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一種用于玻璃表面增透的MgF<sub>2</sub>/氧化物復(fù)合膜的制作方法

文檔序號(hào):3363168閱讀:851來源:國(guó)知局
專利名稱:一種用于玻璃表面增透的MgF<sub>2</sub>/氧化物復(fù)合膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及增透膜,進(jìn)一步是指用于玻璃表面增透的MgF2/氧化物復(fù)合膜。
背景技術(shù)
增透膜作為現(xiàn)代光學(xué)薄膜的一個(gè)重要分支,已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于工業(yè)、農(nóng)業(yè)、建筑、 交通、軍事等領(lǐng)域。日常生活中的鏡片、新興的平板顯示器、環(huán)保的太陽能電池、尖端的激光 器件等等,增透膜都發(fā)揮著日益重要的作用。目前,增透膜的結(jié)構(gòu)一般可分為單層和多層, 其中,單層增透膜因結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、工藝成本低廉、且同樣的膜層材料可鍍?cè)诓煌凵渎实牟A?上,盡管增透效果不及多層膜,仍得到廣泛使用,尤其在太陽光伏玻璃表面(圖1為已有太 陽電池光學(xué)薄膜結(jié)構(gòu)示意圖)。根據(jù)理論計(jì)算,單層增透膜要完全增透,要求該膜的折射率 為1.23,選用的典型材料為氟化鎂(MgF2),其折射率是目前常用增透材料中最低的(η = 1. 38),透明區(qū)域?qū)?0. 25 μ m-9 μ m),高抗損傷(Fa = 9J/cm2),熔點(diǎn)為1266°C,熱穩(wěn)定性好, 是最早應(yīng)用、較理想的鍍膜材料。同其它膜系相比,單層MgF2 (氟化鎂)最大的優(yōu)點(diǎn)在于其 增透波段很寬,增透效果可比擬某些雙層增透膜,利用真空蒸鍍的單層MgF2可使得太陽光 伏玻璃在400-1100nm的平均透過率由92%提高到94%以上;而且其膜層結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,制備工 藝簡(jiǎn)單,如果沒有特殊要求,往往僅在玻璃表面鍍一層MgFj^膜即可(如圖1中表層MgF2 膜)。當(dāng)然,若采用雙層膜結(jié)構(gòu),則可進(jìn)一步提高其增透性能。如中科院電工研究所孫秀菊、 李海玲研究的MgF2/ZnS結(jié)構(gòu)和S. E. Lee, S. W. Choi等人研究的MgF2/Ce02結(jié)構(gòu)等,不過它們 是作為圖1中的雙層增透膜(即AR膜)直接沉積在硅太陽電池基體表面,并不適合沉積在 光伏玻璃表面,因?yàn)閆nS和CeO2的折射率遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于玻璃的折射率。而作為太陽電池光入射 的第一層界面,光伏玻璃的光學(xué)性能將直接影響整個(gè)太陽電池光利用的程度。此外,盡管MgF2光學(xué)性能優(yōu)異,化學(xué)穩(wěn)定性好,但隨著工作時(shí)間的延長(zhǎng),MgF2薄膜 也逐漸顯露弊端,其膜層會(huì)開始出現(xiàn)裂紋甚至剝落現(xiàn)象,尤其是在某些惡劣或極端的服役 環(huán)境中,如應(yīng)用在航天器表面的太陽能電池,大量空間粒子以超高速不斷撞擊航天器表面 的同時(shí),也不斷在考驗(yàn)暴露在太陽電池表面的MgF2膜層的機(jī)械強(qiáng)度,部分MgF2膜層將會(huì)出 現(xiàn)剝蝕老化現(xiàn)象,光學(xué)性能嚴(yán)重衰減,從而影響器件的工作效率及壽命。