專利名稱：用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性拋光液的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及以稀土氧化物為基礎(chǔ)的、用于玻璃、含硅化合物表面加工的酸性拋光液技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性拋光液。
背景技術(shù)：
當前玻璃以及含硅化合物拋光主要以大顆粒稀土氧化物粉做拋光摩擦劑，總體拋光速率低，分散穩(wěn)定性差，容易導致嚴重的表面劃傷，還存在平化拋光效率低等缺陷。長時間拋光往往大大降低拋光效率，造成拋光機的迅速磨損，生產(chǎn)效率低，以及大量的耗材消費。同時，現(xiàn)在拋光エ藝所用拋光粉固含量高，難于清洗，固體廢料量大，對環(huán)境污染與處理造成很大負擔。稀土拋光粉的拋光效率在學術(shù)界普遍認為在與玻璃表面的零電位時的pH條件下 是最高的。這也是拋光粉配置成拋光液時的PH值接近中性的原因。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有的拋光液拋光效率低的不足，本發(fā)明提供了一種用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性拋光液。本發(fā)明的目的是提供ー種稀土氧化物為基礎(chǔ)的玻璃以及含硅化合物的酸性拋光液，與傳統(tǒng)稀土氧化物拋光粉相比，該分散穩(wěn)定性好、拋光效率高。本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性拋光液，包括含鈰稀土氧化物拋光粉，分子量100-4000的含有酸酐或酰胺基團的羧酸聚合物，PH值為2. 0-5. O。根據(jù)本發(fā)明的另ー個實施例，進ー步包括含鈰稀土氧化物的鈰含量在稀土氧化物中不少于45%wt。根據(jù)本發(fā)明的另ー個實施例，進ー步包括含有羧基的高分子聚合物為聚合馬來酸酐，含羧基酰胺化合物，聚合氨基酸中的至少ー種。所述含酰胺基團的羧酸聚合物是聚丙烯酸酰胺。本發(fā)明酸性拋光液懸浮性強，不宣沉積，分散穩(wěn)定性好，在玻璃以及含硅化合物拋光吋，拋光效果穩(wěn)定，切削率高，拋光粉用量少，表面缺陷低，拋光無劃痕，可有效提高平化拋光效率。本發(fā)明的制備方法包括以下步驟
(1)將含有羧基的高分子聚合物為含羧基酰胺化合物加入水中，徹底溶解，攪拌均勻；
(2)含鈰稀土氧化物分散在如上液體中制成懸浮液；
(3)用堿調(diào)整混合懸浮液的pH為2.0-5. 0 ；
整個制備エ藝簡単、易于操作，方便生產(chǎn)，生產(chǎn)效率高，產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定。通過上述エ藝制備的玻璃以及含硅化合物拋光加速劑與拋光粉按1:5 1:20比例在適當?shù)娜軇┲谢旌?，可以廣泛應(yīng)用于玻璃以及含硅化合物的研磨拋光。
其中拋光粉為含鈰稀土氧化物，含鈰稀土氫氧化物，含鈰混合稀土氫氧化物，氧化鋁，氫氧化鋁，氧化鋯，氫氧化鋯，鉆石粉中的至少ー種。適當?shù)娜軇┦撬?。本發(fā)明的有益效果是，本發(fā)明的拋光液分散均勻、穩(wěn)定，整個制備エ藝簡單、易于操作，方便生產(chǎn)，生產(chǎn)效率高，產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定。同時本發(fā)明拋光液中不含有稀土氧化劑，使用時則通過加入小粒徑的非稀土氧化物如氧化鋁等或少量稀土氧化物拋光粉形成拋光液從而對玻璃或含硅化合物進行拋光，這樣大大減少了被拋光物品的表面劃傷，降低拋光機的磨損，延長了拋光機的使用壽命。且配制拋光液時拋光粉用量少，易清潔，還減少了對環(huán)境的污染。
具體實施例方式以下結(jié)合具體實施例對本發(fā)明做進ー步詳細說明。實施例一
稱取250克環(huán)氧琥珀酸納，加入5000克水中，攪拌均勻。再加入550克市場上購買的天驕清美混合稀土拋光粉，攪勻，形成拋光液，用氫氧化鈉調(diào)節(jié)PH至2. 5,3. 5,4. 5，即可使用。將所制樣品在Logitech⑶P單面拋光機上拋光。下壓lpsi,下盤以及載盤轉(zhuǎn)速50RPM，拋光液流速100ml/分鐘。該系列拋光液拋光速率分別為I. 22，I. 18，I. 07微米/分鐘，玻璃表面無劃痕，拋光機無損傷。實施例ニ
分別稱取3，35，350克水解聚馬來酸酐(分子量800)，100克聚環(huán)氧丙烷醇醚，加入5000克水中，攪拌均勻。再加入550克市場上購買的天驕清美混合稀土拋光粉，攪勻，形成拋光 液，調(diào)節(jié)PH至3. 5，即可使用。將所制樣品在Logitech⑶P單面拋光機上拋光。下壓lpsi,下盤以及載盤轉(zhuǎn)速50RPM，拋光液流速100ml/分鐘。該系列拋光液拋光速率分別為0. 88，I. 03，I. 32微米/分鐘，玻璃表面無劃痕，拋光機無損傷。比較例
在5000克水中，加入550克市場上購買的天驕清美混合稀土拋光粉，攪勻，形成拋光液，調(diào)節(jié)pH至2. 5，3. 5，4. 5，5. 5，7. 5，即可使用。將所制樣品在Logitech⑶P單面拋光機上拋光。下壓lpsi,下盤以及載盤轉(zhuǎn)速50RPM，拋光液流速100ml/分鐘。該系列拋光液拋光速率分別為0. 53，0. 67，0. 70，0. 71，0. 85微米/分鐘，玻璃表面無劃痕，拋光機無損傷。
權(quán)利要求
1.一種用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性拋光液，其特征是，它包括含鈰稀土氧化物拋光粉，分子量100-4000的含有酸酐或酰胺基團的羧酸聚合物，pH值為2. 0-5. O。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性拋光液，其特征是，所述含鈰稀土氧化物拋光粉在液體中的比例為0. l-60%wt。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性拋光液，其特征是，所述分子量100-4000的含有酸酐或酰胺基團的羧酸聚合物的含量為0. l-10%wt。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性拋光液，其特征是，所述分子量100-4000的含有酸酐或酰胺基團的羧酸聚合物的含量為0. 2-5. 0%wto
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性拋光液，其特征是，分子量100-4000的含有酸酐或酰胺基團的羧酸聚合物的含量為0. 3-1. 0%wto
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性拋光液，其特征是，所述含酸酐的羧酸聚合物是聚馬來酸酐。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性拋光液，其特征是，所述含酰胺基團的羧酸聚合物是聚丙烯酸酰胺。
全文摘要
本發(fā)明涉及以稀土氧化物為基礎(chǔ)的、用于玻璃、含硅化合物表面加工的酸性拋光液技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性拋光液。它包括含鈰稀土氧化物拋光粉，分子量100-4000的含有酸酐或酰胺基團的羧酸聚合物，pH值為2.0-5.0。本發(fā)明的拋光液分散均勻，生產(chǎn)效率高，產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定。同時本發(fā)明大大減少了被拋光物品的表面劃傷，降低拋光機的磨損，延長了拋光機的使用壽命。且配制拋光液時拋光粉用量少，易清潔，減少了對環(huán)境的污染。
文檔編號C09G1/02GK102649897SQ20121011238
公開日2012年8月29日 申請日期2012年4月17日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月17日
發(fā)明者周濤, 孫韜 申請人:江蘇中晶科技有限公司