專利名稱：基片存儲(chǔ)容器及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基片存儲(chǔ)容器，用于存儲(chǔ)由遮光玻璃、鋁片等制成的各種半導(dǎo)體晶片或基片。
背景技術(shù)：
常規(guī)的基片存儲(chǔ)容器(圖中未示出)包括容器主體，里面排列并存儲(chǔ)有包括半導(dǎo)體晶片在內(nèi)的多個(gè)基片；蓋子元件，它可以自由連接和拆卸，并且打開或關(guān)閉構(gòu)成該容器主體開口部分的前表面；以及錨固機(jī)構(gòu)，它用于緊固蓋住容器主體前表面的蓋子元件。這種容器用作精密的基片存儲(chǔ)容器。在容器主體兩側(cè)壁的內(nèi)表面上分別設(shè)置多個(gè)支撐部件，這些支撐部件具有沿基片周緣彎曲的形狀，用于水平支撐基片的側(cè)部。在蓋子元件的內(nèi)表面上安裝前保持器，用于保持基片的前部周緣。
這種基片存儲(chǔ)容器用于將基片從基片生產(chǎn)廠安全地運(yùn)輸?shù)郊庸S。在這些加工廠中，對(duì)基片進(jìn)行各種加工以生產(chǎn)半導(dǎo)體部件或用于加工半導(dǎo)體部件的部件(見日本專利申請(qǐng)公開未決No.Hei.10-101177和日本專利申請(qǐng)公開未決No.2004-111830)。

發(fā)明內(nèi)容
常規(guī)的基片存儲(chǔ)容器的構(gòu)造如上所述，因此在裝載和用卡車、空中運(yùn)輸、輪船等運(yùn)輸?shù)倪^程中容易受到震動(dòng)的影響。當(dāng)這些容器受到震動(dòng)時(shí)，基片和支撐部件之間的摩擦?xí)?dǎo)致基片損壞，并生成附著到基片表面的微粒，這可能造成嚴(yán)重的問題，例如導(dǎo)致產(chǎn)品的性能和產(chǎn)率下降。特別是由于近些年來半導(dǎo)體部件的電路節(jié)距變得更小，因此微粒污染已經(jīng)成為一個(gè)嚴(yán)重問題。
此外，從基片的周緣部分沿徑向向內(nèi)3mm的區(qū)域通常一直被當(dāng)作不予考慮的區(qū)域，半導(dǎo)體部件在工作時(shí)不使用該區(qū)域。然而，近些年來，從在電路中實(shí)現(xiàn)更小的節(jié)距并制造更緊湊的產(chǎn)品這一立場(chǎng)出發(fā)，一直有通過使不予考慮的區(qū)域變窄來增加產(chǎn)率的需要。為了滿足這一需要，有必要防止基片的周緣部分和后表面受到污染和刮擦。
考慮到上述事實(shí)，本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種基片存儲(chǔ)容器，可以防止基片受到刮擦并防止因基片和支撐部件之間的摩擦而導(dǎo)致塵埃產(chǎn)生，因此可以抑制基片的周緣部分和后表面受到污染和刮擦；本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種制造這種基片存儲(chǔ)容器的方法。
為了解決上述問題，根據(jù)本發(fā)明的基片存儲(chǔ)容器包括容器主體，包括后壁和一對(duì)側(cè)壁，用于將基片存儲(chǔ)在側(cè)壁之間；相對(duì)設(shè)置在每個(gè)側(cè)壁上的第一支撐部件，用于支撐基片的周緣部分；以及相對(duì)設(shè)置在每個(gè)側(cè)壁上的第二支撐部件，用于支撐基片的周緣部分，并且位于后壁和第一支撐部件之間，其中第一支撐部件和第二支撐部件被覆蓋有摩擦性能低于容器主體摩擦性能的樹脂層。
此外，基片存儲(chǔ)容器可以還包括設(shè)置在容器主體后壁上的彈性保持器，用于支撐基片的周緣部分。
此外，第一支撐部件和第二支撐部件可以分別從容器主體的側(cè)壁伸出，在每個(gè)側(cè)壁上的第一支撐部件和第二支撐部件之間形成間隙。
