專利名稱：噴射碗、包括所述碗的旋轉噴射器以及包括所述噴射器的噴射系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于噴射涂敷產品的旋轉噴射器的噴射碗。本發(fā)明還涉及一種包括這樣的碗的涂敷產品噴射器以及一種用于結合了這樣的噴射器的噴射涂敷產品的系統(tǒng)。
背景技術：
在涂敷產品噴射系統(tǒng)中，公知借助提供有涂敷產品并且以通常在2,000至120,000轉/分之間的速度旋轉的旋轉元件來噴射涂敷產品，該旋轉元件稱為碗或者盤。以所討論的速度，該碗必須盡可能輕且平衡，以便盡可能避免失衡，尤其是在用于旋轉驅動的裝置包括空氣和/或磁軸承渦輪機的情況下。
例如從WO-A-94/12286公知，借助能夠徑向膨脹的安裝環(huán)把碗連接到轉子。例如從WO-A-01/62396也公知，碗與渦輪機的轉子之間使用磁耦合裝置。這些耦合裝置包括永磁體，而該永磁體在所述碗上或者所述渦輪機轉子上裝配較為復雜，尤其是為了避免這些磁體在離心力的作用下爆裂。這樣的組裝經常防礙磁耦合磁體的迅速更換。此外，旋轉部分的平衡必須盡可能理想，以便限制離心力的作用。因此，所使用的這個或者每個磁體必須在旋轉中保持平衡，這不易實現，這是因為組成磁體的材料不具有各向同性的密度，并且因為這樣的材料是易碎的，由此很難機加工。

發(fā)明內容
本發(fā)明的具體目的在于，通過提供一種噴射碗來克服這些缺陷，該噴射碗由于有效的磁耦合而可由設置于其端部的轉子容易地進行驅動，而無需在噴射器的旋轉部分上裝配永磁體。
在這樣的思路中，本發(fā)明涉及一種用于噴射涂敷產品的旋轉噴射器的噴射碗，其特征在于，該噴射碗裝配有第一磁耦合裝置，該第一磁耦合裝置適于與固定在該噴射器的非旋轉部分上的第二互補磁耦合裝置相配合，該第一和第二耦合裝置適于相對于該碗的旋轉軸線施加至少部分軸向的力，該力促使該碗與對應的驅動元件旋轉耦合。
由于本發(fā)明，由所述磁耦合產生的力使得可將所述碗與該碗的驅動裝置-具體是渦輪機的轉子相連接，即使旋轉的碗與該噴射器的非旋轉部分之間出現磁耦合的情況也是如此。因此，可設置為將所述的或者每個耦合磁體安裝在該非旋轉部分上，所述磁體在這樣的情況下不必保持平衡。
根據有利的但是非強制性的方面，噴射碗可結合一個或多個下列特征-由所述碗支承的耦合裝置設置為使得耦合力是基本上軸向的。
-凸形部件，其外形整體上是截錐形的，適于接合到中央殼體中，該中央殼體具有制成在用于旋轉驅動的元件中的對應形狀，所述碗能在旋轉中通過上述凸形部件和殼體之間的附著-即由耦合裝置所產生的軸向力-與該元件連接。在一種變化形式中，所述碗形成整體上截錐形的殼體，而與所述驅動元件固定在一起的對應形狀的凸形部分設置為接合在該殼體中，并且由于上述軸向力可通過粘附而將碗與驅動元件旋轉連接。
-第一磁耦合裝置形成環(huán)形或者截錐形的表面，該表面限定所述磁耦合裝置之間的氣隙的界限，而該表面的徑向寬度比第二耦合裝置的整個徑向寬度更大。由于本發(fā)明的此方面，該氣隙中的磁耦合力基本上保持為軸向，包括在耦合裝置之間徑向偏置的情況下也是如此，這避免了磁耦合力在所述碗上施加可能導致噴射器的旋轉部分與非旋轉部分之間相接觸的不平衡力。
-第一磁耦合裝置由繞碗的主體安裝或者旋緊的磁性材料制成的環(huán)形元件構成，并且形成環(huán)形或者截錐形的表面，該表面與第二耦合裝置一起限定了所述氣隙。
本發(fā)明還涉及一種噴射涂敷產品的旋轉噴射器，該旋轉噴射器包括碗和用于在旋轉中驅動該碗的元件，該噴射器的特征在于，該噴射器還包括用于在噴射器的碗與非旋轉部分之間磁耦合的裝置，這些裝置適于相對于碗的旋轉軸線施加至少部分軸向的力，該力促使前述碗與元件的旋轉耦合。
根據有利但非強制的方面，這樣的噴射器可結合更多的或者下列特征中的多個特征，采用任何技術上允許的組合-所述耦合裝置設置為使得所獲得的耦合力基本上是軸向的。
