一種靶材組件的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種靶材組件，包括靶材、背板及導(dǎo)磁片，所述靶材與所述背板層疊設(shè)置，所述導(dǎo)磁片嵌于所述背板中，所述導(dǎo)磁片設(shè)有導(dǎo)磁片頂面，所述背板設(shè)有背板頂面，所述導(dǎo)磁片頂面與所述背板頂面平齊，且所述導(dǎo)磁片頂面貼緊所述靶材。本實(shí)用新型的靶材組件通過設(shè)置導(dǎo)磁片，使得磁控濺射過程中的磁場分布均勻，靶材的蝕刻速率一致，從而延長矩形平面靶材使用壽命，降低生產(chǎn)成本，提高靶材的使用效率。
【專利說明】 一種靶材組件

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及磁控濺射【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種靶材組件。

【背景技術(shù)】
[0002]磁控濺射是指在電場作用下電子與氬原子發(fā)生碰撞，并且電離出氬離子和新的電子，氬離子在電場加速運(yùn)動(dòng)撞擊陰極靶材，發(fā)生濺射。濺射粒子沉積在基底表面形成薄膜。磁場可以改變電子的運(yùn)動(dòng)方向，束縛并延長了電子運(yùn)動(dòng)的軌跡，使電子對(duì)氬離子的電離以及對(duì)靶材的撞擊更加有效。磁控濺射可以在低溫條件下進(jìn)行，并且高速運(yùn)動(dòng)的粒子提高了濺射效率。
[0003]目前，用于磁控濺射矩形平面靶材鍍制薄膜過程中，通常會(huì)形成長圓形的蝕刻環(huán)路，該蝕刻環(huán)路包括中部的直線部及兩端的弧形部。在相同使用功率條件下，不同區(qū)域的磁場分布不均勻，例如，在靶材的中部磁場強(qiáng)度小于靶材兩端的磁場密度，從而使得蝕刻環(huán)路的弧形部的蝕刻深度遠(yuǎn)大于直線部的蝕刻深度，導(dǎo)致當(dāng)蝕刻環(huán)路的弧形部已經(jīng)貫穿而需要更換靶材時(shí)，靶材的蝕刻環(huán)路的直線部仍遠(yuǎn)未充分利用，從而降低了靶材使用效率，提高了生產(chǎn)成本。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]提供一種可使磁場分布均勻，從而提升靶材蝕刻均勻度的靶材組件。
[0005]一種靶材組件，包括靶材、背板及導(dǎo)磁片，所述靶材與所述背板層疊設(shè)置，所述導(dǎo)磁片嵌于所述背板中，所述導(dǎo)磁片設(shè)有導(dǎo)磁片頂面，所述背板設(shè)有背板頂面，所述導(dǎo)磁片頂面與所述背板頂面平齊，且所述導(dǎo)磁片頂面貼緊所述靶材。
[0006]進(jìn)一步的，所述導(dǎo)磁片采用高導(dǎo)磁性材料制成。
[0007]進(jìn)一步的，所述導(dǎo)磁片采用稀土材料制成。
[0008]進(jìn)一步的，所述矩形平面靶材包括設(shè)置于中部的平行區(qū)域及設(shè)置于平行區(qū)域端部且臨近所述靶材端部的弧形區(qū)域，所述導(dǎo)磁片對(duì)應(yīng)所述矩形平面靶材的弧形區(qū)域設(shè)置。
[0009]進(jìn)一步的，所述背板采用無氧銅背板或者鑰背板。
[0010]進(jìn)一步的，所述靶材與背板之間設(shè)有連接層，所述連接層用于將所述靶材與背板相互連接。
[0011 ] 進(jìn)一步的，所述連接層采用銦金屬粘結(jié)層或銀金屬粘結(jié)層。
[0012]進(jìn)一步的，所述導(dǎo)磁片的設(shè)置數(shù)量為兩個(gè)，所述靶材采用矩形平面靶材，所述靶材設(shè)有第一對(duì)稱軸，所述兩個(gè)導(dǎo)磁片相對(duì)于所述第一對(duì)稱軸鏡像對(duì)稱。
[0013]進(jìn)一步的，所述靶材設(shè)有第二對(duì)稱軸，所述第二對(duì)稱軸為單個(gè)導(dǎo)磁片的對(duì)稱軸。
[0014]本實(shí)用新型的靶材組件于背板中設(shè)置導(dǎo)磁片，從而增強(qiáng)相應(yīng)位置的導(dǎo)磁性，從而獲取適用的區(qū)域蝕刻效果。本實(shí)用新型的靶材組件通過在靶材磁場弧形區(qū)域的相應(yīng)位置設(shè)置具有強(qiáng)導(dǎo)磁性的導(dǎo)磁片，使得整套靶材平行磁場區(qū)域及弧形磁場區(qū)域蝕刻效率相當(dāng)，從而延長矩形平面靶材使用壽命，降低生產(chǎn)成本，提高靶材使用效率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0016]圖1是本實(shí)用新型較佳實(shí)施方式提供的一種靶材組件在正視圖下的剖面示意圖；