此外，容器主體的側(cè)壁可以包括接觸部分，用于與基片的周緣部分接觸，當(dāng)基片被支撐在第一支撐部件和第二支撐部件上時(shí)，該接觸部分位于一相交中心線的延長線上，該相交中心線與通過基片的中心線中平行于基片的插入和取出方向的中心線垂直，并且該接觸部分被覆蓋有樹脂層。
此外，容器主體的側(cè)壁可以包括接觸部分，用于與基片的周緣部分接觸，并且該接觸部分可以覆蓋有樹脂層。
此外，容器主體可以由包含聚碳酸酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯、環(huán)烯聚合物、聚醚酰亞胺、聚醚醚酮和合金樹脂之一的材料制成，而樹脂層可以由聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯和聚醚醚酮中的一種制成。
此外，樹脂層可以包括形成在側(cè)壁內(nèi)側(cè)的凸緣，該凸緣具有在側(cè)壁外表面附近的外部和在側(cè)壁內(nèi)表面附近的內(nèi)部，并且外部的尺寸可以大于內(nèi)部的尺寸。
此外，為了解決上述問題，根據(jù)本發(fā)明的方法用于制造如下所述的基片存儲(chǔ)容器，該基片存儲(chǔ)容器包括容器主體，具有后壁和一對(duì)側(cè)壁，用于將基片存儲(chǔ)在側(cè)壁之間；相對(duì)設(shè)置在每個(gè)側(cè)壁上的第一支撐部件，用于支撐基片的周緣部分；以及相對(duì)設(shè)置在每個(gè)側(cè)壁上的第二支撐部件，用于支撐基片的周緣部分，并且位于后壁和第一支撐部件之間。該方法包括在容器主體的側(cè)壁上形成第一支撐部件和第二支撐部件；用摩擦性能低于容器主體摩擦性能的樹脂層覆蓋第一支撐部件和第二支撐部件；以及通過將側(cè)壁插入到用于形成容器主體后壁的模具內(nèi)，形成容器主體。
此外，該方法可以還包括用樹脂層覆蓋與容器主體側(cè)壁上的基片的周緣部分接觸的接觸部分。
此外，該方法可以還包括在側(cè)壁上形成通孔，該通孔的形狀與凸緣的形狀對(duì)應(yīng)，該凸緣具有在側(cè)壁外表面附近的外部和在側(cè)壁內(nèi)表面附近的內(nèi)部，其中凸緣的外部的尺寸可以大于內(nèi)部的尺寸；從側(cè)壁外側(cè)經(jīng)該通孔注入樹脂以形成樹脂層。
此外，本發(fā)明的基片存儲(chǔ)容器可以包括存儲(chǔ)基片的容器主體；打開或關(guān)閉容器主體開口部分的蓋子；第一支撐部件，分別設(shè)置在形成容器主體的一對(duì)側(cè)壁上，并且位于容器主體的開口部分一側(cè)，用于支撐基片的周緣部分；以及第二支撐部件，分別設(shè)置在形成容器主體的該對(duì)側(cè)壁上，并且位于容器主體的內(nèi)壁一側(cè)，用于支撐基片的周緣部分，其中在與基片的周緣部分接觸的第一支撐部件、第二支撐部件和各側(cè)壁的接觸部分中，至少第一支撐部件和第二支撐部件被覆蓋有摩擦性能低于容器主體摩擦性能的樹脂，并且在蓋子上設(shè)置支撐基片周緣部分的彈性保持器。
可以在容器主體的內(nèi)壁上設(shè)置支撐基片周緣部分的彈性保持器，并且至少該保持器的基片支撐部分可以覆蓋有摩擦性能低于容器主體摩擦性能的樹脂層?？梢栽谌萜髦黧w的頂部或周壁上有選擇性地形成用于確定基片狀態(tài)的透明窗口。
此外，第一和第二支撐部件可以整體形成，并且可以形成連接第一和第二支撐部件的中間部件，其厚度較小，因此該中間部件接觸不到基片。此外，關(guān)于摩擦性能較低的樹脂層，根據(jù)ASTM D1894測(cè)量時(shí)，其相對(duì)鋼的摩擦系數(shù)的測(cè)量值可以低于0.33，優(yōu)選為0.20，甚至更低。
在本發(fā)明中，在有可能與基片接觸的各部分中，至少第一和第二支撐部件通過接合(engagement)、模塑法等分別覆蓋有摩擦性能低于容器主體材料摩擦性能的摩擦層。因此，舉例來說，即使有震動(dòng)等作用在基片存儲(chǔ)容器上，也可以抑制因基片與第一和第二支撐部件摩擦而引起的基片的刮擦或塵埃的產(chǎn)生和附著于基片。


