專利名稱:氫化爐底盤冷卻結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種氫化爐冷卻結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù):
如圖I所示,傳統(tǒng)的氫化爐底盤為下置式冷卻水結(jié)構(gòu),底板較厚,冷卻效果差,無法滿足氫化爐設(shè)備在運行過程中的高溫環(huán)境,容易導(dǎo)致底盤因溫度過高而產(chǎn)生裂紋等缺陷,從而損壞設(shè)備墊片甚至造成設(shè)備失效。 發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是克服傳統(tǒng)氫化爐底盤較厚,冷卻效果差,容易在高溫下失效的缺點。具體技術(shù)方案如下將底盤的冷卻腔結(jié)構(gòu)整體去除。新設(shè)計的氫化爐底盤冷卻結(jié)構(gòu)是包括環(huán)形鍛件底環(huán)I,底盤為中空結(jié)構(gòu),在環(huán)形鍛件底環(huán)I上、上底板3與下底板4 之間的空間設(shè)置密封的循環(huán)水通道。所述的環(huán)形鍛件底環(huán)I上的循環(huán)水通道是在內(nèi)側(cè)邊緣上加工出矩形環(huán)向冷卻水槽2,與上底板3焊接相連,以對冷卻水槽2形成密封。所述的上底板3與下底板4之間的循環(huán)水通道內(nèi)安置導(dǎo)流板10,導(dǎo)流板10為長條形片狀結(jié)構(gòu),旋轉(zhuǎn)焊接在下底板4表面形成冷卻水通道;并與底環(huán)I焊接相連。此種結(jié)構(gòu)達到了以下技術(shù)效果I、中空結(jié)構(gòu)的應(yīng)用,減小了底盤厚度,利于熱傳導(dǎo)。2、冷卻水導(dǎo)流板的設(shè)置,以及中空結(jié)構(gòu)的選擇,增加了冷卻水循環(huán)范圍,使底盤使用溫度保持在安全溫度以下。由此,保證氫化爐底盤在使用過程中,內(nèi)部溫度控制在安全溫度之內(nèi),確保設(shè)備使用安全,延長設(shè)備使用壽命。
圖I原氫化爐底盤結(jié)構(gòu)剖視圖圖2改造后的氫化爐底盤結(jié)構(gòu)剖視圖圖3改造后的氫化爐底盤結(jié)構(gòu)半剖俯視圖圖4下底板導(dǎo)流板俯視示意圖圖5下底板導(dǎo)流板剖視示意圖圖中各部件標記如下I底環(huán),2冷卻水槽,3上底板,4下底板,5電極座,6底環(huán)冷卻水入口,7底環(huán)冷卻水出口,8底盤冷卻水入口,9底盤冷卻水出口,10導(dǎo)流板。
具體實施方式
現(xiàn)結(jié)合附圖,對本氫化爐冷卻裝置及密封結(jié)構(gòu)說明如下參考附圖2、3,環(huán)形鍛件底環(huán)I內(nèi)側(cè)邊緣加工出矩形環(huán)向冷卻水槽2,與上底板3 焊接相連,以對冷卻水槽2形成密封效果;導(dǎo)流板10為長條形片狀結(jié)構(gòu),旋轉(zhuǎn)焊接在下底板 4表面形成冷卻水通道;并與底環(huán)I焊接相連;組裝電極座5、底環(huán)冷卻水入口 6、底環(huán)冷卻水出口 7、底盤冷卻水入口 8及底盤冷卻水出口 9,并焊接固定。設(shè)備使用過程中,從設(shè)備底環(huán)冷卻水入口 6通冷卻水,經(jīng)冷卻水槽2后,由設(shè)備底盤冷卻水出口 7流出,以對底環(huán)I、 上底板3及密封墊起到冷卻作用;從底盤冷卻水入口 8通冷卻水經(jīng)下底板4導(dǎo)流板10導(dǎo)流后,由底盤冷卻水出口 9流出,以對底環(huán)I、上底板3、下底板4、電極座5及相應(yīng)焊縫起到冷卻作用。
權(quán)利要求1.一種氫化爐底盤冷卻結(jié)構(gòu),包括環(huán)形鍛件底環(huán)(1),其特征是底盤為中空結(jié)構(gòu),在環(huán)形鍛件底環(huán)(I)上、上底板(3)與下底板(4)之間的空間設(shè)置密封的循環(huán)水通道。
2.如權(quán)利要求I所述的氫化爐底盤冷卻結(jié)構(gòu),其特征是所述的環(huán)形鍛件底環(huán)(I)上的循環(huán)水通道是在內(nèi)側(cè)邊緣上加工出矩形環(huán)向冷卻水槽(2),與上底板(3)焊接相連,以對冷卻水槽(2)形成密封。
3.如權(quán)利要求I所述的氫化爐底盤冷卻結(jié)構(gòu),其特征是所述的上底板(3)與下底板(4)之間的循環(huán)水通道內(nèi)安置導(dǎo)流板(10),導(dǎo)流板(10)為長條形片狀結(jié)構(gòu),旋轉(zhuǎn)焊接在下底板(4)表面形成冷卻水通道;導(dǎo)流板(10)并與底環(huán)(I)焊接相連。
專利摘要本實用新型涉及一種氫化爐底盤冷卻結(jié)構(gòu),克服了現(xiàn)有技術(shù)底盤較厚,冷卻效果差,容易在高溫下失效的缺點。技術(shù)方案是將底盤的冷卻腔結(jié)構(gòu)整體去除,將底盤設(shè)計為中空結(jié)構(gòu),在環(huán)形鍛件底環(huán)1上、上底板3與下底板4之間的空間設(shè)置密封的循環(huán)水通道。所述的環(huán)形鍛件底環(huán)1上的循環(huán)水通道是在內(nèi)側(cè)邊緣上加工出矩形環(huán)向冷卻水槽2,與上底板3焊接相連,以對冷卻水槽2形成密封。上底板3與下底板4之間的循環(huán)水通道內(nèi)安置導(dǎo)流板10。由此,保證氫化爐底盤在使用過程中,內(nèi)部溫度控制在安全溫度之內(nèi),確保設(shè)備使用安全,延長設(shè)備使用壽命。
文檔編號C01B33/03GK202465289SQ201220067049
公開日2012年10月3日 申請日期2012年2月27日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月27日
發(fā)明者馮鐵軍, 張靜, 王攀, 趙軍強, 鈔蓓 申請人:蘭州四方容器設(shè)備有限責(zé)任公司