專利名稱：對(duì)位輔助板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種對(duì)位輔助板，這種對(duì)位輔助板具體應(yīng)用于掩模組件的間接對(duì)位過程。
背景技術(shù)：
有機(jī)電致發(fā)光元件(OLED )因其視角廣、成本低、制造工藝簡(jiǎn)單、分辨率高及自備發(fā)光等特點(diǎn)，備受關(guān)注，并被視為使下一代的平面顯示器新興應(yīng)用技術(shù)。在制造有機(jī)電致發(fā)光元件的真空蒸鍍裝置方面，在底部設(shè)置盛放有機(jī)材料的坩堝，在坩堝的外面設(shè)置使用有機(jī)材料加熱、蒸發(fā)的加熱器。在蒸鍍裝置中，設(shè)置與坩堝相對(duì)配置的夾頭以及包夾玻璃基板的絕緣部件而使該基板安裝保持在夾頭的底面的基板夾具。夾頭是用于維持玻璃基板為平面狀的平板，在基板夾中設(shè)置升降機(jī)構(gòu)，并在升降機(jī)構(gòu)上設(shè)有夾具，通過夾具固定掩?？蚣?，使其相對(duì)于基板的位置偏差控制在一定范圍內(nèi)，具有局限性。升降夾具，使掩模組件靠近基板。而且在制造有機(jī)發(fā)光元件時(shí)，在基板上，每IOum寬度的像素必須將紅、綠、藍(lán)的發(fā)光部并列，各像素的位置精度必須為±5um的程度；又由于蒸鍍過程中，溫度不斷升高，受板材受熱膨脹的影響，掩模組件會(huì)相對(duì)于基板產(chǎn)生位置偏差，因此對(duì)真空蒸鍍裝置掩模的位置精度要求很高。掩模組件上蒸鍍?cè)O(shè)備時(shí)是通過掩模板上的對(duì)位點(diǎn)與基板進(jìn)行對(duì)位，由于掩?？蚣艿奈恢谜{(diào)試范圍存在局限性，掩模板又焊接在掩模框架上，使得僅僅通過掩模板對(duì)位點(diǎn)與基板進(jìn)行對(duì)位無(wú)法滿足位置精度要求，因此必須保證掩模板與掩?？蚣艿奈恢闷钜惨刂圃谝欢ǚ秶鷥?nèi)。在掩模板與掩?？蚣苓M(jìn)行對(duì)位時(shí)，一般米用在掩模板03及掩?？蚣?2上分別制作Mark (對(duì)位點(diǎn))A、B的方法，通過C⑶對(duì)A、B的位置圖像進(jìn)行捕捉，如圖1所示，使A、B
二者中心重合，完成二者的對(duì)位。由于掩模組件上蒸鍍?cè)O(shè)備時(shí)是通過掩模板03上的對(duì)位點(diǎn)A與基板進(jìn)行對(duì)位，為了避免掩?？蚣?2上的Mark點(diǎn)B對(duì)掩模板03上的Mark點(diǎn)產(chǎn)生遮擋，就要求掩模板03上的Mark點(diǎn)A的直徑要小于掩?？蚣?2上的Mark點(diǎn)B的直徑，這樣才能保證蒸鍍對(duì)位時(shí)掩模板03上的Mark點(diǎn)A完全為通孔，對(duì)比度明顯，從而使得掩模板03與基板的對(duì)位精度高。
然而，在掩模板與掩?？蚣苓M(jìn)行對(duì)位時(shí)，通過CXD對(duì)A、B進(jìn)行位置圖形捕捉，CXD視角自上而下，首先捕捉到A的位置圖像，如果B的直徑大于A的直徑，CCD較難捕捉到B的位置圖像，這樣就給掩模板03與掩模框架02的對(duì)位帶來了難度，以致影響掩模板與掩模框架的對(duì)位精度。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在提供一種能夠在掩模板對(duì)位點(diǎn)的直徑小于掩?？蚣軐?duì)位點(diǎn)的直徑的情況下確保掩模板與掩?？蚣軠?zhǔn)確對(duì)位的對(duì)位輔助板。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明公開了一種對(duì)位輔助板。這種對(duì)位輔助板可用于掩模板與掩?？蚣苤g的間接對(duì)位，其尺寸與掩模板的尺寸相同，且其包括至少兩個(gè)對(duì)位孔和至少兩個(gè)掛孔。其中，對(duì)位輔助板的對(duì)位孔與掩模板的對(duì)位孔的相對(duì)位置相同，且其直徑與掩?？蚣苌舷鄬?duì)應(yīng)位置處的對(duì)位孔的直徑相同。其中，對(duì)位輔助板的尺寸大于掩?？蚣艿某叽?，使得對(duì)位輔助板的掛孔能與基臺(tái)上的掛鉤配合以將對(duì)位輔助板固定在基臺(tái)上。并且其中，對(duì)位輔助板的對(duì)位孔的直徑大于相對(duì)應(yīng)的掩模板對(duì)位孔的直徑。本發(fā)明的這種對(duì)位輔助板確保了當(dāng)掩模板的Mark點(diǎn)A的直徑小于掩?？蚣艿腗ark點(diǎn)B的直徑時(shí)掩模板能夠與掩模框架準(zhǔn)確對(duì)位。