圖1是總體的透視說明圖，展示了根據(jù)本發(fā)明的基片存儲(chǔ)容器的第一實(shí)施方式；圖2是透視說明圖，展示了從圖1所示的基片存儲(chǔ)容器的容器主體上取下蓋子元件后的情形；圖3是平面剖視圖，展示了根據(jù)本發(fā)明的基片存儲(chǔ)容器的第一實(shí)施方式；圖4是說明圖，展示了根據(jù)本發(fā)明的基片存儲(chǔ)容器的第一實(shí)施方式中的側(cè)壁；圖5是平面說明圖，展示了根據(jù)本發(fā)明的基片存儲(chǔ)容器的第一實(shí)施方式中的側(cè)壁；圖6是沿根據(jù)本發(fā)明的基片存儲(chǔ)容器及其制造方法的第一實(shí)施方式中圖5的VI-VI線得到的剖視圖；圖7是沿根據(jù)本發(fā)明的基片存儲(chǔ)容器及其制造方法的第一實(shí)施方式中圖5中的VII-VII線得到的剖視圖；
圖8是沿根據(jù)本發(fā)明的基片存儲(chǔ)容器及其制造方法的第一實(shí)施方式中圖5中的VIII-VIII線得到的剖視圖；圖9是沿根據(jù)本發(fā)明的基片存儲(chǔ)容器及其制造方法的第一實(shí)施方式中圖5中的IX-IX線得到的剖視圖；圖10是平面剖視圖，展示了根據(jù)本發(fā)明的基片存儲(chǔ)容器的第二實(shí)施方式。
具體實(shí)施例方式
下面將參照

本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式。
圖1～9展示了如本發(fā)明的第一實(shí)施方式所述的用于裝運(yùn)的精密的基片存儲(chǔ)容器。如圖1～9所示，基片存儲(chǔ)容器100包括容器主體1、蓋子元件10、多個(gè)第一支撐部件20和多個(gè)第二支撐部件24。
容器主體1包括開口部分1F、與開口部分1F相反的后壁1B和兩對(duì)側(cè)壁4和側(cè)壁4U，容器主體1在側(cè)壁4和側(cè)壁4U之間存儲(chǔ)有多個(gè)基片W。蓋子元件10封閉容器主體1的前側(cè)，即容器主體1的開口部分1F。
多個(gè)第一支撐部件20分別設(shè)置在形成容器主體1的一部分的這對(duì)左、右側(cè)壁4上，并且位于容器主體1的前側(cè)。具體地說，一對(duì)第一支撐部件20相對(duì)設(shè)置在每個(gè)側(cè)壁4上以支撐基片W的周緣部分，并且位于容器主體1的開口部分1F一側(cè)。
多個(gè)第二支撐部件24分別設(shè)置在形成容器主體1的一部分的這對(duì)左、右側(cè)壁4上，并且位于容器主體1的后側(cè)。具體地說，一對(duì)第二支撐部件24相對(duì)設(shè)置在每個(gè)側(cè)壁4上以支撐基片W的周緣部分，并且位于容器主體1的后壁1B一側(cè)。換句話說，第二支撐部件24位于后壁1B和第一支撐部件20之間。
在各側(cè)壁4上形成接觸部分5，以便與基片W的周緣部分接觸，這樣，舉例來說，當(dāng)震動(dòng)等作用在基片存儲(chǔ)容器100上時(shí)，基片W與接觸部分5接觸。第一和第二支撐部件20和24被覆蓋有摩擦性能低于容器主體的摩擦性能的樹脂層30。
如圖3所示，基片W為薄的圓形半導(dǎo)體晶片，其直徑例如為300mm。具體地說，基片W由硅晶片制成，它的前、后表面至少有一面進(jìn)行了鏡面光潔度處理。在每個(gè)晶片的周緣部分上有選擇性地形成定位平臺(tái)或一道槽，它們?cè)谄矫鎴D中看起來呈半橢圓形，并且都用于對(duì)齊，因此基片可以由專門的機(jī)器人插入和取出。
容器主體1包括兩對(duì)凹陷1D，相對(duì)地形成在開口部分1F的內(nèi)周上(僅有下面的凹陷1D示出在圖2中)。蓋子元件10包括鎖定機(jī)構(gòu)(未示出)，用于將蓋子元件10緊固到容器主體1上。該鎖定機(jī)構(gòu)被設(shè)置在蓋子元件10的內(nèi)側(cè)，并且包括從容器主體1的外周伸出的嚙合部分。通過操作通孔42操作該固定機(jī)構(gòu)，將固定機(jī)構(gòu)安裝在容器主體1上，或者從容器主體1上拆除。除了此固定機(jī)構(gòu)，還可以在蓋子元件10的兩側(cè)部上設(shè)置錨固機(jī)構(gòu)，以便與從容器主體1的側(cè)壁4的前部伸出的錨固塊41嚙合。