-前述的碗和元件分別設置有用于通過粘附而旋轉耦合的互補形狀的部分。
-該磁耦合裝置包括至少一個以環(huán)形方式繞碗的旋轉軸線設置并固定在非旋轉部分上的磁體，而由碗支承的耦合裝置具有環(huán)形或者截錐形的表面，該表面限定了由該碗支承的耦合裝置與該磁體之間的氣隙的界限，并且該表面的徑向寬度比該磁體的徑向寬度大。由于本發(fā)明的這個方面且具體來說在前述表面是環(huán)形時，磁耦合力基本上保持軸向，包括環(huán)形相互作用表面相對于磁體徑向偏置的情況也是如此。在該情況下，該表面的平均半徑可設置為基本上等于該磁體的平均半徑，和/或該磁體設置成通過兩個非磁性的或者具有低導磁率的材料體而在內部和在外部徑向作為邊界，而前述表面的徑向寬度比由這些材料體的徑向寬度增加的磁體的徑向寬度大。非磁性或者具有低導磁率的材料體可由空氣、由基于合金的鋁制成的環(huán)形環(huán)或在與噴射器的非旋轉部分固定在一起的容納體中填充有用于固定該磁體或每個磁體的粘膠劑的環(huán)形環(huán)構成。每個材料體的徑向寬度優(yōu)選比限定在前述表面與所述磁體之間的氣隙大，優(yōu)選至少三倍于該氣隙，并且更優(yōu)選五倍于該氣隙。此外，前述表面可設置成以相對于所述磁體和非磁性材料體徑向地向內和向外突出，使得突伸部至少大于該表面與該磁體之間的氣隙，優(yōu)選至少三倍于該氣隙，并且更優(yōu)選是該氣隙的五倍大小。
-磁耦合裝置的一部分集成在添加到噴射器的體部上并且軸向延伸的環(huán)形支架中。本發(fā)明的這個方面使得可為現有渦輪機配備所討論的環(huán)形支架，這使得現有噴射器可升級成根據本發(fā)明的噴射器。
-那些分別與碗和非旋轉部分固定在一起的磁耦合裝置部分之間的氣隙為使得這些軸向力具有5daN至20daN的強度。
-所述碗和/或驅動元件設置有用于裝配/拆卸的間隙，在這些元件之間的接觸面處出現污物的情況下，這避免了碗在驅動元件上的楔入。
-在磁耦合裝置之間的氣隙中提供空氣流，這避免了在這些氣隙中積聚污物，這樣的污物例如由于來自由碗所噴射的涂敷產品云狀物的固體或液體顆粒的到達而產生。
最后，本發(fā)明涉及一種用于噴射涂敷產品的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括至少一個以上所述的噴射器。這樣的系統(tǒng)比現有技術的系統(tǒng)更容易操作和維護，具體來說，對于將碗裝配在渦輪機上以及將其拆卸來說是容易的。


參照附圖閱讀下述僅以示例方式給出的、包括根據本發(fā)明的碗的噴射器的兩個實施方式形式的描述，將更容易理解本發(fā)明，附圖中圖1示出依據本發(fā)明實施方式的第一形式的涂敷產品噴射器的縱向截面，該噴射器結合了根據本發(fā)明的碗并且構成根據本發(fā)明的系統(tǒng)的一部分；圖2示出放大的圖1的細節(jié)II的視圖。
圖2A類似于圖2，但是僅示出偏置構造中的磁耦合元件，為了更清晰地反映該圖而夸大了該偏置。
圖3示出類似于圖1的截面，碗從噴射器的體部移開。
圖4示出了具有圖1至圖3的噴射器且部分剖開的立體圖。
圖5示意性地示出作為氣隙函數的磁耦合力的變化，以及圖6示出根據本發(fā)明的實施方式的第二形式的噴射器和碗的類似于圖2的截面。
具體實施例方式
圖1至圖4中所示的噴射器P從一個或多個源S供應以涂敷產品，并且例如通過由雙箭頭F1所示的基本上垂直的運動而相對于對面的位于系統(tǒng)I內的待噴涂物體O移位，以對這些物體進行噴涂。該噴射器P包括僅僅示出前端1——即朝著待涂敷物體O的部分——的空氣渦輪機。該端1由保護罩2包圍并且支撐繞渦輪機的轉子11的軸線X-X’旋轉的碗3。
轉子11能夠以每分鐘數萬轉——例如80000轉/分的速度驅動碗3，從而經噴射管18來自于源S的涂敷產品沿物體O的方向進行噴射，如箭頭F2所表示的。
