專利名稱：聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)新密封結構的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)，特別是涉及一種聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)新密封結構。
背景技術：
聚對二甲苯是通過化學氣相沉積法制備的具有聚二甲結構的聚合物薄膜的統(tǒng)稱，具有極其優(yōu)良的電性能、化學穩(wěn)定性和生物相容性，在微電子機械系統(tǒng)、電子元器件、醫(yī)療器材等領域有著廣泛的應用。聚對二甲苯薄膜均采用氣相沉積法(CVD工藝)制造，工藝如下:對二甲苯二聚體在180°C下升華為氣體，經過高溫700°C裂解為對二甲苯單體，再導入內部沉積裝置中在室溫下沉積聚合于產品表面。這種工藝使得聚對二甲苯薄膜具有無殘余應力、完全同形、高度均勻、滲透力強等優(yōu)勢。目前的聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)裂解裝置與沉積裝置間的密封結構采用主機內裂解管與真空腔室左側延伸出連接管管口通過法蘭密封圈連接。由于裂解溫度為700°C左右的高溫，法蘭密封圈距離裂解高溫段小于500mm，且熱量直接由裂解管傳導而來，法蘭密封圈在此高溫環(huán)境下容易老化，需要經常更換，同時在使用中存在漏氣隱患易導致產品報廢。

實用新型內容為了解決現有技術中聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)新密封結構存在密封圈容易老化，更換頻繁，存在漏氣隱患導致產品報廢的問題。本實用新型取消了原先的裂解管接口法蘭與腔室墻板接口法蘭對接的結構，提供了一種結構簡單，密封圈不易老化損壞，使用壽命長，密封性可靠的聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)新密封結構。為了解決上述問題，本實用新型所采取的技術方案是:—種聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)新密封結構，包括主機、底座、滾桶和真空腔室，在真空腔室內安裝有滾桶，其特征在于:在主機旁設置有底座，在底座的上方設置有真空腔室，在真空腔室的一側墻板上設置有密封圈安裝槽，在密封圈安裝槽內設置有密封圈。真空腔室設置有密封圈安裝槽的一側墻板固定在主機側壁上，主機內的高溫裂解管穿過裂解爐并通過管口法蘭與真空腔室側壁相連接，且高溫裂解管通過進氣管與滾桶貫通連接。前述的一種聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)新密封結構，其特征在于:在真空腔室內的高溫裂解管部分上設置有加熱圈。前述的一種聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)新密封結構，其特征在于:在加熱圈上設置有測量高溫裂解管管體溫度的熱電偶。本實用新型的有益效果是:1、本實用新型密封圈安裝槽開在真空腔室側壁上，側壁體積大，熱容高，同時側壁散熱面積大，這樣密封圈溫度不易升高，使用壽命延長，密封可靠性大大增加。[0012]2、本實用新型延伸高溫裂解管長度后擴大了主機高溫區(qū)與管口法蘭的距離，同時對裂解管設置分段加熱、分段監(jiān)視和分段控制裝置后可實現管口法蘭高溫一側的溫度降低，管口法蘭密封圈不易老化損壞。3、采用直徑更大的管口法蘭和密封圈，加大密封圈與高溫裂解管軸心的距離，使管口法蘭不易老化損壞。
圖1是本實用新型聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)新密封結構示意圖。圖2是改進前真空腔室內的結構示意圖。
具體實施方式
圖3是改進前真空腔室內的結構示意圖。圖4是改進前真空腔室連接部分結構示意圖。
以下結合附圖對本實用新型作進一步的描述。如圖1-2所示，一種聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)新密封結構，包括主機1、真空腔室2、滾桶和底座11，在真空腔室2內安裝有滾桶，在主機I旁設置有底座11，在底座11的上方設置有真空腔室2，在真空腔室2的一側墻板5上設置有密封圈安裝槽7，真空腔室2設置有密封圈安裝槽的一側墻板與主機I側壁相連接，主機I內的高溫裂解管3穿過裂解爐6并通過管口法蘭4與真空腔室墻板5相連接，在密封圈安裝槽7內設置有密封圈，實現高溫裂解管3與墻板5的密封。本發(fā)明真空腔室2的墻板體積大，熱容高，同時墻板散熱面積大，這樣密封圈溫度不易升高，使用壽命延長，密封可靠性大大增加。高溫裂解管3長度延伸后擴大了主機高溫區(qū)與管口法蘭的距離，同時對裂解管設置分段加熱、分段監(jiān)視和分段控制裝置，在高溫裂解管3上設置有加熱圈8，在加熱圈8上設置有測量裂解管延長管體溫度的熱電偶9，可實現管口法蘭高溫一側的溫度降低，管口法蘭密封圈不易老化損壞。以上顯示和描述了本實用新型的基本原理、主要特征及優(yōu)點。本行業(yè)的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下，本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內。本實用新型要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。
權利要求1.一種聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)新密封結構，包括主機、底座、滾桶和真空腔室，在真空腔室內安裝有滾桶，其特征在于:在主機旁設置有底座，在底座的上方設置有真空腔室，在真空腔室的一側墻板上設置有密封圈安裝槽，在密封圈安裝槽內設置有密封圈，真空腔室設置有密封圈安裝槽的一側墻板固定在主機側壁上，主機內的高溫裂解管穿過裂解爐并通過管口法蘭與真空腔室側壁相連接，且高溫裂解管通過進氣管與滾桶貫通連接。
2.根據權利要求1所述的一種聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)新密封結構，其特征在于:在真空腔室內的高溫裂解管部分上設置有加熱圈。
3.根據權利要求2所述的一種聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)新密封結構，其特征在于:在加熱圈上設置有測量高溫裂解管管體溫度的熱電偶。
專利摘要本實用新型公開了一種聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)新密封結構，包括主機、底座、滾桶和真空腔室，其特征在于在真空腔室的一側墻板上設置有密封圈安裝槽，在密封圈安裝槽內設置有密封圈。真空腔室設置有密封圈安裝槽的一側墻板固定在主機側壁上，主機內的高溫裂解管穿過裂解爐并通過管口法蘭與真空腔室側壁相連接，且高溫裂解管通過進氣管與滾桶貫通連接。本實用新型解決了聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)后裂解段密封圈容易老化漏氣，更換頻繁的問題，提供了一種結構簡單，密封圈不易老化損壞，使用壽命長，密封性可靠的聚對二甲苯真空臥式沉積系統(tǒng)新密封結構。
文檔編號C23C16/44GK202913057SQ20112044770
公開日2013年5月1日 申請日期2011年11月14日 優(yōu)先權日2011年11月14日
發(fā)明者徐志淮 申請人:昆山彰盛奈米科技有限公司