如圖1～3所示，容器主體1通過內(nèi)嵌模(insert molding)形成前開口且透明的箱型容器主體，在內(nèi)嵌模中，一對(duì)側(cè)壁4被插入到專用模具中，模具中注有預(yù)定材料。容器主體1如此起作用，即多個(gè)基片W(例如25或26個(gè)基片)在垂直方向上排成一排并以特定的節(jié)距存儲(chǔ)。
對(duì)形成容器主體1的材料沒有特別限制。例如，可以選擇使用諸如聚碳酸酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯(polybutylene terephthalate)、環(huán)烯聚合物、聚醚酰亞胺、聚醚醚酮等樹脂。另外，通過加入碳、碳纖維、碳納米管、金屬纖維、金屬氧化物、導(dǎo)電聚合物等而制成的導(dǎo)電樹脂可以加入到這類樹脂或合金樹脂中。在這些材料中，尤其希望使用透明度較高的聚碳酸酯。
如圖1～3所示，在容器主體1中，前部的周緣部分向外彎曲，在剖視圖(見圖3)中看基本上成L形，從而形成邊緣部分2。用于定位的定位配件設(shè)置在底面的前部?jī)蓚?cè)，和底面的后部中心。將由自動(dòng)運(yùn)輸機(jī)保持的機(jī)器人凸緣(robotic flange)3以可拆卸的方式安裝在頂部的中部。
如圖3、5等所示，容器主體1的兩側(cè)壁4分別形成為彎曲的形狀，以與基片W的形狀對(duì)應(yīng)，從而形成多個(gè)第一支撐部件20和第二支撐部件24。在制造容器主體1之前先形成第一和第二支撐部件20、24。然后，在與基片W的周緣部分接觸的接觸部分5以及第一和第二支撐部件20和24由樹脂層30覆蓋之后，通過將側(cè)壁4插入到制造容器主體1的模具內(nèi)，形成容器主體1的一部分。
如圖3所示，蓋子元件10包括殼體11和蓋子12。殼體11的橫截面基本上為盤形，并以可拆卸的方式與容器主體1前側(cè)的邊緣部分2嚙合。如上所述，用于將蓋子元件10緊固到容器主體1上的鎖定機(jī)構(gòu)設(shè)置在蓋子元件10上。蓋子元件10的鎖定機(jī)構(gòu)通過操作與容器主體1嚙合，并與外界隔離。這種類型的鎖定機(jī)構(gòu)的實(shí)例公開在美國專利申請(qǐng)公布No.2005/0230398和美國專利申請(qǐng)公布No.2005/0274645。蓋子12安裝在殼體11的表面上。蓋子元件10的彈性前保持器13保持著基片W的前部的周緣，并且安裝在殼體11的與容器主體1的內(nèi)側(cè)(即后壁)相對(duì)的表面上。此外，環(huán)形的密封墊14與殼體11的周壁嚙合。密封墊14經(jīng)受壓縮變形，用于密封容器主體1。
蓋子元件10上澆鑄有樹脂，例如聚碳酸酯、含氟的聚碳酸酯、聚醚砜(polyether sulfone)、聚醚酰亞胺、聚醚醚酮等。
如圖2～5所示，多個(gè)第一和第二支撐部件20和24分別從容器主體1的兩側(cè)壁(具體地說，兩側(cè)壁的內(nèi)表面)向內(nèi)伸出。在每個(gè)側(cè)壁上的這些第一和第二支撐部件20和24之間形成間隙25(見圖3和5)。
如圖3～7所示，多個(gè)第一支撐部件20在形成容器主體1的各側(cè)壁4的內(nèi)表面上沿縱向以指定的節(jié)距平行排列。此外，第一支撐部件20排列在更靠近容器主體1前側(cè)的位置，并通過樹脂層30以水平姿勢(shì)支撐著基片W的側(cè)部的周緣。每個(gè)第一支撐部件20都覆蓋有樹脂層30，并且形成為在平面圖(見圖3和5)中看基本上呈半圓形，且具有薄區(qū)域21和厚區(qū)域22。薄區(qū)域21從相應(yīng)側(cè)壁4的內(nèi)表面向容器主體1的內(nèi)側(cè)伸出，并通過樹脂層30以水平姿勢(shì)支撐著基片W的側(cè)部的周緣。厚區(qū)域22形成在薄區(qū)域21的外側(cè)(即側(cè)壁4一側(cè))，并防止基片彈出或移動(dòng)。由薄區(qū)域21和厚區(qū)域22形成與基片W厚度相當(dāng)?shù)耐怀霾?bump)23，突出部23使得薄區(qū)域21的形狀在平面圖中看來為圓弧形。
