一種改善燒結(jié)礦低溫還原粉化指標的裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型設及高爐煉鐵的主要爐料的生產(chǎn)工藝，尤其是設及一種改善燒結(jié)礦低 溫還原粉化指標的裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 燒結(jié)礦做為高爐冶煉的主要爐料，一般比例在70%W上，其低溫還原粉化指標直接 影響著高爐爐內(nèi)壓差，最終影響到高爐順行。隨著燒結(jié)原料劣化及高料層燒結(jié)等因素影響， 原始燒結(jié)礦的低溫還原粉化指標不理想。很多廠都是借助燒結(jié)成品礦皮帶上在線噴灑低溫 還原粉化抑制劑(化Ch等)來改善低溫還原粉化指標，但是提高的效果不穩(wěn)定。有的為追求 指標不得不加大噴灑濃度，但運又增加高爐管道氯離子量，加劇后續(xù)設備腐蝕。
[0003] 專利文獻1公開了一種抑制燒結(jié)礦低溫還原粉化的方法，通過將鐵精礦制備成一 定粒度組成的制粒料，再與燒結(jié)混合料混勻，然后布料、燒結(jié)賠燒;通過在制粒料中添加少 量烙劑或固體燃料、優(yōu)化燒結(jié)混合料中固體燃料用量和烙劑的用量，降低燒結(jié)賠燒抽風負 壓和燒結(jié)礦冷卻速度，使得燒結(jié)礦的低溫還原粉化被明顯抑制，能夠有效改善高爐冶煉的 技術(shù)經(jīng)濟指標。專利文獻2公開了一種燒結(jié)礦低溫還原粉化助劑及其使用方法，該還原粉化 助劑化學成分及質(zhì)量百分比為:棚酸40~70%、碳酸氨巧10~40%、偏棚酸巧10~40%;將含有 棚酸40~70wt.%、碳酸氨巧10~40wt .%、偏棚酸巧10~40wt.%的還原粉化助劑制成濃度1~ 15wt.%的水溶液分次連續(xù)地均勻噴灑于燒結(jié)礦表面。該燒結(jié)礦低溫還原粉化助劑不含C1元 素，克服C1元素對設備的腐蝕及環(huán)境污染。專利文獻3公開了一種抑制饑鐵磁鐵燒結(jié)礦低溫 還原粉化新型添加劑，此種新型添加劑含有W下組分:CaCl2為40%~70%，CaO為20%~ 40 %，NaCl為0 %~15 % (重量按100 %計）。密度泛函理論證明化與C1離子濃度比例為1:1、1 :2時，在Fe2〇3表面吸附能都比較大，對底層Fe、0電子結(jié)構(gòu)的影響也較大，F(xiàn)e離子吸收了電 子，0離子釋放了電子，同時Fe-0鍵長變短，鍵能增加，結(jié)構(gòu)緊密，使Fe2〇3穩(wěn)定，降低了膨脹 率，有效地抑制了饑鐵磁鐵燒結(jié)礦在低溫條件下的粉化，而且該添加劑配方氯元素的含量 比較低，大大減少C1對高爐和氣體回收裝置的嚴重腐蝕，也減少對環(huán)境的污染，專利文獻4 公開了降低塊礦低溫還原粉化指標的助劑及其使用方法，其化學成分重量百分比為:氯化 巧35~50 %，氯化鐵20~36%，棚酸3~5%，硫酸儘巧~30 %。將助劑配制成一定濃度的水 溶液，再按比例均勻噴涂到塊礦表面，助劑可W在塊礦表面和內(nèi)部孔桐形成一層保護薄膜， 升溫后，部分薄膜形成結(jié)晶物，堵塞填充部分孔隙，在豎爐上部阻止含氨還原氣體的侵入， 改善塊礦低溫還原粉化現(xiàn)象，保持完整的粒度，為豎爐順行創(chuàng)造條件，可提高塊礦的用量。 本實用新型可使塊礦低溫還原粉化率(一6.3mm)降低9.7~88.9%。在豎爐壓差相同的情 況下，助劑的使用可W提高塊礦配比5~10%，降低鐵水生產(chǎn)成本6~10元Λ，專利文獻5公 開了一種用于降低人造富礦低溫還原粉化率的方法，在于將含MgCU[2]濃度為1.5~5. 0%的稀釋溶液噴灑在人造富礦的表面，可使礦石表面形成深褐色、發(fā)亮、光滑的薄膜層，從 而有效控制人造富礦在高爐內(nèi)被C 0的侵蝕，使人造富礦低溫還原粉化率降低到巧％ W 下，且在相同燒結(jié)礦低溫還原粉化率的情況下，又可使噴灑的MgCU[2]用量與CaCU[ 2]相比少用Ξ分之一 W上；隨著放置時間的延長低溫還原粉化率還會進一步降低。專利文 獻6公開了一種設及控制煉鐵高爐礦料低溫還原粉化的方法及噴灑裝置。