這主要是因?yàn)镸gF2 膜層具有較高的張應(yīng)力,室溫下鍍制的MgF2膜層非常容易破裂,擦拭易掉膜,機(jī)械性能不 佳,不適合端面成膜,通??衫眉訜嵋r底的方法來適當(dāng)增強(qiáng)其牢固度。但實(shí)際上,這種做 法并沒有從根本上解決問題,且額外引入的烘烤裝置也提高了其制備成本。經(jīng)查閱相關(guān)技 術(shù)和文獻(xiàn),尚未見較好解決辦法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是,針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,提出一種用于玻璃表面 增透的MgF2/氧化物復(fù)合膜,它的整體透光性能優(yōu)于單層MgF2,引入的Al2O3或SiO2膜層能 很好改善MgF2膜層與基底玻璃之間的附著力,并起到膜層硬化效果,可提高整個(gè)膜系的抗 劃擦性,在保證膜系的光學(xué)性能和化學(xué)穩(wěn)定性的同時(shí),大大增強(qiáng)其機(jī)械性能,從而提高相關(guān)器件的工作效率和使用壽命。本發(fā)明的技術(shù)方案是,所述用于玻璃表面增透的MgF2/氧化物復(fù)合膜為以下兩種 結(jié)構(gòu)之一;(I)MgF2Al2O3 ;(2)MgF2/Si02 ; 上述結(jié)構(gòu)式中,MgF2、A1203、SiO2均表示膜層,“/”為兩層膜之間的界面。本發(fā)明為MgF2Al2O3或MgF2/Si02雙層增透復(fù)合膜(參見圖2),可以在玻璃表面先 沉積一層一定厚度的Al2O3薄膜或SiO2薄膜,然后再在Al2O3薄膜或SiO2薄膜上沉積一層 MgF2薄膜,其整體透光性能優(yōu)于單層MgF2,且引入的Al2O3和SiO2膜層能很好改善MgF2膜層 與基底玻璃之間的附著力,并起到膜層硬化效果,可提高整個(gè)膜系的抗劃擦性,在保證膜系 的光學(xué)性能和化學(xué)穩(wěn)定性的同時(shí),大大增強(qiáng)其機(jī)械性能,從而提高相關(guān)器件的工作效率和 使用壽命。膜的厚度可以是,所述MgF2膜層厚度為SOnm 150nm,所述Al2O3膜層厚度為 70nm lOOnm,所述SiO2膜層厚度為80nm llOnm。為了更好地了解相關(guān)膜系結(jié)構(gòu)的性能特點(diǎn),現(xiàn)將它們綜合比較如表1所示。表1相關(guān)膜系結(jié)構(gòu)的綜合比較
本發(fā)明的關(guān)鍵技術(shù)是改變傳統(tǒng)單層MgF2增透膜的體系結(jié)構(gòu),在MgF2膜層與玻璃基 底之間插入一層Al2O3或SiO2緩沖層,其目的是在提高膜系增透效果的前提下,利用Al2O3和 SiO2層與玻璃表面良好的浸潤(rùn)性,增強(qiáng)膜層與基底之間的附著力,改善MgF2膜層的牢固度, 同時(shí)發(fā)揮Al2O3和SiO2鍍層質(zhì)地堅(jiān)硬的性能優(yōu)勢(shì),提高整個(gè)膜系的抗劃擦性,增強(qiáng)其機(jī)械性 能,滿足惡劣工作環(huán)境下器件對(duì)光伏玻璃表面增透膜的綜合性能要求。
