置也可以采用與上述方案相反的結(jié)構(gòu),即靠近主成像屏的副成像屏其 底部位置高于遠(yuǎn)離主成像屏的副成像屏,光線處理裝置設(shè)置在電壁爐殼體的前側(cè),成像光 源設(shè)置在電壁爐殼體靠近后壁的下側(cè)。這種結(jié)構(gòu)使用者看到的光線是成像屏上的反光,因 此這種結(jié)構(gòu)我們看到的火焰模擬圖像以成像屏的反光為主,適合于使用反光率較高的成像 屏,而處于電壁爐前側(cè)的成像屏其底部高于電壁爐后側(cè)的成像屏,是方便光線處理裝置的 光線照射到每一塊成像屏上。 作為優(yōu)選,副成像屏為2至5塊。由于每塊成像屏都對光線有衰減作用,因此,當(dāng)
副成像屏的層數(shù)增加時,雖然模擬火焰的層次相應(yīng)增加,但處于電壁爐后側(cè)的副成像屏上
模擬火焰的強(qiáng)度就會很弱,對電壁爐整體模擬火焰的影響較小,另外,副成像屏層數(shù)過多,
還會使電壁爐的壁厚增加,增加電壁爐的體積,因此,副成像屏為2至5塊是合理的選擇。 作為優(yōu)選,成像屏的透光率為45% 65%,反光率為35% 55%。成像屏的透光
率過高,則成像光線難以在成像屏上形成清晰的圖像;而成像屏的反光率過高,則成像光線
大多被反射,透過成像屏的光線很少,我們也無法看清火焰圖像。成像屏的這種既透光又反
光的半透反光特性可以通過在透明材料上涂復(fù)或粘貼半透反光材料來實現(xiàn),也可以采用自
身具備半透反光特性的材料,另外,這里沒有考慮光線可能被成像屏少量的吸收,因此,這
里所述的透光率及反光率的百分比,是指成像屏透過部分的光線與反射部分的光線之間的比例。 作為優(yōu)選,成像屏平行且等間距設(shè)置。成像屏平行且等間距設(shè)置,可以使模擬火焰 的層次均勻,火焰相對集中,更加接近真實火焰的燃燒狀態(tài)。 作為優(yōu)選,副成像屏上設(shè)有造型孔或造型反光膜。造型孔是指在其中一層或多層 副成像屏上的某些位置開設(shè)某種結(jié)構(gòu)造型的通孔,造型反光膜則是指在其中一層或多層副 成像屏上的某些位置設(shè)置某種結(jié)構(gòu)造型反光薄膜,造型孔或造型反光膜通常采用火焰造 型,以便在主成像屏上模擬出相對清晰的火焰造型,從而模擬出更加逼真的火焰圖案,也可 以采用其他形狀的造型,在主成像屏上模擬出局部的亮區(qū)或暗區(qū)。造型孔的結(jié)構(gòu)適用于以 透射光為主的多層成像屏結(jié)構(gòu),而反光膜的結(jié)構(gòu)更適用于以反射光為主的多層成像屏結(jié) 構(gòu)。 作為優(yōu)選,主成像屏前側(cè)下方設(shè)有仿真炭床。仿真炭床是電壁爐的常規(guī)設(shè)置,對于 本發(fā)明中以反射光為主的多層成像屏結(jié)構(gòu)來說,由于光線處理裝置設(shè)置在電壁爐殼體的前 側(cè),成像光源設(shè)置在電壁爐殼體靠近后壁的下側(cè),因此,在主成像屏前側(cè)下方設(shè)置仿真炭床 可以有效地遮擋使用者的視線,避免使用者透過成像屏觀察到電壁爐的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的有益效果是它有效地解決現(xiàn)有技術(shù)的電壁爐存在的火焰層次少,縱深 范圍小,缺少立體火焰的多層結(jié)構(gòu),立體效果較差的問題。本發(fā)明利用多個成像屏上的模擬 火焰疊加來形成一個層次豐富、縱深范圍大、立體感強(qiáng)的火焰圖像,顯著地提升了電壁爐的 火焰模擬效果,大大地提高了電壁爐的藝術(shù)感染力。
圖1是本發(fā)明多層成像屏 圖2是本發(fā)明多層成像屏 圖3是本發(fā)明多層成像屏 圖4是本發(fā)明多層成像屏 圖5是本發(fā)明多層成像屏 圖6是本發(fā)明多層成像屏
電壁爐實施例1的一種結(jié)構(gòu)示意圖。 電壁爐實施例2的一種結(jié)構(gòu)示意圖。 電壁爐實施例3的一種結(jié)構(gòu)示意圖。 電壁爐實施例4的一種結(jié)構(gòu)示意圖。 電壁爐副成像屏的一種結(jié)構(gòu)示意圖。 電壁爐副成像屏的另一種結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式
下面通過實施例,并結(jié)合附圖對本發(fā)明技術(shù)方案的具體實施方式
作進(jìn)一步的說 明。 實施例1 在如圖1所示的實施例1中,一種多層成像屏電壁爐,包括殼體1、成像光源2、光
線處理裝置3及成像屏,成像屏的透光率為65 % ,反光率為35 % ,所述的成像屏包括一塊主
成像屏4及兩塊副成像屏5,副成像屏設(shè)置在主成像屏后側(cè),在電壁爐的前后方向上并列設(shè)
置,副成像屏的下端為懸空結(jié)構(gòu),靠近主成像屏的副成像屏其底部位置低于遠(yuǎn)離主成像屏
的副成像屏,成像光源設(shè)置在電壁爐殼體的前側(cè),光線處理裝置設(shè)置在電壁爐殼體靠近后
