專利名稱：能加熱均勻的電磁爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
能加熱均勻的電磁爐[技術(shù)領(lǐng)域本實(shí)用新型涉及一種電磁爐，尤其涉及一種有多個(gè)加熱點(diǎn)、能均 勻加熱的電磁爐。 [背景技術(shù)I目前的電磁爐一般只有一個(gè)加熱點(diǎn)，即在電磁爐的爐殼內(nèi)設(shè)有一 個(gè)用于加熱的線圈盤，當(dāng)需要進(jìn)行煮食物時(shí)，將金屬容器放置于線圈 盤上。這樣金屬容器底部產(chǎn)生一個(gè)磁場感應(yīng)渦流，磁場感應(yīng)渦流的強(qiáng) 度與線圈盤半徑大小有關(guān)，在線圈盤的中心處最大，在線圈盤的邊緣 處最小，因此線圈盤的中心處對應(yīng)金屬容器熱的比較快、溫度高，從 而使金屬容器的底部中心相對四周溫度高較高，使金屬容器的加熱不 均勻。實(shí)用新型內(nèi)容l本實(shí)用新型克服了上述技術(shù)的不足，提供了一種使用方便、結(jié)構(gòu) 簡單、加熱均勻的電磁爐。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用了下列技術(shù)方案能加熱均勻 的電磁爐，包括有爐殼、設(shè)置爐殼上的微晶面板以及設(shè)置于爐殼內(nèi)的 電路板，其特征在于在爐殼內(nèi)靠近微晶面板的地方分布有多個(gè)與所 述電路板連接的線圈盤。如上所述的能加熱均勻的電磁爐，其特征在于所有線圈盤首尾 依次連接在一起，然后與電路板的供電端子連接。如上所述的能加熱均勻的電磁爐，其特征在于所有線圈盤都直 接與電路板的供電端子連接。如上所述的能加熱均勻的電磁爐，其特征在于 一部分線圈盤首 尾依次連接在一起，然后與電路板的供電端子連接；另一部分都直接 與電路板的供電端子連接。如上所述的能加熱均勻的電磁爐，其特征在于線圈盤為兩個(gè)或 兩個(gè)以上。.如上所述的能加熱均勻的電磁爐，其特征在于在爐殼內(nèi)設(shè)有散 熱系統(tǒng)，該散熱系統(tǒng)包括有風(fēng)扇，風(fēng)扇與所述的電路板連接。如上任意一項(xiàng)所述的能加熱均勻的電磁爐，其特征在于在爐殼 內(nèi)固定有支柱，在支柱上固定有所述線圈盤。本實(shí)用新型的有益效果是1、 在爐殼內(nèi)靠近微晶面板的地方，平面分布有多個(gè)與所述電路 板連接的線圈盤。每個(gè)線圈盤均能夠形成各自的加熱磁場，放置于微 晶面板上的金屬容器底部產(chǎn)生多個(gè)磁場感應(yīng)渦流，從而實(shí)現(xiàn)了多個(gè)加 熱中心進(jìn)行同時(shí)加熱，使金屬容器的加熱更加均勻。2、 在爐殼內(nèi)還設(shè)有散熱系統(tǒng)，能夠及時(shí)地將線圈盤產(chǎn)生的熱量 散發(fā)出去，以提高線圈盤的工作效率和延長加熱盤的壽命。以下結(jié)合附圖與本實(shí)用新型的實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)的描述


圖1為本實(shí)用新型的去掉微晶面板后的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為本實(shí)用新型的剖視結(jié)構(gòu)圖；圖3為本實(shí)用新型采用四個(gè)線圈盤的串聯(lián)連接原理圖； 圖4為本實(shí)用新型的原理圖。 [具體實(shí)施方式如圖l-4所示，能加熱均勻的電磁爐，包括有爐殼l、設(shè)置爐殼 上l的微晶面板2以及設(shè)置于爐殼1內(nèi)的電路板3，在爐殼l內(nèi)靠近 微晶面板2的地方分布有多個(gè)與所述電路板3連接的線圈盤4。每個(gè) 線圈盤4均能夠形成各自的加熱磁場，放置于微晶面板2上的金屬容 器(例如鐵鍋)8底部產(chǎn)生多個(gè)磁場感應(yīng)渦流，從而實(shí)現(xiàn)了多個(gè)加熱 中心進(jìn)行同時(shí)加熱，使金屬容器的加熱更加均勻。