本發(fā)明的主要優(yōu)點(diǎn)有(a) MgF2Al2O3和MgF2/Si02復(fù)合膜由于采用了雙層增透體系,其透光性能可以在 單層MgF2高透過率的基礎(chǔ)上進(jìn)一步提高,具體表現(xiàn)在透光波段的增寬和透射極值的增大兩 方面,可提高器件的工作效率;(b)從化學(xué)鍵類型來看,Al2O3和玻璃都屬于共價(jià)-離子混合型化學(xué)鍵,兩者表面化 學(xué)親和力較好;而SiO2本身就與玻璃同質(zhì),浸潤(rùn)性佳。所以鍍膜時(shí),沉積在玻璃表面的Al2O3 和SiO2與玻璃間會(huì)發(fā)生結(jié)構(gòu)的逐步改變,形成過渡層結(jié)構(gòu),增強(qiáng)結(jié)合強(qiáng)度。因此采用中間 層Al2O3和SiO2可提高膜層與玻璃基底之間的附著力,無需加熱襯底; (c)因?yàn)橐r底不需要加熱,電子束蒸鍍得到的MgF2、Al2O3和SiO2膜層均為非晶結(jié) 構(gòu),不會(huì)損傷其光學(xué)性能,同時(shí)其結(jié)構(gòu)與基底玻璃的結(jié)構(gòu)類型一致,界面無晶格錯(cuò)配,可減 小界面微觀內(nèi)應(yīng)力,提高薄膜的穩(wěn)定性;(Cl)Al2O3和SiO2因結(jié)構(gòu)致密穩(wěn)定,質(zhì)地堅(jiān)硬耐磨,常用來作為表面硬化、鈍化涂 層。因此,它們的引入一方面可以降低膜層在惡劣條件下(如日益嚴(yán)重的沙塵暴、頻繁撞擊 的空間粒子流等)的磨損程度,積極改善其剝蝕老化的問題,延長(zhǎng)其工作壽命;另一方面, 它們可鈍化基底表面,避免玻璃基底中的金屬雜質(zhì)在極端條件下擴(kuò)散進(jìn)入表面光學(xué)薄膜內(nèi) 部造成光學(xué)吸收嚴(yán)重的現(xiàn)象,提高膜系的光學(xué)穩(wěn)定性;(e)由于采用的是復(fù)合結(jié)構(gòu),即便表層MgF2薄膜發(fā)生部分剝落,中間層Al2O3和 SiO2仍可繼續(xù)發(fā)揮增透、硬化作用,可最大限度降低薄膜光學(xué)性能衰減造成的損失;(f)整個(gè)復(fù)合膜層的鍍制采用成熟的真空蒸鍍技術(shù),工藝簡(jiǎn)單,成本經(jīng)濟(jì),且由于 低能離子束清洗方法的引用,鍍制過程中襯底無需額外加熱,擴(kuò)展了基底材料的選擇范圍, 除玻璃基底外,該膜層結(jié)構(gòu)還可應(yīng)用在半導(dǎo)體硅、透明塑料等基底材料表面。


圖1是太陽電池光學(xué)薄膜結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是MgF2Al2O3和MgF2/Si02雙層增透復(fù)合膜結(jié)構(gòu)示意圖;圖3是本發(fā)明的通用工藝路線;圖4是載玻片鍍MgF2Al2O3雙層增透復(fù)合膜前、后的透射光譜曲線比較;圖5是光伏玻璃鍍MgF2Al2O3雙層增透復(fù)合膜前、后的透射光譜曲線比較;圖6是載玻片鍍MgF2/Si02雙層增透復(fù)合膜前、后的透射光譜曲線比較;圖7是光伏玻璃鍍MgF2/Si02雙層增透復(fù)合膜前、后的透射光譜曲線比較。
具體實(shí)施例方式產(chǎn)品用途MgF2/Al203和MgF2/Si02雙層增透復(fù)合膜可適用于光學(xué)器件或光伏器件 的玻璃表面,特別是服役條件較惡劣的場(chǎng)合,如空間太陽能電池光伏玻璃表面或沙礫物質(zhì) 劃擦較頻繁的環(huán)境中,主要起光學(xué)增透和硬化作用;此外,它也可應(yīng)用在半導(dǎo)體器件如硅表 面,主要起光學(xué)增透和表面鈍化作用。設(shè)備和工藝路線所用設(shè)備為真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備(包括電子束蒸發(fā)和電阻熱蒸 發(fā));通用工藝路線如圖3所示。實(shí)施例1 玻璃襯底上制備MgF2Al2O3雙層增透復(fù)合膜