圖1示出掩模板與掩模框架直接對(duì)位時(shí)兩者的對(duì)位孔(mark)的示意圖，其中A-掩模板上的對(duì)位孔
B-掩模框架的對(duì)位孔；
圖2示出掩模組件在基臺(tái)上直接對(duì)位的一個(gè)示意圖，其中
01-對(duì)位基臺(tái)
02-掩?？蚣? 03-掩模板
04A-掩模板對(duì)位孔 O 5A-掩模板對(duì)位孔 06 08-微調(diào)銷釘；
圖3示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的對(duì)位輔助板在基臺(tái)上與掩?？蚣荛g接對(duì)位的示意圖，其中
01-對(duì)位基臺(tái)
02-掩模框架 (MA1-對(duì)位板對(duì)位孔 05Ar對(duì)位板對(duì)位孔 06 08-微調(diào)銷釘 11-對(duì)位輔助板；
圖4示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的掩模組件間接對(duì)位的對(duì)位孔的示意圖，其中A1-對(duì)位輔助板對(duì)位孔
B-掩?？蚣軐?duì)位孔
L-對(duì)位輔助板對(duì)位孔與掩?？蚣軐?duì)位孔的位置偏差；
圖5示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的對(duì)位輔助板的示意圖，其中 04A「對(duì)位輔助板對(duì)位孔05Ar對(duì)位輔助板對(duì)位孔 111 114掛孔；以及
圖6示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的間接對(duì)位的示意圖，其中Ol-對(duì)位基臺(tái)
04A「對(duì)位輔助板對(duì)位孔
05Ar對(duì)位輔助板對(duì)位孔
11-對(duì)位輔助板
111 114掛孔
121-掛鉤。
具體實(shí)施例方式以下將討論本發(fā)明的各個(gè)較佳實(shí)施例。但本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，此處的詳細(xì)說明并不作為對(duì)本發(fā)明保護(hù)范圍的限制，本發(fā)明還可通過以下各實(shí)施例的變型或其它等同方式得以實(shí)現(xiàn)。本發(fā)明涉及一種用于掩模板與掩?？蚣艿拈g接對(duì)位的對(duì)位輔助板。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，這種對(duì)位輔助板的尺寸可與所要對(duì)位的掩模板的尺寸相同，且對(duì)位輔助板Mark點(diǎn)A1與所要對(duì)位的掩模板的Mark點(diǎn)A在板面上的相對(duì)位置也可相同。在其它實(shí)施例中，對(duì)位輔助板的其他特征也可與掩模板相同，例如對(duì)位輔助板可具有與所要對(duì)位的掩模板尺寸、位置以及形狀相同的掛孔。與掩模板不同的是，對(duì)位輔助板不具有滿足蒸鍍要求的開口圖形。另外，對(duì)位輔助板的Mark點(diǎn)A1的直徑大于相對(duì)應(yīng)的掩模板Mark點(diǎn)A的直徑，但是對(duì)位輔助板Mark點(diǎn)A1 與所要對(duì)位的掩?？蚣艿腗ark點(diǎn)B直徑是相同的，以利于掩模框架與對(duì)位板的位置對(duì)位。在一個(gè)示例中，對(duì)位輔助板Mark點(diǎn)A1的直徑為2 3mm，優(yōu)選為 2.5mmο對(duì)位輔助板的板面包括對(duì)位Mark點(diǎn)和掛孔。對(duì)位Mark點(diǎn)至少有兩個(gè)，例如Mark點(diǎn)04仏和05八1。在一個(gè)示例中，這些對(duì)位Mark點(diǎn)可處于對(duì)位輔助板的對(duì)角位置。掛孔至少有兩個(gè)。由于對(duì)位輔助板的尺寸大于掩模框架的尺寸，當(dāng)對(duì)位輔助板放置在基臺(tái)上時(shí)其掛孔與基臺(tái)上的掛鉤配合，以將對(duì)位輔助板固定在基臺(tái)上。掛孔的形狀可以是圓形、方形、半圓形中的一種。使用根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的對(duì)位輔助板，進(jìn)行掩模板與掩?？蚣艿拈g接對(duì)位的方法如下:
51、如圖5所示將掩?？蚣芩椒胖迷趯?duì)位基臺(tái)01上，并將掩?？蚣芫o貼對(duì)位銷釘06 08放置，即與這些對(duì)位銷釘對(duì)齊；
