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一種石墨插層化合物的制造方法

文檔序號:10711676閱讀:1723來源:國知局
一種石墨插層化合物的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種石墨插層化合物的制造方法,該方法采用去離子水作為插層劑,對鱗片石墨進行插層;鱗片石墨的顆粒度為100?200微米。用該方法所得到的石墨插層化合物中,石墨層間距可達到0.62nm?1.13nm,有利于后續(xù)石墨稀的剝離。
【專利說明】
一種石墨插層化合物的制造方法
技術領域
[0001 ]本發(fā)明涉及一種石墨插層化合物的制造方法,屬新型碳材料制造技術領域。
【背景技術】
[0002]石墨烯是只有一層碳原子厚的新型碳材料,具有廣泛的應用前景。制造石墨烯的原料是鱗片石墨,石墨是由單層的石墨烯堆疊而成,層間距約為0.335nm,層與層之間由于范德華力的作用而呈疊層狀態(tài)。制造石墨烯時常用化學插層氧化法,即用硫酸、硝酸、高氯酸等強酸與高錳酸鉀、硝酸鈉、雙氧水、高氯酸鉀等強氧化劑混合作為插層劑,氧化劑,制備成氧化石墨后,再經高溫剝離,超聲剝離,得單層或寡層氧化石墨烯。氧化石墨烯經硼氫化鈉,水合肼類強還原劑處理得石墨烯。
[0003]用強酸和強氧化劑插層石墨時,由于石墨層間距只有0.335mm。石墨本身又具疏水性,強酸進入石墨層間的擴散速度很長,擴散很慢,其反應時間需數十小時到3-4天不等。由于硫酸等強酸的表面脹力及石墨層間雜離子的干擾,插層劑不能插入到石墨層中心,當熱剝離或超聲剝離時,由于插層劑沒有完全將全部石墨層間距撬開,層間的范德華力還很強,所以剝離困難,剝離效率極低。有些實驗中剝離效果只能達到幾個毫克/升。用這種方法實現(xiàn)石墨烯的工業(yè)化生產幾乎是不可能的。

【發(fā)明內容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種石墨插層化合物的制造方法,該方法可用水做插層劑做石墨插層化合物,具體是采用去離子水作為插層劑,對鱗片石墨進行插層;鱗片石墨的顆粒度為100-200微米。
[0005]進一步,采用去離子水對鱗片石墨進行插層時,鱗片石墨浸泡在去離子水中,浸泡時間與浸泡溫度的關系為:H= 17.5-0.1785T,上述H為浸泡時間;T為浸泡溫度,T取值范圍為15-99°C;達到浸泡時間后,過濾并離心脫水,將得到的鱗片石墨烘干,制得以水為插層劑的石墨插層化合物。采用上述公式計算得到的浸泡時間為最短時間,為取得更好的效果,可適當延長浸泡時間。上述溫度T的取值范圍優(yōu)選為78-99°C;進一步優(yōu)選為95-99°C。
[0006]上述鱗片石墨優(yōu)選在80-200°C下進行烘干,以使鱗片石墨中的水分能夠控制在一定范圍內,以利于在用硫酸、高錳酸鉀等插層劑、氧化劑制備石墨稀時,硫酸和高錳酸鉀等插層劑、氧化劑能夠順利地進入到鱗片石墨的片層中。
[0007]進一步,鱗片石墨的含碳量彡99質量%。
[0008]水是最環(huán)保、最廉價的插層劑,當鱗片石墨進入水中后,在一定溫度條件下可插入石墨層間;由于石墨烯的導熱性很好,當水分子插入石墨層間后,在一定溫度下反應可破壞石墨層間的范德華力,擴大石墨層的間距。
[0009]水插層后石墨層間距可擴大到0.62nm-l.13nm。層間距越大范德華結合力越小,越容易剝離石墨烯。
[0010]采用本發(fā)明對鱗片石墨進行處理后,由于水分子的存在,當繼續(xù)用硫酸、高錳酸鉀等插層劑、氧化劑制備石墨稀時,硫酸和尚猛酸鐘更易插入到石墨層間,極大的加快了插層的反應時間。水插層后,石墨層間距擴大2-3倍,插層阻力減小更有利于硫酸等插層劑、氧化劑快速插入層間,縮短后續(xù)酸插層氧化時間10-20倍,僅0.5-1.0h即可。水插層后,為石墨烯制造的后續(xù)工序提供了良好的通道,可極大的縮短插層反應時間,提高化學剝離、高溫剝離、超聲剝離石墨烯的效率3-10倍,使石墨烯剝離濃度由幾十毫克/升提高到幾百毫克-幾千毫克/升。
