專利名稱：移動式高溫真空爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種高溫真空爐。
背景技術(shù)：
一般工業(yè)界及電子界所使用的高溫爐的是把金屬或電子產(chǎn)品所使用的零件熔解或軟化。目前普遍使用的是鏈?zhǔn)剿淼罓t及立式真空爐，針對此兩種高溫爐的缺點，本申請人于2001年9月4日向國家知識產(chǎn)權(quán)局申請了一個名稱為“移動式臥式高溫真空爐”的實用新型專利，國家知識產(chǎn)權(quán)局于2002年5月29日授權(quán)公告，專利號為“ZL01262582.5”、公告號為“CN2493900”，其主要內(nèi)容是“公開了一種移動式臥式高溫真空爐，包括機架、真空管、加熱爐，所述機架上設(shè)有導(dǎo)軌，真空管設(shè)有兩個，分別相向固定在機架的兩端，加熱爐為臥式筒形并通過小輪座落在導(dǎo)軌上；該爐的兩個真空管可以交替作業(yè)，從而可以提高產(chǎn)能，并且在真空中進(jìn)行升溫，電子產(chǎn)品內(nèi)部不會產(chǎn)生氣泡，可以提高產(chǎn)品質(zhì)量和可靠性?！鄙鲜鰧＠a(chǎn)品在原有鏈?zhǔn)剿淼罓t及立式真空爐的基礎(chǔ)上有了一定的進(jìn)步，但在具體實踐中還是存在著一些不足之處，主要表現(xiàn)在以下兩個方面1.大口徑真空管，加熱溫度不均勻；2.當(dāng)爐體移動到真空管左邊時，因爐體左邊靠近冷卻水管，所以爐體左邊溫度設(shè)定要比爐體右邊高，當(dāng)爐體移動到真空管右邊時，因爐體右邊靠近冷卻水管，所以爐體右邊溫度設(shè)定要比爐體左邊高，如此左右移動，溫度設(shè)定容易疏忽，造成溫度不穩(wěn)定。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的是提供一種移動式高溫真空爐，該高溫真空爐將真空管口徑減小，并把多個真空管安裝于機架的同一端，從而使真空管溫度加熱均勻并且穩(wěn)定。
本實用新型的技術(shù)方案是一種移動式高溫真空爐，包括有機架、固定在機架端部的真空管、通過導(dǎo)軌安裝在機架上的加熱爐，所述真空管至少有兩個，并且位于機架的同一端，加熱爐上設(shè)有與真空管位置對應(yīng)的爐腔。
本實用新型進(jìn)一步的技術(shù)方案是一種移動式高溫真空爐，包括有機架、固定在機架端部的真空管、通過導(dǎo)軌安裝在機架上的加熱爐，所述真空管至少有兩個，并且位于機架的同一端，加熱爐上設(shè)有與真空管位置對應(yīng)的爐腔；所述真空管均勻分布在位于機架端部的安裝板上，真空管的數(shù)量是爐腔的兩倍，加熱爐安裝在導(dǎo)軌架上，導(dǎo)軌架安裝在導(dǎo)軌上，加熱爐的移動方向與真空管垂直。
本實用新型的優(yōu)點是1.本實用新型減小了真空管的口徑，并將多個真空管均勻分布在位于機架一端的安裝板上，可以使真空管加熱均勻，并且無需多次設(shè)定溫度，避免了因操作工疏忽而產(chǎn)生的偏差，提高電子產(chǎn)品的質(zhì)量和可靠性。
2.本實用新型的加熱爐可以通過導(dǎo)軌和導(dǎo)軌架進(jìn)行兩個方向的移動，加熱爐上設(shè)有多個與真空管對應(yīng)的爐腔，一次可加熱數(shù)個真空管，加熱完全后可移動至另一側(cè)加熱其余的真空管，大大提高了工作效率和產(chǎn)能。
以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型作進(jìn)一步的描述


圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為加熱前側(cè)真空管時的工作狀態(tài)圖；圖3為加熱后側(cè)真空管時的工作狀態(tài)圖。
其中1機架；2真空管；3加熱爐；4爐腔；5安裝板；6導(dǎo)軌架；7導(dǎo)軌。
具體實施方式
實施例如
圖1所示，一種移動式高溫真空爐，包括有機架(1)，機架(1)上設(shè)有導(dǎo)軌(7)，機架(1)的左端固定有直立的安裝板(5)，安裝板(5)上均勻分布有八個與導(dǎo)軌(7)平行的真空管(2)，真空管(2)的口徑比現(xiàn)有的要小，加熱爐(3)安裝在導(dǎo)軌架(6)上，加熱爐(3)可以在導(dǎo)軌架(6)上前后移動，導(dǎo)軌架(6)安裝在導(dǎo)軌(7)上，導(dǎo)軌架(6)可以在導(dǎo)軌(7)上左右移動，加熱爐(3)上設(shè)有位置與真空管(2)對應(yīng)的四個爐腔(4)。
工作時，可移動加熱爐(3)至前側(cè)，再向左移動加熱前側(cè)的四個真空管(2)，前側(cè)四個真空管(2)加熱完成后，退出加熱爐(3)，向后移動加熱爐(3)，再向左移動加熱后側(cè)的四個真空管(2)。
本實用新型減小了真空管(2)的口徑，并將多個真空管(2)均勻分布在位于機架(1)一端的安裝板(5)上，可以使真空管(2)加熱均勻，并且無需多次設(shè)定溫度，避免了因操作工疏忽而產(chǎn)生的偏差，提高電子產(chǎn)品的質(zhì)量和可靠性；本實用新型的加熱爐(3)可以通過導(dǎo)軌(7)和導(dǎo)軌架(6)進(jìn)行兩個方向的移動，加熱爐(3)上設(shè)有多個與真空管(2)對應(yīng)的爐腔(4)，一次可加熱數(shù)個真空管(2)，加熱完全后可移動至另一側(cè)加熱其余的真空管(2)，大大提高了工作效率和產(chǎn)能。
權(quán)利要求1.一種移動式高溫真空爐，包括有機架(1)、固定在機架(1)端部的真空管(2)、通過導(dǎo)軌(7)安裝在機架(1)上的加熱爐(3)，其特征在于所述真空管(2)至少有兩個，并且位于機架(1)的同一端，加熱爐(3)上設(shè)有與真空管(2)位置對應(yīng)的爐腔(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的移動式高溫真空爐，其特征在于所述真空管(2)均勻分布在位于機架(1)端部的安裝板(5)上，真空管(2)的數(shù)量是爐腔(4)的兩倍，加熱爐(3)安裝在導(dǎo)軌架(6)上，導(dǎo)軌架(6)安裝在導(dǎo)軌(7)上，加熱爐(3)的移動方向與真空管(2)垂直。
專利摘要本實用新型公開了一種移動式高溫真空爐，包括有機架，機架上設(shè)有導(dǎo)軌，機架的左端固定有安裝板，安裝板上均勻分布有八個真空管，真空管的口徑比現(xiàn)有的要小，加熱爐安裝在導(dǎo)軌架上，導(dǎo)軌架安裝在導(dǎo)軌上，加熱爐上設(shè)有位置與真空管對應(yīng)的四個爐腔，本實用新型將真空管口徑減小，并把多個真空管安裝于機架的同一端，從而使真空管溫度加熱均勻并且穩(wěn)定。
文檔編號F27D7/00GK2690830SQ20042002630
公開日2005年4月6日 申請日期2004年4月12日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月12日
發(fā)明者鐘運輝 申請人:鐘運輝