一種用于真空鍍膜機的支架的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種用于真空鍍膜機的支架，包括支架框（1）和支架橫桿（2），其特征在于所述的支架框（1）呈倒“V”形設(shè)置，支架橫桿（2）的兩端固定設(shè)置在支架框（1）的側(cè)臂上，且支架框（1）從上至下設(shè)有二～四層支架橫桿（2）。本發(fā)明通過采用呈倒“V”形設(shè)置的支架框，然后在支架框內(nèi)設(shè)置支架橫桿即構(gòu)成支架，使用時首先將支架通過固定件掛在腔室上壁上做好準(zhǔn)備工作，然后把鍍膜產(chǎn)品掛在支架橫桿上即可進行鍍膜；具有結(jié)構(gòu)簡單、使用簡單方便的特點，適宜推廣使用。
【專利說明】—種用于真空鍍膜機的支架
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及真空鍍膜機的配件【技術(shù)領(lǐng)域】，具體說是一種結(jié)構(gòu)簡單、使用方便的用于真空鍍膜機的支架。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的真空鍍膜機支架，是在一根直桿上設(shè)置不同形狀的槽來固定鍍膜產(chǎn)品，鍍膜時要將鍍膜產(chǎn)品用專用的工具卡入槽中，這樣，不但結(jié)構(gòu)復(fù)雜，而且操作不方便。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有真空鍍膜機支架存在的問題，提供一種結(jié)構(gòu)簡單、使用方便的用于真空鍍膜機的支架。
[0004]本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案解決的:
一種用于真空鍍膜機的支 架，包括支架框和支架橫桿，其特征在于所述的支架框呈倒“V”形設(shè)置，支架橫桿的兩端固定設(shè)置在支架框的側(cè)臂上，且支架框從上至下設(shè)有二-四層支架橫桿。
[0005]所述的支架橫桿呈水平狀態(tài)設(shè)置在支架框的側(cè)臂上。
[0006]所述支架框側(cè)臂上的同一水平面處設(shè)有二-四根支架橫桿。
[0007]同一水平面處的支架橫桿的數(shù)量從上至下逐漸增大。
[0008]所述支架框的頂部設(shè)有用于固定支架在腔室上壁上的固定件。
[0009]本發(fā)明相比現(xiàn)有技術(shù)有如下優(yōu)點:
本發(fā)明通過采用呈倒“V”形設(shè)置的支架框，然后在支架框內(nèi)設(shè)置支架橫桿即構(gòu)成支架，使用時首先將支架通過固定件掛在腔室上壁上做好準(zhǔn)備工作，然后把鍍膜產(chǎn)品掛在支架橫桿上即可進行鍍膜；具有結(jié)構(gòu)簡單、使用簡單方便的特點，適宜推廣使用。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]附圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]其中:I一支架框；2—支架橫桿；3—固定件；4一腔室上壁。
【具體實施方式】
[0012]下面結(jié)合附圖與實施例對本發(fā)明作進一步的說明。
[0013]如圖1所示:一種用于真空鍍膜機的支架，包括支架框I和支架橫桿2，其中支架框I呈倒“V”形設(shè)置，支架橫桿2呈水平狀態(tài)且支架橫桿2的兩端固定設(shè)置在支架框I的側(cè)臂上，支架框I從上至下設(shè)有二-四層支架橫桿2 ;同時支架框I側(cè)臂上的同一水平面處設(shè)有二-四根支架橫桿2，且同一水平面處的支架橫桿2的數(shù)量從上至下逐漸增大。另外在支架框I的頂部設(shè)有用于固定支架在腔室上壁4上的固定件3。
[0014]本發(fā)明通過采用呈倒“V”形設(shè)置的支架框1，然后在支架框I內(nèi)設(shè)置支架橫桿2即構(gòu)成支架，使用時首先將支架通過固定件3掛在腔室上壁4上做好準(zhǔn)備工作，然后把鍍膜產(chǎn)品掛在支架橫桿2上即可進行鍍膜；具有結(jié)構(gòu)簡單、使用簡單方便的特點，適宜推廣使用。
[0015]以上實施例僅為說明本發(fā)明的技術(shù)思想，不能以此限定本發(fā)明的保護范圍，凡是按照本發(fā)明提出的技術(shù)思想，在技術(shù)方案基礎(chǔ)上所做的任何改動，均落入本發(fā)明保護范圍之內(nèi)；本發(fā)明未涉及的技術(shù) 均可通過現(xiàn)有技術(shù)加以實現(xiàn)。
【權(quán)利要求】
1.一種用于真空鍍膜機的支架，包括支架框(I)和支架橫桿(2)，其特征在于所述的支架框(I)呈倒“V”形設(shè)置，支架橫桿(2)的兩端固定設(shè)置在支架框(I)的側(cè)臂上，且支架框(I)從上至下設(shè)有二-四層支架橫桿(2 )。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空鍍膜機的支架，其特征在于所述的支架橫桿(2)呈水平狀態(tài)設(shè)置在支架框(I)的側(cè)臂上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于真空鍍膜機的支架，其特征在于所述支架框(I)側(cè)臂上的同一水平面處設(shè)有二-四根支架橫桿(2 )。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于真空鍍膜機的支架，其特征在于:同一水平面處的支架橫桿(2)的數(shù)量從上至下逐漸增大。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空鍍膜機的支架，其特征在于所述支架框(I)的頂部設(shè)有用于固定支架在腔室上 壁(4 )上的固定件(3 )。
【文檔編號】C23C14/50GK103451613SQ201310430024
【公開日】2013年12月18日 申請日期:2013年9月22日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月22日
【發(fā)明者】王朝陽, 宮睿 申請人:無錫啟暉光電科技有限公司