光耦合透鏡模仁的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種光耦合透鏡模仁，其包括一第一模仁入子、一第二模仁入子以及一模仁本體，所述第一模仁入子包括一第一成型面以及一與所述第一成型面相背的第一后表面，所述第二模仁入子包括一第二成型面以及一與所述第二成型面相背的第二后表面，所述模仁本體包括一第一表面以及一與所述第一表面相背的第二表面，所述模仁本體內(nèi)部開設有兩個穿過所述第一表面以及第二表面的收容腔，所述第一模仁入子與第二模仁入子均收容于所述模仁本體的收容腔中，所述第一模仁入子相較于所述模仁本體的第一表面突出一段距離，所述第二模仁入子的第二成型面與所述模仁本體的第一表面齊平。本發(fā)明的光耦合透鏡模仁能減少加工的難度。
【專利說明】光耦合透鏡模仁
【技術領域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及成型技術，尤其涉及一種用于成型光耦合透鏡的光耦合透鏡模仁。
【背景技術】
[0002]光耦合透鏡通常由射出成型模制而成，其包括光學面、垂直該光學面延伸的兩個定位柱以及形成于該光學面上并位于該兩個定位柱之間的多個會聚透鏡。該多個會聚透鏡一般被分為“進” “出”兩組，例如，若該多個會聚透鏡數(shù)量為兩個，則是一進一出制，若該多個會聚透鏡數(shù)量為四個，則是兩進兩出制，若會聚透鏡的數(shù)量更多，分組則照此類推。
[0003]基板側(cè)的透鏡曲面設計需要考慮到光電二極管及激光二極管光束聚焦的特性，所以會透過光學設計軟件去設計分析透鏡聚焦的深度，希望達到最大光功率的輸入與輸出。一般來說，光耦合透鏡在基板側(cè)的微透鏡通常都會設計等高深度，但有些光學設計為了特殊的需求，會針對光電二極管及激光二極管給予不同的微透鏡深度設計。對于等高深度設計的微透鏡，其模仁入子加工由于車削面高度一致，所以不會有刀具干涉的問題；但對于不等高深度的微透鏡，由于微透鏡彼此之間存在間距以及深度的落差，假設彼此間距過近并且深度落差太大，則模仁入子深度較低的那一面有可能會與刀具產(chǎn)生干涉。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]有鑒于此，有必要提供一種能制造不等高深度的微透鏡且不會發(fā)生刀具干涉現(xiàn)象的光耦合透鏡模仁。
[0005]一種光耦合透鏡模仁，包括一第一模仁入子、一第二模仁入子以及一模仁本體，所述第一模仁入子包括一第一成型面以及一與所述第一成型面相背的第一后表面，所述第二模仁入子包括一第二成型面以及一與所述第二成型面相背的第二后表面，所述模仁本體包括一第一表面以及一與所述第一表面相背的第二表面，所述模仁本體內(nèi)部開設有兩個穿過所述第一表面以及第二表面的收容腔，所述第一模仁入子與第二模仁入子均收容于所述模仁本體的收容腔中，所述第一模仁入子相較于所述模仁本體的第一表面突出一段距離，所述第二模仁入子的第二成型面與所述模仁本體的第一表面齊平。
[0006]與現(xiàn)有技術相比較，本發(fā)明提供的光耦合透鏡模仁將原本四通道的模仁入子拆解成兩個不等高的二通道模仁入子，如此將可以彈性調(diào)整光耦合透鏡在基板側(cè)微透鏡的深度，以滿足針對光電二極管及激光二極管給予不同的微透鏡聚焦設計的需求，減少加工的難度。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]圖1是本發(fā)明提供的光耦合透鏡模仁的立體組合示意圖。
[0008]圖2是圖1所示的光耦合透鏡模仁另一角度的立體組合示意圖。
[0009]圖3是圖1所示的光耦合透鏡模仁的立體分解示意圖。
[0010]主要元件符號說明
【權(quán)利要求】
1.一種光耦合透鏡模仁，包括一第一模仁入子、一第二模仁入子以及一模仁本體，所述第一模仁入子包括一第一成型面以及一與所述第一成型面相背的第一后表面，所述第二模仁入子包括一第二成型面以及一與所述第二成型面相背的第二后表面，所述模仁本體包括一第一表面以及一與所述第一表面相背的第二表面，所述模仁本體內(nèi)部開設有兩個穿過所述第一表面以及第二表面的收容腔，所述第一模仁入子與第二模仁入子均收容于所述模仁本體的收容腔中，其特征在于:所述第一模仁入子相較于所述模仁本體的第一表面突出一段距離，所述第二模仁入子的第二成型面與所述模仁本體的第一表面齊平。
2.如權(quán)利要求1所述的光耦合透鏡模仁，其特征在于:所述模仁本體、第一模仁入子以及第二模仁入子均為長方體結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求1所述的光耦合透鏡模仁，其特征在于:所述第一模仁入子還包括一第一下表面，所述第一下表面靠近所述第一后表面的一端沿垂直所述第一下表面方向向下延伸有一第一階梯部。
4.如權(quán)利要求1所述的光耦合透鏡模仁，其特征在于:所述第二模仁入子更包括一第二下表面，所述第二下表面靠近所述第二后表面的一端沿垂直所述第二下表面方向向下延伸有一第二階梯部。
5.如權(quán)利要求1所述的光耦合透鏡模仁，其特征在于:所述第一成型面上開設多個用于成型透鏡的第一成型腔。
6.如權(quán)利要求1所述的光耦合透鏡模仁，其特征在于:所述第二成型面上開設多個用于成型透鏡的第二成型腔。
7.如權(quán)利要求1所述的光耦合透鏡模仁，其特征在于:兩個所述收容腔與所述第一表面之間共同形成兩個第一組入口，所述第一組入口的形狀及尺寸分別與所述第一成型面及第二成型面的形狀及尺寸相同。
8.如權(quán)利要求1所述的光耦合透鏡模仁，其特征在于:兩個所述收容腔與所述第二表面之間共同形成兩個第二組入口，所述第二組入口的形狀及尺寸分別與所述第一后表面及第二后表面的形狀及尺寸相同。
9.如權(quán)利要求1所述的光耦合透鏡模仁，其特征在于:所述第一成型面與所述第一后表面之間沿垂直所述第一表面方向的距離大于所述模仁本體的所述第一表面與所述第二表面之間沿垂直所述第一表面方向的距離。
10.如權(quán)利要求1所述的光耦合透鏡模仁，其特征在于:所述第二成型面與所述第二后表面之間沿垂直所述第一表 面方向的距離等于所述模仁本體的所述第一表面與所述第二表面之間沿垂直所述第一表面方向的距離。
【文檔編號】B29C33/76GK103895170SQ201210582468
【公開日】2014年7月2日 申請日期:2012年12月28日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月28日
【發(fā)明者】郭章緯 申請人:鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司