如圖3～5、8和9所示，多個(gè)第二支撐部件24在形成容器主體1一部分的各側(cè)壁4的內(nèi)表面上沿縱向以指定的節(jié)距排成一排。第二支撐部件24排列在更靠近容器主體1后壁1B的位置，并通過樹脂層30以水平姿勢(shì)支撐著基片W的側(cè)部周緣。每個(gè)第二支撐部件24都覆蓋有樹脂層30，并且形成在剖視圖(見圖8和9)中看來基本上為平面的形狀。薄區(qū)域21A從側(cè)壁4的內(nèi)表面向容器主體1的內(nèi)側(cè)伸出，并且每個(gè)薄區(qū)域21A通過樹脂層30以水平姿勢(shì)支撐著基片W的側(cè)部的周緣。在該實(shí)施例中，“薄”區(qū)域21A指比第一支撐部件20的厚區(qū)域薄的薄區(qū)域21A。每個(gè)薄區(qū)域21A的上表面形成在與第一支撐部件20的薄區(qū)域21之一的上表面在垂直方向上對(duì)應(yīng)的位置。此外，每個(gè)第二支撐部件24形成為在平面圖中看來基本上為梯形的形狀。
樹脂層30用兩色澆鑄法由摩擦性能比容器主體1的材料摩擦性能低而抗磨損性能比后者抗磨損性能高的材料形成。具體而言，聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯(PBT)或聚醚醚酮(PEEK)被用作樹脂層30材料。當(dāng)根據(jù)ASTM(美國試驗(yàn)和材料協(xié)會(huì))D1894來測(cè)量樹脂層30相對(duì)鋼的摩擦系數(shù)時(shí)，獲得的測(cè)量值低于0.33，優(yōu)選為0.20甚至更低。
當(dāng)滑動(dòng)性能較差的基片W與接觸部分5接觸時(shí)，這些樹脂層30用于覆蓋各側(cè)壁4的接觸部分5。此外，如上所述，樹脂層30還用于覆蓋第一支撐部件20的前、后表面以及第二支撐部件24的前、后表面。如圖3～5所示，在基片W由這對(duì)側(cè)壁4上的第一和第二支撐部件20和24支撐的情況下，當(dāng)基片支撐在第一支撐部件20和第二支撐部件24上時(shí)，各側(cè)壁4的接觸部分5的一個(gè)例子是位于下述相交中心線的延長線EL上的多個(gè)內(nèi)表面部分6，其中相交中心線與通過基片W的中心線中平行于基片W的插入和取出方向的中心線CL垂直。此外，接觸部分5的另一個(gè)例子是各側(cè)壁4的彎曲的后部的內(nèi)表面7(見圖3)。
在按上述方法制造容器主體1的情況下，首先往側(cè)壁4的模具中注入聚碳酸酯之類的材料，然后整體形成各側(cè)壁4、第一支撐部件20和第二支撐部件24。同時(shí)，根據(jù)側(cè)壁4的模具的形狀，在容器主體1的側(cè)壁上形成與基片的周緣部分接觸的接觸部分5。
此外，模具中注有摩擦性能較低而抗磨損性能較高的樹脂。然后，用樹脂層30覆蓋將要與基片W的周緣部分接觸的第一支撐部件20、第二支撐部件24以及各側(cè)壁4的接觸部分5。因此，接觸部分5、第一支撐部件20和第二支撐部件24都覆蓋有樹脂層30，且與樹脂層30形成一體。
在澆鑄樹脂層30時(shí)，從側(cè)壁4的外側(cè)向模具中注入摩擦性能較低而抗磨損性能較高的樹脂。如圖7和9所示，希望樹脂層30包括形成在側(cè)壁4上的凸緣8。在此情況下，用于形成樹脂層30的樹脂從各側(cè)壁4的外側(cè)經(jīng)形狀與凸緣8的形狀對(duì)應(yīng)的通孔注入。每個(gè)凸緣8具有在側(cè)壁4的外表面附近的外部8a和在側(cè)壁4的內(nèi)表面附近的內(nèi)部8b，并且外部8a的尺寸可以大于內(nèi)部8b的尺寸(見圖7和9)。由于有這些凸緣8，因此覆蓋部分(即樹脂層30)不會(huì)滑出。具體地說，如果首先形成尺寸較大的凸緣8，那么即使在側(cè)壁4樹脂和樹脂層30樹脂之間的界面的附著強(qiáng)度較低以致不可能指望有足夠附著強(qiáng)度的情況下，也可以抑制或防止樹脂覆蓋層30剝落或位置偏移。