多個(gè)線圈盤的連接方式可以有如下三種，即串聯(lián)、并聯(lián)、混聯(lián)。串聯(lián)所有線圈盤4首尾依次連接在一起，然后通過導(dǎo)線7與電 路板3的供電端子31連接。并聯(lián)所有線圈盤4都通過導(dǎo)線7直接與電路板3的供電端子 31連接。混聯(lián) 一部分線圈盤4首尾依次連接在一起，然后通過導(dǎo)線7與 電路板3的供電端子31連接；另一部分都通過導(dǎo)線7直接與電路板 3的供電端子31連接。所述的線圈盤4為兩個(gè)或兩個(gè)以上，本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例 (見圖3)采用四個(gè)，四個(gè)線圈盤4成矩形平面設(shè)置于爐殼1內(nèi)，并 采用串聯(lián)連接方式，這樣有四個(gè)加熱中心，放置于微晶面板2上的金 屬容器底部產(chǎn)生四個(gè)磁場感應(yīng)渦流，實(shí)現(xiàn)了四個(gè)加熱中心進(jìn)行同時(shí)加 熱，相比現(xiàn)有的一個(gè)線圈盤加熱更加均勻。在爐殼1內(nèi)還設(shè)有散熱系統(tǒng)，該散熱系統(tǒng)包括有風(fēng)扇5，風(fēng)扇5 與所述的電路板3連接。在爐殼1內(nèi)固定有支柱6，在支柱6上固定有所述線圈盤4。
權(quán)利要求1、能加熱均勻的電磁爐，包括有爐殼(1)、設(shè)置爐殼(1)上的微晶面板(2)以及設(shè)置于爐殼(1)內(nèi)的電路板(3)，其特征在于在爐殼(1)內(nèi)靠近微晶面板(2)的地方分布有多個(gè)與所述電路板(3)連接的線圈盤(4)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的能加熱均勻的電磁爐，其特征在于 所有線圈盤(4)首尾依次連接在一起，然后與電路板(3)的供電端 子(31)連接。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的能加熱均勻的電磁爐，其特征在于 所有線圈盤都直接與電路板的供電端子連接。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的能加熱均勻的電磁爐，其特征在于 一部分線圈盤首尾依次連接在一起，然后與電路板的供電端子連接； 另一部分都直接與電路板的供電端子連接。
5、 根據(jù)權(quán)利要求l至4任意一項(xiàng)所述的能加熱均勻的電磁爐， 其特征在于線圈盤(4)為兩個(gè)或兩個(gè)以上。
6、 根據(jù)權(quán)利要求l至4任意一項(xiàng)所述的能加熱均勻的電磁爐， 其特征在于在爐殼(1)內(nèi)設(shè)有散熱系統(tǒng)，該散熱系統(tǒng)包括有風(fēng)扇(5),風(fēng)扇(5)與所述的電路板(3)連接。
7、 根據(jù)權(quán)利要求l至4任意一項(xiàng)所述的能加熱均勻的電磁爐， 其特征在于在爐殼(1)內(nèi)固定有支柱(6)，在支柱(6)上固定有 所述線圈盤(4)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了能加熱均勻的電磁爐，其包括有爐殼、設(shè)置爐殼上的微晶面板以及設(shè)置于爐殼內(nèi)的電路板，在爐殼內(nèi)靠近微晶面板的地方分布有多個(gè)與所述電路板連接的線圈盤。每個(gè)線圈盤均能夠形成各自的加熱磁場，放置于微晶面板上的金屬容器底部產(chǎn)生多個(gè)磁場感應(yīng)渦流，從而實(shí)現(xiàn)了多個(gè)加熱中心進(jìn)行同時(shí)加熱，使金屬容器的加熱更加均勻。
文檔編號F24C7/06GK201110579SQ20072005706
公開日2008年9月3日 申請日期2007年9月18日 優(yōu)先權(quán)日2007年9月18日
發(fā)明者徐鵬翀, 楊國芳 申請人:王 莉