[0017]圖2是本實(shí)用新型較佳實(shí)施方式提供的靶材組件的靶材的俯視圖；
[0018]圖3是本實(shí)用新型較佳實(shí)施方式提供的靶材組件的背板及導(dǎo)磁片的俯視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0019]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0020]請(qǐng)參閱圖1至圖3，本實(shí)用新型較佳實(shí)施方式提供一種靶材組件10，包括靶材11、導(dǎo)磁片13及背板15。所述靶材11與所述背板15層疊設(shè)置，所述導(dǎo)磁片13嵌于所述背板15中，使得導(dǎo)磁片13及背板15貼緊靶材11的底面。本實(shí)用新型的靶材11組件10放置于磁控濺射工藝腔室內(nèi)陰極座表面，用于交流/直流磁控濺射工藝。
[0021 ] 如圖2所示，在本實(shí)施例中，所述靶材11為矩形平面靶材11，其上設(shè)有第一對(duì)稱軸A及第二對(duì)稱軸B。所述第一對(duì)稱軸A及第二對(duì)稱軸B為所述靶材11的對(duì)稱軸，且其分別與靶材11的中線重合。所述靶材11為一體成型或者是由多塊較小的子靶材拼接而成。
[0022]在磁控濺射鍍膜過程中，矩形平面靶材11的靶材11表面形成長圓形的蝕刻環(huán)路110。所述蝕刻環(huán)路110為封閉狀，其包括設(shè)置于中部的直線部及設(shè)置于直線部兩端并鄰近靶材兩端的弧形部。其中設(shè)置所述直線部的相應(yīng)位置為矩形平面靶材11的平行區(qū)域111，設(shè)置所述弧形部的相應(yīng)位置為矩形平面靶材11的弧形區(qū)域113。
[0023]在本實(shí)施例中，兩個(gè)所述矩形平面靶材11的弧形部相對(duì)于所述第一對(duì)稱軸A鏡像對(duì)稱。而所述第二對(duì)稱軸B也是單個(gè)弧形部的對(duì)稱軸。
[0024]請(qǐng)一并參見圖3，所述導(dǎo)磁片13用于增強(qiáng)其設(shè)置位置處的導(dǎo)磁性。在本實(shí)施例中，所述導(dǎo)磁片13對(duì)應(yīng)所述靶材11的弧形區(qū)域113設(shè)置。在本實(shí)施例中，所述導(dǎo)磁片13采用具有高導(dǎo)磁性材料制成，如稀土材料及所述稀土材料所制成的合金。
[0025]在本實(shí)施例中，所述導(dǎo)磁片13大體為U型片狀，其包括連接部131及分別連接于連接部131兩端的延伸部133，所述兩個(gè)延伸部133相互平行。所述連接部131平行于所述第一對(duì)稱軸A，延伸部133平行于所述第一對(duì)稱軸B。所述導(dǎo)磁片13的連接部131相對(duì)于所述延伸部133設(shè)置于所述靶材11的外側(cè)，所述延伸部133相對(duì)于所述連接部131靠近所述靶材11的中部設(shè)置。同樣的，兩個(gè)導(dǎo)磁片13相對(duì)于所述第一對(duì)稱軸A鏡像對(duì)稱。而所述第二對(duì)稱軸B也是單個(gè)導(dǎo)磁片13的對(duì)稱軸。
[0026]進(jìn)一步的，所述連接部131大體對(duì)應(yīng)所述靶材11的弧形區(qū)域113設(shè)置，所述導(dǎo)磁片13的延伸部133于所述靶材11的投影與所述蝕刻環(huán)路110的直線部重合。可以理解的是，所述連接部131也可設(shè)置為弧形，并可設(shè)置為與所述蝕刻環(huán)路110的弧形部的弧度及形狀一致。
[0027]所述背板15為板狀，其用于承托靶材11。在本實(shí)施例中，背板15采用無氧銅背板15或者鑰背板15。所述背板15設(shè)有背板頂面155，所述導(dǎo)磁片13設(shè)有導(dǎo)磁片頂面135。在本實(shí)施例中，所述靶材11與所述背板15層疊設(shè)置，且所述背板頂面155朝向所述靶材11設(shè)置。所述背板頂面155開設(shè)有安裝槽，所述導(dǎo)磁片13設(shè)置于所述安裝槽。在本實(shí)施例中，所述導(dǎo)磁片13的導(dǎo)磁片頂面135與所述背板15的背板頂面155平齊，且導(dǎo)磁片頂面135貼緊所述靶材11的底面。