在提供了凸緣8的情況下，在側(cè)壁4上形成形狀與凸緣8的形狀對(duì)應(yīng)的通孔，凸緣8在側(cè)壁外表面上的尺寸大于在側(cè)壁內(nèi)表面上的尺寸。然后從側(cè)壁的外側(cè)經(jīng)通孔往模具中注入用于形成樹脂層30的樹脂。
在各側(cè)壁4的接觸部分5以及第一和第二支撐部件20和24由此而都覆蓋上樹脂層30之后，將該對(duì)側(cè)壁4插入到容器主體1的模具中。然后將聚碳酸酯之類的樹脂注入到模具中，并使之冷卻和硬化，這樣就可以制造出側(cè)壁4整體形成在其兩側(cè)上的容器主體1。
在上述構(gòu)造中，接觸基片W的大部分容器主體1覆蓋有獨(dú)立于容器主體1的樹脂層30，因此改善了相對(duì)基片W的滑動(dòng)性能。因此，即使基片存儲(chǔ)容器受到震動(dòng)，也可以防止因基片W的周緣部分或后表面與第一和第二支撐部件20和24摩擦而導(dǎo)致基片W損壞。結(jié)果，可以顯著地抑制或防止產(chǎn)品的性能或產(chǎn)率下降。
此外，可以通過使從基片W的周緣部分上不予考慮的區(qū)域(例如沿徑向向內(nèi)3mm)變窄而提高產(chǎn)率。此外，由于常規(guī)的具有沿基片周緣彎曲的形狀的支撐部件被分成第一和第二支撐部件20和24，并且兩者單獨(dú)延伸，因此在第一和第二支撐部件20和24之間形成間隙25。因此，可以切實(shí)減小與基片W的接觸區(qū)域，以致可以大大減少有機(jī)物的污染。
接下來，圖10展示了根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施方式的基片存儲(chǔ)容器200。在該例子中，一對(duì)有彈性的左和右后保持器9支撐著位于后部的基片W的周緣部分，并且這對(duì)保持器被設(shè)置于后壁1B上(具體地說，安裝在后壁1B的內(nèi)表面上)，后壁1B是容器主體1的內(nèi)壁。在基片存儲(chǔ)容器200中，第一和第二支撐部件20、24由中間部件122連接。因此，每套第一和第二支撐部件20和24都形成連續(xù)的整體，而不是單獨(dú)形成。連接第一和第二支撐部件20和24的中間部件122的邊緣呈平面的弧形，并且中間部件122的厚度小于第一和第二支撐部件20和24的厚度。因此，中間部件122在垂直方向上與插入的基片W隔開，并且被制成不與基片W后表面的周緣部件接觸的形狀。因此，即使基片存儲(chǔ)容器受到震動(dòng)，也有可以像第一實(shí)施方式一樣防止損壞基片W。
多對(duì)有彈性的后保持器9在垂直方向上排成一排。各后保持器9在彈性、抗磨損能力和低摩擦性能方面都較好，并且形成基本上U形或V形的橫截面。后保持器9由不容易污染基片W的材料(例如聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯、聚醚醚酮、聚酯型彈性體、聚烯烴型彈性體等)形成。
像第一實(shí)施方式中的第一支撐部件20一樣，這里的每個(gè)第一支撐部件20也有薄區(qū)域21和厚區(qū)域22。薄區(qū)域21從相應(yīng)側(cè)壁4的內(nèi)表面向容器主體1的內(nèi)側(cè)伸出，并通過樹脂層30以水平姿勢(shì)支撐著基片W的側(cè)部周緣。厚區(qū)域22形成在薄區(qū)域21的外側(cè)，它可防止基片W彈出或移動(dòng)。在薄區(qū)域21和厚區(qū)域22之間形成與基片W的厚度相當(dāng)?shù)耐怀霾?3。其余部件與上述第一實(shí)施方式中的一樣，因此這里不再描述這些部件。