根據本發(fā)明未示出的有利方面，所述噴射器P可以是靜電型的，即包括用于在涂敷產品從碗3的邊緣31釋放之前或之后對該涂敷產品進行靜電充電的裝置。如在這些圖中部分示出的，碗3可設置有切口32。
碗3包括兩件式的轂33與構成盤并形成表面35的體部34，所述表面用于涂敷產品沿邊緣31的方向的流動和分配。轂33是空心的并且形成縱向通道36，在碗3安裝在轉子11上時，該縱向通道居中于與軸線X-X’重合的軸線X3-X3’。所述軸線X3-X3’是體部34的對稱軸線，該體部例如由鈦制成。
由例如磁性不銹鋼的鐵磁材料制成的環(huán)4繞體部34安裝。該環(huán)4是一件式的并且包括環(huán)形邊緣41，該環(huán)形邊緣41設置有內螺紋，使得可通過旋擰而將環(huán)4固定在體部34的外螺紋37上。在一種變化形式中，環(huán)4可繞碗3用力裝配。根據另一變化形式，該環(huán)4可與體部34為一件式的。
環(huán)4包括整體上垂直于邊緣41的部分42且該部分42具有垂直于軸線X3-X3’的環(huán)形表面S42。l42表示表面S42的徑向寬度，該寬度是在軸線X3-X3’的徑向上測量的。
體部34形成用于穿入轉子11的中央殼體12中的凸形部分38。該部分38的外表面38a整體上是截錐形的并且朝碗3的后面(即背對邊緣31)會聚。殼體12的表面12a也是截錐形的并且沿轉子11的前面13的方向發(fā)散。α表示部分38的半頂角而β表示殼體12的半頂角。角度α和β基本相等，這使得表面38a與12a可表面接合。這樣的表面接合使得可通過粘附而將元件11和3旋轉連接。
根據本發(fā)明的變化形式(未示出)，碗可設置有與殼體12相似的整體上截錐形的殼體，而轉子同樣配備有類似于部分38的截錐形凸形部分，明顯地，這些元件也使得可通過粘附而連接元件11和3。
為了避免部分38楔入殼體12中，在表面38a與用于將體部34連接到表面S42的表面34b的接合處形成第一間隙38b。以徑向凹槽的形式在殼體12的底部設置第二間隙12b。在碗3安裝在轉子11上時，分別在殼體12的入口斜面12c和部分38的端緣38c的對面布置間隙38b和12b。這些間隙避免了部分38楔入到殼體12中時的污物。
渦輪機的體部15環(huán)繞轉子11并且實際上構成渦輪機的定子。該體部15不能旋轉運動。由例如磁性不銹鋼的磁性材料制成的支架5安裝在體部15的前面16上，該支架設置有中心為軸線X-X’的環(huán)形凹槽51并且在環(huán)形凹槽中同樣設置環(huán)形磁體52。磁體52由兩個粘膠劑層53和54保持在凹槽51的適當位置中，這兩個粘膠劑層在該磁體52兩側的每一側上徑向延伸。因而，粘膠劑層53和54形成兩個設置在該磁體52的每一側上的大致呈環(huán)形的墊圈?？紤]到可基于環(huán)氧樹脂膠合的粘膠劑的特性，這些墊圈是非磁性的。
代替一個單獨的磁體52，可將多個磁體設置在槽51中而共同形成一個環(huán)。所述磁體或者每個磁體可由鐵磁金屬或由裝載鐵磁金屬顆粒的合成樹脂制成，其中鐵磁金屬顆粒注入為使得這些顆粒在相同總體方向上定向。
代替粘膠劑層53和54，可使用非磁性的或者具有低導磁率的金屬——特別是鋁——的墊圈。同樣，只要磁體用另外的裝置固定在凹槽51中，可適用充滿空氣的材料體。
l52表示磁體52的徑向寬度。
l52和l54表示粘膠劑層或墊圈53和54的徑向寬度或相應厚度。
R52表示磁體52的平均半徑。R42表示表面42的平均半徑。半徑R42和R52基本上相等，這對應于以下事實，即在碗3安裝在轉子11上時，表面S42對著磁體52的外露表面S52并居中地設置在其上。因此，由磁體52形成的磁場通過環(huán)4的部分42重新封閉，如從圖2中的磁力線L的表示顯而易見的。