52、將對(duì)位板11水平放置在掩?？蚣?2上且使兩者緊貼，使對(duì)位板11與對(duì)位基臺(tái)01相對(duì)固定，并使對(duì)位板與掩?？蚣軆烧呦鄳?yīng)的Mark點(diǎn)相對(duì)應(yīng)；
53、通過CXD自上而下捕捉對(duì)位板11及掩模框架02上Mark點(diǎn)的位置圖像，并通過圖形測(cè)量對(duì)位板Mark點(diǎn)A1與掩?？蚣躆ark點(diǎn)B的相對(duì)位置偏差L ；
54、調(diào)整對(duì)位基臺(tái)上的對(duì)位銷釘06 08的位置，以對(duì)與對(duì)位銷釘貼緊的掩?？蚣苓M(jìn)行微調(diào)，使得對(duì)位板Mark點(diǎn)A1與掩?？蚣躆ark點(diǎn)B的相對(duì)位置偏差LSlSym;
55、當(dāng)掩模框架02與對(duì)位板11的Mark點(diǎn)的相對(duì)位置偏差LS15μπι后，將對(duì)位板從對(duì)位基臺(tái)上取下，再將掩模板03水平放置在掩?？蚣?2上且使之固定在對(duì)位基臺(tái)01上；以及
S6、通過CXD自上而下捕捉掩模板Mark點(diǎn)A與掩?？蚣艿腗ark點(diǎn)B的位置圖像，檢測(cè)Mark點(diǎn)A是否被掩?？蚣艿腗ark點(diǎn)B的邊緣所遮擋，若被遮擋則重復(fù)步驟S2 S6，直至Mark點(diǎn)A完全為通孔。其中，如果在對(duì)掩?？蚣苓M(jìn)行微調(diào)之前L < 15 μ m，則不需進(jìn)行步驟S4，而是直接進(jìn)行后續(xù)步驟；如果微調(diào)一次無(wú)法做到L < 15 μ m，則需重復(fù)步驟S4直至達(dá)到L < 15 μ m。通過本發(fā)明的這種對(duì)位輔助板，確保了在掩模板的Mark點(diǎn)A直徑小于掩?？蚣艿腗ark點(diǎn)B直徑的同時(shí)， 使掩模板能夠與掩?？蚣軠?zhǔn)確對(duì)位。
權(quán)利要求
1.一種對(duì)位輔助板，用于掩模板與掩?？蚣苤g的間接對(duì)位，其特征在于，對(duì)位輔助板的尺寸與掩模板的尺寸相同，且對(duì)位輔助板包括至少兩個(gè)對(duì)位孔以及至少兩個(gè)掛孔， 其中，對(duì)位輔助板的對(duì)位孔與掩模板的對(duì)位孔的相對(duì)位置相同，且其直徑與掩?？蚣苌舷鄬?duì)應(yīng)位置處的對(duì)位孔的直徑相同， 其中，對(duì)位輔助板的尺寸大于掩模框架的尺寸，使得對(duì)位輔助板的掛孔能與基臺(tái)上的掛鉤配合以將對(duì)位輔助板固定在基臺(tái)上， 并且其中，對(duì)位輔助板的對(duì)位孔的直徑大于相對(duì)應(yīng)的掩模板對(duì)位孔的直徑。
2.如權(quán)利要求1所述的對(duì)位輔助板，其特征在于，對(duì)位輔助板的對(duì)位孔位于對(duì)位輔助板的對(duì)角位置。
3.如權(quán)利要求1所述的對(duì)位輔助板，其特征在于，對(duì)位輔助板的對(duì)位孔的直徑為2 3mm ο
4.如權(quán)利要求1所述的對(duì)位輔助板，其特征在于，對(duì)位輔助板的掛孔可以是圓形、方形、半圓形中的一種形狀。
5.如權(quán)利要求1所述的對(duì)位輔助板，其特征在于，對(duì)位輔助板的掛孔與掩模板掛孔的尺寸、位置以及形 狀相同。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種對(duì)位輔助板，用于掩模板與掩?？蚣苤g的間接對(duì)位。具體地，這種對(duì)位輔助板的尺寸與掩模板的尺寸相同，且包括至少兩個(gè)對(duì)位孔和至少兩個(gè)掛孔。對(duì)位輔助板的對(duì)位孔與掩模板的對(duì)位孔的相對(duì)位置相同，且其直徑與掩?？蚣苌舷鄬?duì)應(yīng)位置處的對(duì)位孔的直徑相同。對(duì)位輔助板的尺寸大于掩模框架的尺寸，對(duì)位輔助板的掛孔能與基臺(tái)上的掛鉤配合以將對(duì)位輔助板固定在基臺(tái)上。并且，對(duì)位輔助板的對(duì)位孔的直徑大于相對(duì)應(yīng)的掩模板對(duì)位孔的直徑。
文檔編號(hào)C23C14/24GK103205681SQ20121001069
公開日2013年7月17日 申請(qǐng)日期2012年1月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月16日
發(fā)明者魏志凌, 高小平, 鄭慶靚 申請(qǐng)人:昆山允升吉光電科技有限公司