本發(fā)明利用含有 大量巧、儀、鋼的氯化物及含有其它物質(zhì)而被處理排放的工業(yè)廢水為主要原料，經(jīng)測定其排 放時間和其比重關(guān)系，確定收集該廢水的起止時間和收集排放的廢水，并將其配制成所需 濃度，再用噴灑裝置噴灑在入爐前的高爐礦料中。本發(fā)明能將各種礦料在各種爐型內(nèi)的低 溫還原粉化率降低到5%W下，特別適用高TiCU[2]，高AU[2]CU[3]，高堿度高爐礦料 的處理，減少了環(huán)境污染，原料來源豐富，投入產(chǎn)出比很高。W上各種公開的技術(shù)方案大都 集中在低溫還原粉化抑制劑的配方改良及燒結(jié)操作制度的改善上，所披露的技術(shù)特征都是 在燒結(jié)礦表面噴灑低溫還原粉化抑制劑，將燒結(jié)礦浸泡在低溫還原粉化抑制劑溶液中的方 案未見披露。即使一起考慮W上的現(xiàn)有專利文獻，運些專利文獻也沒有給出將燒結(jié)礦浸泡 在低溫還原粉化抑制劑溶液中，可獲得溶液濃度非常低，燒結(jié)礦低溫還原粉化指標非常高 的技術(shù)方案。
[0004] 現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0005] 專利文獻1:中國專利201310400501.4
[0006] 專利文獻2:中國專利201410547699.3
[0007] 專利文獻3:中國專利201310283305.3 [000引專利文獻4:中國專利201010154807.2
[0009] 專利文獻5:中國專利99116332.X
[0010] 專利文獻6:中國專利94111774.X。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011] 本實用新型所要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題提供一種改善燒 結(jié)礦低溫還原粉化指標的裝置，其目的是用運種裝置能顯著提高燒結(jié)礦低溫還原粉化指 標，還能減少低溫還原粉化抑制劑消耗量，降低高爐設備腐蝕等問題。
[0012] 為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供一種改善燒結(jié)礦低溫還原粉化指標的裝 置，包括成品礦皮帶、噴灑系統(tǒng)，其特征在于:在兩臺成品礦皮帶1、4之間設置一臺鏈板機2， 鏈板機2上面設置噴灑系統(tǒng)3,鏈板機2下面設置回收系統(tǒng)5。
[0013] 本實用新型進一步改進，改善燒結(jié)礦低溫還原粉化指標的裝置安放在燒結(jié)礦整粒 后的成品區(qū)域。
[0014] 本實用新型進一步改進，鏈板機2下面設置回收系統(tǒng)5,用于回收過量的低溫還原 粉化抑制劑溶液及燒結(jié)礦粉塵。
[0015] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的優(yōu)點在于:真正實現(xiàn)了燒結(jié)礦表面低溫還原粉化 抑制劑噴灑全覆蓋，降低了溶液濃度，減少了使用量，大幅度提高了低溫還原粉化指標。對 燒結(jié)礦表面"烙劑白點"進行了提前消化，經(jīng)過槽下篩分，又減少了入爐粉末量。運種裝置能 大幅度改善燒結(jié)礦的低溫還原粉化指標，又降低噴灑藥劑的用量，降低入爐氯離子的總量， 減少后續(xù)高爐設備腐蝕。
【附圖說明】
[0016] 下面結(jié)合附圖對本實用新型作進一步說明：
[0017] 圖1為一種改善燒結(jié)礦低溫還原粉化指標的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018] 圖2為現(xiàn)有技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0019] 在圖1-2中，1:成品礦皮帶1; 2:鏈板機;3:噴灑系統(tǒng)；4:成品礦皮帶2; 5:回收系 統(tǒng)。
【具體實施方式】