該磁場使得可在環(huán)4上平行于軸線X-X’——即軸向地施加作用力F3，并且用于將碗3牢固地作用在轉子11上，即將表面38a作用在表面12a上。由于此作用力，接觸的表面38a與12a旋轉連接，這使得碗3可由轉子11驅動。
應注意的是，作用力F3平行于圖2的平面中的軸線X-X’，在包含軸線X-X’的截面的任意平面中都是這樣，這是由于表面S42和S52垂直于軸線X-X’的緣故。
由于寬度l42大于寬度l52，并且實際上大于寬度于l52與寬度l53和l54的總和l‘52，由磁體52的偏置而引起的磁場通過環(huán)4的部分42重新封閉，即使環(huán)4的部分42相對于磁體52略微徑向偏移也是如此，如圖2A中所示。該圖對應于碗設置在轉子上的適當位置時碗3的軸線X3-X3’沒有與轉子11的軸線X-X’對正的情況。如果那樣的話，作用力F3基本上保持軸向，這不會招致碗3相對于轉子11沿徑向方向移動的風險，這樣的移動會導致這些部分之間的接觸區(qū)域12和38的損壞或者會導致轉子11的橫向移動，該轉子的橫向移動能夠損壞轉子自身的驅動裝置——例如氣輪機情況下的轉子鰭片。
只要寬度l42相對于寬度l52，l53和l54具有足夠大的值，半徑R42和R52不必相等。
e表示表面S52和S42之間產生的氣隙的值。d1表示表面S42相對于層53徑向朝外突出的距離。d2表示表面S42相對于層54徑向朝內突出的距離。突出量d1和d2是不同的。但是它們可以相等。突出量d1和d2均大于氣隙e的值。實際上，這些突出量至少三倍于氣隙e且優(yōu)選是該氣隙五倍大小，這提供了力F3的良好穩(wěn)定性，包括在碗3相對于轉子11發(fā)生略微徑向移動的情況下也是如此。
此外，厚度l53和l54大于氣隙e，優(yōu)選是至少三倍于該氣隙。實際上，選擇基本上等于該氣隙的五倍的厚度l53和l54使磁力線可良好地分布。
所示支架5借助三個螺釘6固定在體部15的前面16上，這些螺釘的銑削頭61支承在層53上并且可支承在磁體52上，這有助于將耦合裝置52至54固定在凹槽51中。支架5軸向朝前——即物體O的方向——延伸體部15。
磁體52和54集成在支架5中使得可在傳統(tǒng)渦輪機的體部15上增加這樣的支架，在該傳統(tǒng)的渦輪機中由于在其中設置有管18的轉子11的中心孔11a中設置了螺紋17從而使得該碗一般通過旋擰而固定在轉子11上。以此方式，將支架5安裝在渦輪機上使得可將其中碗旋擰在轉子上的傳統(tǒng)噴射器改造成根據本發(fā)明的噴射器。本發(fā)明的這個方面使得可構思升級現有設備。
根據本發(fā)明的變化形式(未示出)，磁耦合裝置52、53和54可直接集成在體部15上而不用附加的支架。
如在圖5中能更詳細可見的，力F3基本上與氣隙e的平方值成反比。氣隙e選擇為使得力F3比對應于碗3在轉子11上的適當保持力的5daN量級的最小值F3min大。氣隙e也選擇為使得力F3小于20daN量級的最大值F3max，進而這避免了碗3在沒有渦輪機的空氣軸承的加壓情況下作用于支架5而使得碗和轉子可分開。實際上存在力F3將轉子11推向圖1至圖3的左邊的危險，這會具有牢固地固定碗3的作用。因此，構思為獲得強度在圖5中的非陰影線區(qū)域內的力F3。在這個區(qū)域中，力F3的值相對于氣隙e的值的變化的變化比位于值F3max上方的陰影區(qū)域中小。以此方式，加工公差和裝配公差對作用力F3的值沒有太大的影響，或者至少比在上述陰影區(qū)域中小。
實際上，選擇力F3使其具有等于大約12daN的值，這使得可從圖5的曲線確定氣隙e的值。該值可在圖5可見的且取決于值F3min和F3max的區(qū)域Δe上變化。該值實際上取決于碗的慣量，因此取決于碗的幾何尺寸。作為所用的碗類型的函數其可以是不同的。
為了避免在磁體52的部分42的相對表面之間積累污物，空氣流E設置在這些耦合裝置之間的氣隙中。