【具體實施方式】
[0011]實施例1
[0012]取含碳量彡99質量%、顆粒度為150-200微米的石墨300kg,加去離子水700kg,置水泥池中,在15°C下浸泡15.1-16天;然后過濾并離心脫水,在180-200 V下干燥除去多余水分,重量法檢測出石墨層間的含水率,達到后續(xù)工藝要求后即為水插層石墨。在本實施例中,可將石墨層間距擴大到0.62_0.70nmo
[0013]以本實施例所制作的水插層石墨為原料,用硫酸和高錳酸鉀為插層劑進行石墨稀的制作,僅需要I小時即可進行石墨粉濾出,進行石墨稀的剝離,石墨稀溶液中的濃度可達至IJ300-400毫克/升。
[0014]實施例2
[0015]取含碳量彡99質量%、顆粒度為100-200微米的石墨300kg,加去離子水700kg,置水泥池中,在25°C下浸泡13-15天;然后過濾并離心脫水,在80-85°C下干燥除去多余水分,重量法檢測出石墨層間的含水率,達到后續(xù)工藝要求后即為水插層石墨。在本實施例中,可將石墨層間距擴大到0.65_0.85nm。
[0016]以本實施例所制作的水插層石墨為原料,用硫酸和高錳酸鉀為插層劑進行石墨稀的制作,僅需要0.7小時即可進行石墨粉濾出,進行石墨稀的剝離,石墨稀溶液中的濃度可達到900-1100毫克/升。
[0017]實施例3
[0018]取含碳量彡99質量%、顆粒度為100-200微米的石墨150kg,加去離子水850kg,置搪瓷反應釜中,加熱浸煮,當水溫達到95°C-99°C時,恒溫反應2-6小時后,冷卻、過濾、離心脫水,80°C_85°C烘干除去多余水分,本實施例可將石墨層間距擴大到0.82-1.13nm。
[0019]以本實施例所制作的水插層石墨為原料,用硫酸和高錳酸鉀為插層劑進行石墨稀的制作,僅需要0.5小時即可進行石墨粉濾出,進行石墨稀的剝離,石墨稀溶液中的濃度可達到1500-2000毫克/升。
【主權項】
1.一種石墨插層化合物的制造方法,其特征在于,采用去離子水作為插層劑,對鱗片石墨進行插層;鱗片石墨的顆粒度為100-200微米。2.根據權利要求1所述的制造方法,其特征在于,采用去離子水對鱗片石墨進行插層時,鱗片石墨浸泡在去離子水中,浸泡時間與浸泡溫度的關系為: Η=17.75-0.1785Τ, 上述H為浸泡時間;T為浸泡溫度,T取值范圍為15-99°C ; 達到浸泡時間后,過濾并離心脫水,將得到的鱗片石墨烘干,制得以水為插層劑的石墨插層化合物。3.根據權利要求2所述的制造方法,其特征在于,T取值范圍為78-990C。4.根據權利要求2所述的制造方法,其特征在于,T取值范圍為95-990C。5.根據權利要求2所述的制造方法,其特征在于,鱗片石墨在80-2000C下進行烘干。6.根據權利要求1所述的制造方法,其特征在于,鱗片石墨的含碳量多99質量%。
【文檔編號】C01B31/04GK106082182SQ201610393192
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2016年6月6日 公開號201610393192.6, CN 106082182 A, CN 106082182A, CN 201610393192, CN-A-106082182, CN106082182 A, CN106082182A, CN201610393192, CN201610393192.6
【發(fā)明人】仲偉德, 吳海, 吳杰
【申請人】南通偉德動力電池研究所(普通合伙)
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