壁的下側(cè)。 實施例2 在如圖2所示的實施例2中,成像屏包括一塊主成像屏及4塊副成像屏,成像屏的 透光率為55%,反光率為45%,成像屏平行且等間距設(shè)置,所有成像屏的下端連線與水平 面構(gòu)成45度角,靠近主成像屏的副成像屏上設(shè)有火焰造型的造型孔6 (見圖5),其余和實施 例l相同。
實施例3 在如圖3所示的實施例3中,成像屏包括一塊主成像屏及3塊副成像屏,成像屏的 透光率為50%,反光率為50%,靠近主成像屏的副成像屏其底部位置高于遠(yuǎn)離主成像屏的 副成像屏。光線處理裝置設(shè)置在電壁爐殼體的前側(cè),成像光源設(shè)置在電壁爐殼體靠近后壁 的下側(cè),主成像屏前側(cè)下方設(shè)有仿真炭床8,其余和實施例1相同。
實施例4 在如圖4所示的實施例4中,成像屏包括一塊主成像屏及5塊副成像屏,成像屏的 透光率為45%,反光率為55%,成像屏平行且等間距設(shè)置,所有成像屏的下端連線與水平 面構(gòu)成45度角,靠近電壁爐后壁的副成像屏上設(shè)有火焰造型的造型反光膜7 (見圖6),其余 和實施例3相同。 多層成像屏電壁爐工作時,成像光源的光線通過光線處理裝置照射到電壁爐的成
5像屏上,由于電壁爐的成像屏具有透光功能,因此,使用者可以看到多層成像屏上的模擬火 焰,另外,電壁爐的成像屏的反光功能使得成像屏上的火焰圖像會在成像屏之間進(jìn)行多次 反射,就像在兩面鏡子之間放置一個物體,鏡子內(nèi)會出現(xiàn)無數(shù)該物體的鏡像一樣,從而更加 拉伸了模擬火焰的縱深范圍,最終形成一個層次豐富、縱深范圍大、立體感很強(qiáng)的火焰圖 像,因此顯著地提升了電壁爐的火焰模擬效果,大大地提高了電壁爐的藝術(shù)感染力。
權(quán)利要求
一種多層成像屏電壁爐,包括殼體、成像光源、光線處理裝置及成像屏,其特征是所述的成像屏包括一塊主成像屏及至少兩塊副成像屏,副成像屏設(shè)置在主成像屏后側(cè),在電壁爐的前后方向上并列設(shè)置,副成像屏的下端為懸空結(jié)構(gòu)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層成像屏電壁爐,其特征在于靠近主成像屏的副成像屏其 底部位置低于遠(yuǎn)離主成像屏的副成像屏。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層成像屏電壁爐,其特征在于靠近主成像屏的副成像屏其 底部位置高于遠(yuǎn)離主成像屏的副成像屏。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層成像屏電壁爐,其特征在于所述的副成像屏為2至5塊。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層成像屏電壁爐,其特征在于所述的成像屏的透光率為 45% 65%,反光率為35% 55%。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層成像屏電壁爐,其特征在于所述的成像屏平行且等間距 設(shè)置。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層成像屏電壁爐,其特征在于所述的副成像屏上設(shè)有造型 孔或造型反光膜。
8. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的多層成像屏電壁爐,其特征在于成像光源設(shè)置在電壁爐殼體 的前側(cè),光線處理裝置設(shè)置在電壁爐殼體靠近后壁的下側(cè)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的多層成像屏電壁爐,其特征在于光線處理裝置設(shè)置在電壁爐 殼體的前側(cè),成像光源設(shè)置在電壁爐殼體靠近后壁的下側(cè)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求l或2或3或4或5或6或7或8或9所述的多層成像屏電壁爐,其 特征在于主成像屏前側(cè)下方設(shè)有仿真炭床。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種多層成像屏電壁爐,包括殼體、成像光源、光線處理裝置及成像屏,所述的成像屏包括一塊主成像屏及至少兩塊副成像屏,副成像屏設(shè)置在主成像屏后側(cè),在電壁爐的前后方向上并列設(shè)置,副成像屏的下端為懸空結(jié)構(gòu)。它有效地解決現(xiàn)有技術(shù)的電壁爐存在的火焰的層次少,縱深范圍小,缺少立體火焰的多層結(jié)構(gòu),立體效果較差的問題。本發(fā)明利用多個成像屏上的模擬火焰疊加來形成一個層次豐富、縱深范圍大、立體感強(qiáng)的火焰圖像,顯著地提升了電壁爐的火焰模擬效果,大大地提高了電壁爐的藝術(shù)感染力。
文檔編號F24C7/00GK101776291SQ20091031020
公開日2010年7月14日 申請日期2009年11月23日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月23日
發(fā)明者朱宏鋒 申請人:義烏市安冬電器有限公司