[0028]所述安裝槽相對(duì)于所述背板頂面155凹入或?qū)⑺霰嘲?5貫通，其形狀與導(dǎo)磁片13相同，使得所述導(dǎo)磁片13完全設(shè)置于所述背板15之中。
[0029]在本實(shí)施例中，所述靶材11與背板15之間設(shè)有連接層(圖未示)，所述連接層用于將所述靶材11綁定于背板15。所述連接層為銦金屬粘結(jié)層或銀金屬粘結(jié)層。
[0030]本實(shí)用新型的靶材11組件10于背板15中設(shè)置導(dǎo)磁片13，從而增強(qiáng)相應(yīng)位置的導(dǎo)磁性，使磁場分布均勻，從而獲取適用的區(qū)域蝕刻效果。在本實(shí)施例中，通過在矩形平面靶材磁場弧形區(qū)域的相應(yīng)位置設(shè)置具有強(qiáng)導(dǎo)磁性的導(dǎo)磁片13，從而磁場分布均勻，使得整套靶材11平行磁場區(qū)域及弧形磁場區(qū)域蝕刻效率相當(dāng)，從而延長矩形平面靶材11使用壽命，降低生產(chǎn)成本，提高靶材11使用效率。
[0031]以上所揭露的僅為本實(shí)用新型一種較佳實(shí)施例而已，當(dāng)然不能以此來限定本實(shí)用新型之權(quán)利范圍，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的全部或部分流程，并依本實(shí)用新型權(quán)利要求所作的等同變化，仍屬于實(shí)用新型所涵蓋的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種靶材組件，其特征在于:包括靶材、背板及導(dǎo)磁片，所述靶材與所述背板層疊設(shè)置，所述導(dǎo)磁片嵌于所述背板中，所述導(dǎo)磁片設(shè)有導(dǎo)磁片頂面，所述背板設(shè)有背板頂面，所述導(dǎo)磁片頂面與所述背板頂面平齊，且所述導(dǎo)磁片頂面貼緊所述靶材。
2.如權(quán)利要求1所述的靶材組件，其特征在于:所述導(dǎo)磁片采用高導(dǎo)磁性材料制成。
3.如權(quán)利要求1所述的靶材組件，其特征在于:所述導(dǎo)磁片采用稀土材料制成。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的靶材組件，其特征在于:所述靶材為矩形平面靶材，所述矩形平面靶材包括設(shè)置于中部的平行區(qū)域及設(shè)置于平行區(qū)域端部且臨近所述靶材端部的弧形區(qū)域，所述導(dǎo)磁片對(duì)應(yīng)所述矩形平面靶材的弧形區(qū)域設(shè)置。
5.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的靶材組件，其特征在于:所述背板采用無氧銅背板或者鑰背板。
6.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的靶材組件，其特征在于:所述靶材與背板之間設(shè)有連接層，所述連接層用于將所述靶材與背板相互連接。
7.如權(quán)利要求6所述的靶材組件，其特征在于:所述連接層采用銦金屬粘結(jié)層或銀金屬粘結(jié)層。
8.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的靶材組件，其特征在于:所述導(dǎo)磁片的設(shè)置數(shù)量為兩個(gè)，所述靶材采用矩形平面靶材，所述靶材設(shè)有第一對(duì)稱軸，所述兩個(gè)導(dǎo)磁片相對(duì)于所述第一對(duì)稱軸鏡像對(duì)稱。
9.如權(quán)利要求8所述的靶材組件，其特征在于:所述靶材設(shè)有第二對(duì)稱軸，所述第二對(duì)稱軸為單個(gè)導(dǎo)磁片的對(duì)稱軸。
【文檔編號(hào)】C23C14/35GK204162776SQ201420387169
【公開日】2015年2月18日 申請(qǐng)日期:2014年7月14日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月14日
【發(fā)明者】李晨光 申請(qǐng)人:南昌歐菲光科技有限公司, 深圳歐菲光科技股份有限公司, 蘇州歐菲光科技有限公司