與第一實(shí)施方式基本相似的作用和效果也有望出現(xiàn)在這一第二實(shí)施方式中。此外，由于各基片W在前、后方向上被后保持器9和具有減震效果的前保持器13夾住并受到保護(hù)，顯然，即使基片存儲(chǔ)容器在運(yùn)輸過程中受到震動(dòng)，基片W也不會(huì)咯咯作響，并且基片可以受到穩(wěn)定的保持。
此外，在上述各實(shí)施方式中，蓋子元件10包括鎖定機(jī)構(gòu)，該鎖定機(jī)構(gòu)可通過操作通孔42從外部操作。然而，本發(fā)明并不局限于此。例如，代替或者除了鎖定機(jī)構(gòu)之外，還可以在蓋子元件10的側(cè)部上設(shè)置錨固機(jī)構(gòu)，以便與從容器主體1的側(cè)壁4的前部伸出的錨固塊41嚙合。具體地說，錨固機(jī)構(gòu)包括局部中空的錨固件，它們分別支撐在蓋子元件10的兩側(cè)部上，以便錨固件可以圍繞蓋子元件10的側(cè)部上的軸線旋轉(zhuǎn)，并且以可拆卸的方式與容器主體1的錨固塊41嚙合。這種類型的錨固機(jī)構(gòu)在例如日本專利申請(qǐng)公開未決No.2004-111830中。此外，在基片W由那對(duì)側(cè)壁4上的第一和第二支撐部件20和24支撐的情況下，與基片W接觸的各側(cè)壁4的接觸部分5也可以是除了下述內(nèi)表面部分6之外的其他部件，所述內(nèi)表面部分6位于下述相交中心線的延長線EL上，所述相交中心線與通過基片W的中心線中平行于基片W的插入和取出方向的中心線CL垂直。例如，接觸部分5可以是各側(cè)壁4的多個(gè)彎曲的后部?jī)?nèi)表面7。
此外，各側(cè)壁4的彎曲的后部?jī)?nèi)表面7和第二支撐部件24也可以由連續(xù)的樹脂層30覆蓋，或者由單獨(dú)覆蓋各側(cè)壁4和第二支撐部件24的層覆蓋。此外，薄區(qū)域21、厚區(qū)域22和突出部23也可以不是由樹脂層30形成的形狀，而是將要由樹脂層30覆蓋的第一支撐部件20的原始形狀。此外，包括第一和第二支撐部件20和24在內(nèi)的側(cè)壁4也可以通過被插入到容器主體1的模具內(nèi)而進(jìn)行整體澆鑄。
此外，側(cè)壁4和容器主體1也可以通過激光焊接、熱熔合或超聲熔合整體形成。在此情況下，可以將密封元件(例如填料等)放置在各側(cè)壁4和容器主體1的其余部件之間實(shí)現(xiàn)整體化。此外，此密封元件也可以預(yù)先與側(cè)壁4或容器主體1形成一體，或者可以形成單獨(dú)的元件。
本發(fā)明能夠抑制因基片W和支撐部件摩擦而造成的基片W的刮擦和塵埃的產(chǎn)生。此外，本發(fā)明還能夠抑制對(duì)基片的周緣部分和后表面的污染和刮擦。
此外，如果在容器主體的內(nèi)表面上設(shè)置支撐基片W周緣部分的彈性保持器9、13，那么，即使基片存儲(chǔ)容器200在移動(dòng)過程中受到震動(dòng)，也可以抑制基片W松動(dòng)。
此外，如果分別使第一和第二支撐部件20和24從容器主體的兩側(cè)壁單獨(dú)伸出，并且如果在這些第一和第二支撐部件20和24之間形成間隙25，那么可以減少第一和第二支撐部件20和24中材料的用量。此外，由于可以減小與基片的接觸面積，那么就可以減少因接觸造成的污染。
這里，適用于本發(fā)明的基片包括各種單個(gè)或多個(gè)的半導(dǎo)體晶片(例如200mm、300mm或450mm類型的晶片)、液晶玻璃、遮光玻璃和精密基片(例如鋁片)，等等。容器主體1可以是前開口型、頂開口型、FOSB型或FOUB型，也可以是透明的、不透明的或半透明的，還可以是導(dǎo)電的或絕緣的。
權(quán)利要求
1.一種基片存儲(chǔ)容器，包括容器主體，包括后壁和一對(duì)側(cè)壁，并用于將基片存儲(chǔ)在所述側(cè)壁之間；相對(duì)設(shè)置在每個(gè)側(cè)壁上的第一支撐部件，用于支撐基片的周緣部分；以及相對(duì)設(shè)置在每個(gè)側(cè)壁上的第二支撐部件，用于支撐基片的周緣部分，并且位于后壁和第一支撐部件之間，其中第一支撐部件和第二支撐部件被覆蓋有摩擦性能低于容器主體摩擦性能的樹脂層。