[0020] 由圖2所示現(xiàn)有技術(shù)結(jié)構(gòu)可知，現(xiàn)有的噴灑燒結(jié)礦低溫還原粉化抑制劑的方式就 是直接在皮帶上噴灑低溫還原粉化抑制劑溶液，噴灑的量較小，只能覆蓋表層燒結(jié)礦，皮帶 下層及燒結(jié)礦空桐內(nèi)難W覆蓋低溫還原粉化抑制劑溶液，使得效果不佳。本實用新型是基 于新的發(fā)現(xiàn)而完成，通過試驗研究發(fā)現(xiàn)，燒結(jié)礦低溫還原粉化指標改善與噴灑抑制劑溶液 覆蓋程度密切相關(guān)，在一定范圍內(nèi)與噴灑濃度關(guān)系不是很密切。在線皮帶噴灑方式存在噴 灑量少就覆蓋不均勻、指標波動大，設置多點噴灑能稍微改善，但仍無法解決根本問題，還 增加除塵設施投入，噴灑點霧氣也易造成吸塵管堵塞。
[0021] 通過使用浸泡法模擬測試氯化巧濃度變化對燒結(jié)礦低溫還原粉化指標(RDI)的試 驗數(shù)據(jù)如下：
[0022]
[0023] 試驗表明，CaC12濃度在0.45%~7.70%之間，燒結(jié)礦低溫還原粉化指標RDI+6.3%、 RDI+3.15%都能達到90%W上的高水平。而普通現(xiàn)有技術(shù)的噴灑方式即使CaC12濃度達到 7.70%，燒結(jié)礦低溫還原粉化指標畑1+3.15%-般也只有70%左右。
[0024] 因此，本實用新型提供W下實施例來解決現(xiàn)有技術(shù)存在的技術(shù)問題。
[0025] 圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。本實用新型的技術(shù)方案包括成品礦皮帶、噴灑系 統(tǒng)，在兩臺成品礦皮帶1、4之間設置一臺鏈板機2,鏈板機2上面設置噴灑系統(tǒng)3,鏈板機2下 面設置回收系統(tǒng)5。
[0026] 具體實施時，此套裝置安放在燒結(jié)礦整粒后的成品區(qū)域。
[0027] 根據(jù)燒結(jié)礦料量的大小，保證噴灑系統(tǒng)3噴灑出足夠量的低溫還原粉化抑制劑溶 液，將鏈板機2上面燒結(jié)礦表面全覆蓋，使得燒結(jié)礦浸泡在低溫還原粉化抑制劑溶液中。鏈 板機2下面設置回收系統(tǒng)5,用于回收過量的低溫還原粉化抑制劑溶液及燒結(jié)礦粉塵。
[00%]實施效果:通過將燒結(jié)礦浸泡在低溫還原粉化抑制劑溶液中，保證了燒結(jié)礦從表 面到空桐內(nèi)部的全覆蓋，使得低溫還原粉化指標即使在低溫還原粉化抑制劑濃度很低的情 況下仍穩(wěn)定在90%w上。
[0029] W上所述的僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù) 人員來說，在不脫離本實用新型創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可W做出若干變形和改進，運些都屬 于本實用新型的保護范圍。
【主權(quán)項】
1. 一種改善燒結(jié)礦低溫還原粉化指標的裝置，包括成品礦皮帶、噴灑系統(tǒng)，其特征在 于:在兩臺成品礦皮帶（1)、（4)之間設置一臺鏈板機(2)，鏈板機(2)上面設置噴灑系統(tǒng)(3)， 鏈板機(2)下面設置回收系統(tǒng)(5)。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的改善燒結(jié)礦低溫還原粉化指標的裝置，其特征在于:此套裝置 安放在燒結(jié)礦整粒后的成品區(qū)域。
【專利摘要】本實用新型公開了一種改善燒結(jié)礦低溫還原粉化指標的裝置，包括成品礦皮帶、噴灑系統(tǒng),其特征在于：在兩臺成品礦皮帶（1）、（4）之間設置一臺鏈板機（2），鏈板機（2）上面設置噴灑系統(tǒng)（3），鏈板機（2）下面設置回收系統(tǒng)（5）。通過這種設計，根據(jù)燒結(jié)礦料量的大小，保證噴灑系統(tǒng)（3）噴灑出足夠量的低溫還原粉化抑制劑溶液，將鏈板機（2）上面燒結(jié)礦表面全覆蓋，使得燒結(jié)礦浸泡在低溫還原粉化抑制劑溶液中。實現(xiàn)了燒結(jié)礦表面低溫還原粉化抑制劑全覆蓋，降低了溶液濃度，減少了低溫還原粉化抑制劑使用量，大幅度提高了燒結(jié)礦低溫還原粉化指標。
【IPC分類】C22B1/16
【公開號】CN205241759
【申請?zhí)枴緾N201521001565
【發(fā)明人】周江虹, 楊業(yè), 劉益勇, 王軍, 于敬
【申請人】馬鞍山鋼鐵股份有限公司
【公開日】2016年5月18日
【申請日】2015年12月3日