在圖6所示的本發(fā)明的實施方式的第二形式中，與第一實施方式的元件類似的元件具有相同的參考標號。此實施方式中的碗3裝備有用力裝配在該碗的體部34上的環(huán)4。該環(huán)4包括環(huán)狀邊緣41以及截錐形部分32，該截錐形部分朝碗3的后面會聚且中心為該碗的旋轉軸線X-X’。添加在第一實施方式的體部15類型的渦輪機體部上的支架5裝備有磁體52，該磁體52通過兩個由非磁性材料制成的墊圈53和54作為邊界。元件52至54布置在支架5中，使得其外露表面是截錐形的且朝渦輪機的后面會聚，且具有等于面對元件52至54的部分42的表面S42的半頂角δ的半頂角γ。S52表示元件52的外露表面。因此，表面S42和S52是平行的并在其間限定形成厚度基本恒定的氣隙e，該氣隙也是具有等于γ和δ的半頂角的截錐形的。R42和R52分別表示表面S42和S52的平均半徑，這些平均半徑基本上相等。
當碗3位于渦輪機的前端1上的適當位置時，施加磁耦合力F3，該力在圖6的截面平面中基本上垂直于表面S42和S52，從而具有平行于軸線X-X’的軸向分量。對于繞軸線X-X’的單個力F3的合力來說，其基本上是軸向的。
l42表示表面42的徑向寬度。L52同樣表示表面S52的徑向寬度，l53和l54表示環(huán)53和54的徑向寬度。l’52表示寬度l52、l53和l54的和。正如在第一實施例中的那樣，寬度l42大于寬度l’52，表面42相對于環(huán)53和54徑向向外和徑向向內突出的突出量d1或d2，實際上該突出量是氣隙e的厚度的五倍量級。
磁力線L通過環(huán)4的部分42重新閉合，這確保將碗相對于渦輪機的端1而有效地保持在適當位置。
碗3設置有凸形部分38，該凸形部分用于容納在由渦輪機的轉子11形成的殼體中，通過附著而實現的連接在力F3的作用下發(fā)生在部分38的外截錐形的表面38a和限定形成由轉子11所形成的殼體的截錐形表面12a之間。
在這個實施方式中，空氣流E也可設置在氣隙e中，從而具有以下十分有利之處，即該碗的轉動使得空氣從氣隙e內“抽吸”到該氣隙外的效果。
權利要求
1.一種用于噴射涂敷產品的旋轉噴射器的噴射碗，其特征在于，其裝備有第一磁耦合裝置(4)，該第一磁耦合裝置(4)適于與固定在所述噴射器(P)的非旋轉部分(5，15)上的第二互補磁耦合裝置(52)配合，所述第一和第二耦合裝置適于相對于所述碗(3)的旋轉軸線(X-X’)施加至少部分軸向的力(F3)，所述力促使所述碗(3)與對應的驅動元件(11)一起旋轉耦合。
2.根據權利要求1所述的碗，其特征在于，所述第一耦合裝置(4)布置為使得所述力(F3)是大致軸向的。
3.根據上述權利要求其中之一所述的碗，其特征在于，所述碗包括凸形部分(38)，該凸形部分的外形是整體截錐形的(α)，適于接合在制成在所述元件(11)中的對應形狀(β)的中央殼體(12)中，由于所述軸向力(F3)，所述碗(3)適于通過所述凸形部分與所述殼體之間的粘附而與所述元件旋轉連接。
4.根據權利要求1或2所述的碗，其特征在于，所述碗設有整體上截錐形的殼體，該殼體適于容納對應形狀的凸形部分，且與所述驅動元件固定在一起，由于軸向力，所述碗適于通過所述殼體與所述凸形部分之間的粘附而與所述元件旋轉連接。
5.根據上述權利要求其中之一所述的碗，其特征在于，所述第一磁耦合裝置(4)形成環(huán)形或者截錐形表面(S42)，該表面限定所述第一磁耦合裝置(4)與第二磁耦合裝置(52至54)之間的氣隙(e)的邊界，并且所述表面的徑向寬度大于所述第二耦合裝置的總的徑向寬度(l’52)。
6.根據上述權利要求其中之一所述的碗，其特征在于，所述第一磁耦合裝置通過由磁性材料制成的環(huán)形元件(4)形成，該環(huán)形元件(4)繞所述碗(3)的主體(34)裝配或者擰緊(37)并且形成環(huán)形或者截錐形的表面(S42)，該表面與所述第二耦合裝置(52至54)一起限定的氣隙(e)。