2.如權(quán)利要求1所述的基片存儲(chǔ)容器，還包括設(shè)置在容器主體后壁上的彈性保持器，用于支撐基片的周緣部分。
3.如權(quán)利要求1所述的基片存儲(chǔ)容器，其中所述第一支撐部件和第二支撐部件分別從容器主體的側(cè)壁上伸出，并且在每個(gè)側(cè)壁上的第一支撐部件和第二支撐部件之間形成間隙。
4.如權(quán)利要求1所述的基片存儲(chǔ)容器，其中容器主體的側(cè)壁包括接觸部分，用于與基片的周緣部分接觸，當(dāng)基片被支撐在第一支撐部件和第二支撐部件上時(shí)，該接觸部分位于一相交中心線的延長線上，該相交中心線與通過基片的中心線中平行于基片的插入和取出方向的中心線垂直，并且該接觸部分被覆蓋有所述樹脂層。
5.如權(quán)利要求1所述的基片存儲(chǔ)容器，其中容器主體的側(cè)壁包括接觸部分，用于與基片的周緣部分接觸，并且該接觸部分被覆蓋有所述樹脂層。
6.如權(quán)利要求1所述的基片存儲(chǔ)容器，其中所述容器主體由包括聚碳酸酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯、環(huán)烯聚合物、聚醚酰亞胺、聚醚醚酮和合金樹脂中的一種的材料制成，并且所述樹脂層由聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯和聚醚醚酮中的一種制成。
7.如權(quán)利要求1所述的基片存儲(chǔ)容器，其中所述樹脂層包括形成在側(cè)壁內(nèi)側(cè)的凸緣，該凸緣具有在側(cè)壁外表面附近的外部和在側(cè)壁內(nèi)表面附近的內(nèi)部，并且外部的尺寸大于內(nèi)部的尺寸。
8.一種制造基片存儲(chǔ)容器的方法，該存儲(chǔ)容器包括容器主體，該主體具有后壁和一對(duì)側(cè)壁，用于將基片存儲(chǔ)在所述側(cè)壁之間；相對(duì)設(shè)置在每個(gè)側(cè)壁上的第一支撐部件，用于支撐基片的周緣部分；以及相對(duì)設(shè)置在每個(gè)側(cè)壁上的第二支撐部件，用于支撐基片的周緣部分，并且位于后壁和第一支撐部件之間，所述方法包括在容器主體的側(cè)壁上形成第一支撐部件和第二支撐部件；用摩擦性能低于容器主體摩擦性能的樹脂層覆蓋所述第一支撐部件和第二支撐部件；以及通過將側(cè)壁插入到用于形成容器主體后壁的模具內(nèi)，形成容器主體。
9.如權(quán)利要求8所述的制造基片存儲(chǔ)容器的方法，還包括用所述樹脂層覆蓋與容器主體側(cè)壁上基片的周緣部分接觸的接觸部分。
10.如權(quán)利要求8所述的制造基片存儲(chǔ)容器的方法，還包括在側(cè)壁上形成通孔，該通孔的形狀與凸緣的形狀對(duì)應(yīng)，該凸緣具有在側(cè)壁外表面附近的外部和在側(cè)壁內(nèi)表面附近的內(nèi)部，其中凸緣外部的尺寸可以大于內(nèi)部的尺寸；以及從側(cè)壁外側(cè)經(jīng)該通孔注入樹脂以形成樹脂層。
全文摘要
本發(fā)明公開一種基片存儲(chǔ)容器，包括容器主體、第一支撐部件和第二支撐部件。容器主體包括后壁和一對(duì)側(cè)壁，用于將基片存儲(chǔ)在兩側(cè)壁之間。第一支撐部件相對(duì)設(shè)置在每個(gè)側(cè)壁上，用于支撐基片的周緣部分。第二支撐部件相對(duì)設(shè)置在每個(gè)側(cè)壁上，用于支撐基片的周緣部分，并且位于后壁和第一支撐部件之間。第一支撐部件和第二支撐部件覆蓋有摩擦性能低于容器主體摩擦性能的樹脂層。
文檔編號(hào)B29B11/14GK1865096SQ20061008057
公開日2006年11月22日 申請(qǐng)日期2006年5月17日 優(yōu)先權(quán)日2005年5月17日
發(fā)明者長谷川晃裕, 三村博 申請(qǐng)人:信越聚合物株式會(huì)社