采用電子束真空蒸發(fā)鍍膜工藝在載玻片和光伏玻璃表面沉積MgF2Al2O3雙層增透 復(fù)合膜,測(cè)試其主要結(jié)構(gòu)和性能如下(1)膜層表面平整光亮,膜層總厚度約ISOnm ;(2)鍍膜后,載玻片的透過率最高值由90.8%提高至95.3%,350歷-1000歷平均反射率由10. 53%降低至7. 64%,透射光譜曲線如圖4所示;光伏玻璃的透過率最高值由 92. 4%提高至95. 5 %,350nm-1000nm平均反射率由9. 14%降低至6. 51 %,透射光譜曲線如 圖5所示;(3)膜系整體抗冷熱沖擊性能優(yōu)良,能經(jīng)受0°C 100°C熱循環(huán)試驗(yàn)20次以上,未 出現(xiàn)任何裂紋和膜層剝落現(xiàn)象,膜層與基底結(jié)合牢固;(4)用脫脂棉連續(xù)劃擦膜層表面1200次,未發(fā)生膜層剝落現(xiàn)象,表面依然平整光 亮透明。實(shí)施例2 玻璃襯底上制備MgF2/Si02雙層增透復(fù)合膜采用電子束真空蒸發(fā)鍍膜工藝在載玻片和光伏玻璃表面沉積MgF2/Si02雙層增透 復(fù)合膜,測(cè)試其主要結(jié)構(gòu)和性能如下(1)膜層表面平整光亮,膜層總厚度約200nm ;(2)鍍膜后,載玻片的透過率最高值由90. 8%提高至94. 1 %,350nm-1000nm平均 反射率由10. 53%降低至7. 21%,透射光譜曲線如圖6所示;光伏玻璃的透過率最高值由 92. 4%提高至96. 6 %,350nm-1000nm平均反射率由9. 14%降低至6. 02 %,透射光譜曲線如 圖7所示;(3)膜系整體抗冷熱沖擊性能優(yōu)良,能經(jīng)受0°C 100°C熱循環(huán)試驗(yàn)20次以上,未 出現(xiàn)任何裂紋和膜層剝落現(xiàn)象,膜層與基底結(jié)合牢固;(4)用脫脂棉連續(xù)劃擦膜層表面1200次,未發(fā)生膜層剝落現(xiàn)象,表面依然平整光 亮透明。
權(quán)利要求
一種用于玻璃表面增透的MgF2/氧化物復(fù)合膜,其特征是,它為以下兩種結(jié)構(gòu)之一;(1)MgF2/Al2O3;(2)MgF2/SiO2;上述結(jié)構(gòu)式中,MgF2、Al2O3、SiO2均表示膜層,“/”為兩層膜之間的界面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述用于玻璃表面增透的MgF2/氧化物復(fù)合膜,其特征是,所述MgF2 膜層厚度為80nm 150nm,所述Al2O3膜層厚度為70nm lOOnm,所述SiO2膜層厚度為 80nm IlOnm0
全文摘要
一種用于玻璃表面增透的MgF2/氧化物復(fù)合膜,為MgF2/Al2O3或MgF2/SiO2雙層膜結(jié)構(gòu);它在MgF2膜層與玻璃基底之間插入一層Al2O3或SiO2緩沖層,可在提高膜系增透效果的前提下,利用Al2O3和SiO2層與玻璃表面良好的浸潤(rùn)性,增強(qiáng)膜層與基底之間的附著力,改善MgF2膜層的牢固度,同時(shí)發(fā)揮Al2O3和SiO2鍍層質(zhì)地堅(jiān)硬的性能優(yōu)勢(shì),提高整個(gè)膜系的抗劃擦性,增強(qiáng)其機(jī)械性能,滿足惡劣工作環(huán)境下器件對(duì)光伏玻璃表面增透膜的綜合性能要求。
文檔編號(hào)C23C14/10GK101846756SQ20101018331
公開日2010年9月29日 申請(qǐng)日期2010年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月26日
發(fā)明者周靈平, 彭坤, 朱家俊, 羅小蘭 申請(qǐng)人:湖南大學(xué)
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