7.噴射涂敷產品的旋轉噴射器，其包括碗和用于驅動該碗旋轉的元件，其特征在于，該噴射器包括用于所述碗(3)與所述噴射器(P)的非旋轉部分之間的磁耦合的裝置(4，52至54)，該裝置適于相對于所述碗的旋轉軸線(X-X’)施加至少部分軸向的力(F3)，所述力促使所述碗(3)與所述元件(11)旋轉耦合。
8.根據權利要求7所述的噴射器，其特征在于，所述耦合裝置(4，52至54)布置為使得所述耦合力(F3)是大致軸向的。
9.根據權利要求7或8所述的噴射器，其特征在于，所述碗(3)和所述元件(11)分別設置有具有互補形狀(38a，12a)的部分(38，12)，用于通過粘附而旋轉耦合。
10.根據權利要求7至9所述的噴射器，其特征在于，所述耦合裝置包括至少一個磁體(52)，該磁體以環(huán)形方式繞所述碗(3)的軸線(X-X’)布置并且固定在所述非旋轉部分(5，15)上，而由所述碗支承的耦合裝置(4)形成環(huán)形或截錐形的表面(S42)，該表面限定由所述碗和所述磁體支承的耦合裝置(4)之間的氣隙(e)的邊界，并且所述表面的徑向寬度(l42)大于所述磁體的徑向寬度(l52)。
11.根據權利要求10所述的噴射器，其特征在于，所述表面(42)的平均半徑(R42)基本上等于所述磁體(52)的平均半徑(R52)。
12.根據權利要求10或11所述的噴射器，其特征在于，所述磁體(52)由兩個非磁性的或者具有低導磁率的材料體(53，54)在內部和外部徑向鄰接，而所述表面(S42)的徑向寬度(l42)大于由所述材料體的徑向寬度(l53，l54)增加的所述磁體的徑向寬度(l52)。
13.根據權利要求12所述的噴射器，其特征在于，每個所述材料體(53，54)的徑向寬度(l53，l54)均大于所述表面(S42)與所述磁體(52)之間的氣隙(e)，優(yōu)選至少三倍于所述氣隙，并且更優(yōu)選的是所述氣隙的五倍大小。
14.根據權利要求12或13所述的噴射器，其特征在于，所述表面(S42)相對于所述磁體(52)和所述材料體(53，54)徑向地向內或向外突出，其突出量(d1，d2)至少大于所述表面與所述磁體之間的氣隙(e)，優(yōu)選至少三倍于所述氣隙，并且更優(yōu)選是所述氣隙的五倍大小。
15.根據權利要求7至14所述的噴射器，其特征在于，所述磁耦合裝置(4，52至54)的一部分(52至54)集成在環(huán)狀支架(5)中，且該環(huán)狀支架加在所述噴射器(P)的體部(15)上并且軸向延伸。
16.根據權利要求7至15所述的噴射器，其特征在于，所述磁耦合裝置(4，52至54)分別固定于所述碗(3)的那些部分(4，52)與所述非旋轉部分(5，15)之間的氣隙(e)為使得所述軸向的力(F3)具有5到20daN的強度。
17.根據權利要求7至16所述的噴射器，其特征在于，所述碗(3)和/或所述驅動元件(11)設置有至少一個用于裝配/拆卸的間隙(38b，12b)。
18.根據權利要求7至17所述的噴射器，其特征在于，空氣流(E)提供在所述磁耦合裝置(4，52至54)之間的氣隙(e)中。
19.用于噴射噴涂物的系統(tǒng)，其特征在于，其包括至少一個根據權利要求7至18所述的噴射器(P)。
全文摘要
本發(fā)明的碗設置有第一磁耦合裝置(4)，該第一磁耦合裝置(4)與另一固定在噴射器的非旋轉部分(5)上的第二磁耦合裝置(52至54)配合，所述第一耦合裝置(4)和第二耦合裝置(52至54)施加至少部分軸向的力(F
文檔編號B05B5/04GK1913972SQ200580003914
公開日2007年2月14日 申請日期2005年2月4日 優(yōu)先權日2004年2月6日
發(fā)明者卡里爾·托梅, 帕特里克·巴呂, 埃里克·普魯斯, 洛朗特·吉勞德 申請人:薩姆斯技術公司